KR102520380B1
有效
一种用于光刻曝光设备的反射镜阵列和包括该反射镜阵列的光学系统
一种用于光刻曝光设备(WSC)的反射镜装置(1)包括多个反射镜元件(2a,2b),这些反射镜元件(2a,2b)相邻地布置并且一起形成反射镜装置(1)的镜面(3)。 每个反射镜元件2a、2b包括衬底4a、4b和衬底4a、4b上的多层布置5a、5b。 多层布置5a、5b包括反射层系统6a、6b,其具有形成反射镜表面3的一部分的辐射入射表面7a、7b,以及基板4a,其具有辐射入射表面7a、7b、4b),压电层8a、8b被布置它们之间。 每个反射镜元件2a、2b包括与压电层8a、8b相关联的用于产生电场的电极布置9a、9b、9c,并且压电层8a、8b的层厚度(tp)可由电场控制. 提供互连装置(10),其电互连相邻电极装置(9a、9b、9c)的相邻第一和第二电极(9a、9b)。 根据一种配置,互连装置10在第一和第二电极9a、9b之间的间隙区域11中产生互连电场,第一电极9a处的互连电场。在第一电场之间发生连续转变,第二电极9b处的第二电场。 根据另一配置,第一和第二电极9a、9b之间的间隙区域11中的互连装置10的电阻Ri大于压电层8a的电阻Rw且小于压电层8a的电阻Rl,并且相邻电极阵列9a、9b和9c中的8b具有第一和第二电极9a和9b。
More
Images(6)
| 专利时间轴 | |
|
|
| 专利类型/受理局 | PATENT( KR) |
| [标]当前申请（专利权）人 | 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하 |
| 当前申请（专利权）人 |
칼 짜이스 에스엠테 게엠베하 독일 73447 오버코헨 루돌프-에버-쉬트라쎄 2 |
| [标]原始申请（专利权）人 | CARL ZEISS SMT GMBH,칼 짜이스 에스엠테 게엠베하 |
| 原始申请（专利权）人 | CARL ZEISS SMT GMBH,칼 짜이스 에스엠테 게엠베하 Rudolf-Eber-Strasse *, ***** Oberkochen, Germany,Rudolf-Eber-Strasse *, ***** Oberkochen, Germany |
| IPC分类号 |
IPC(8):
G03F7/20G21K1/06
+2
|
| 技术主题分类 | |
| 应用领域分类 | |
| 发明人 |
하크포트 바우터 베르나두스 요하네스 (네덜란드 7521 에이치엑스 엔스헤데 올리에슬라그벡 3) 호거포르스트 리차드 페트루스 (네덜란드 7511 엘엠 엔스헤데 티호프브루크 16) 루트거스 페트루스 테오도루스 (네덜란드 7556 비더블유 헹겔로 베스터마츠벡 11) 힐트 커스틴 (독일 73529 슈바비쉬 그뮌트 비르카흐슈트라쎄 5) 그루너 토랄프 (독일 73433 아알렌 오팔슈트라쎄 22) |
