光刻机专利保护多少年　　光刻机是半导体制造工艺中必不可少的设备之一。它用于将光敏材料上的图案转移到硅片上，为IC芯片的制造提供精确而高效的加工方式。然而，这种技术的发明与创新并不容易，因此光刻机专利保