技术领域 [0001] 本发明涉及一种真空泵,用作半导体制造设备、平板显示器制造设备、太阳能电池板制造设备中工艺室和其他真空室的排气装置,特别是真空泵中的气体。在不损害分子抽真空性能的情况下,防止颗粒(粒子)从真空泵回流到腔室中,适用于防止回流颗粒对腔室的污染。 背景技术 [0002] 涡轮分子泵和螺旋槽泵等真空泵经常用于需要高真空度的真空室抽真空。 图18是使用以往的真空泵作为真空室内的排气装置的排气系统的概略图,图19(a)是图18所示的以往的真空泵中的最上部的排气段。(b) )是图19(a)所示的旋转叶片的上表面侧(进气口侧)的叶片边缘部分的放大图。 [0003] 构成图18的排气系统的传统真空泵Z具有多个排气级PT,用作用于排出进气口2和排气口3之间的气体分子的装置。 [0004] 以往的真空泵Z中的各排气级PT通过对各排气级PT以规定间隔呈放射状配置的多个旋转叶片7和固定叶片8吹出气体分子,具有排气结构。 [0005] 在如上所述的气体分子排出结构中,旋转叶片7一体地形成在转子6的外周面上,该转子6由诸如磁性轴承的轴承装置可旋转地支撑,并且转子6与转子6一起高速旋转。 另一方面,固定刃8固定于外装壳体1的内表面(例如,参照专利文献1)。 [0006] 另外,在图18的排气系统中,在真空腔室CH内进行CVD等化学处理,由此产生的粒子状的处理副产物在真空腔室CH内漂浮扩散,假设由于自重或气体分子的传递作用,落向真空泵Z的进气口2。 另外,附着堆积在真空容器CH的内壁面上的堆积物和附着堆积在调压阀BL上的堆积物也通过振动等剥离,真空泵Z的吸入口2是由它自身的重量引起的。 ) 被假定为落向。 [0007] 然后,如图19(a)所示,通过上述落下到达入口2的粒子进一步从入口2落下并进入最上部排气级PT(PT1)。 当入射粒子Pa与高速旋转的排气端PT(PT1)的旋转叶片7碰撞时,碰撞粒子如图19(b)所示旋转,与位于的叶片边缘部EG碰撞而反弹。在叶片7的上端面侧,向吸气口2的方向弹起并回流,真空槽CH内有可能被这些回流粒子污染。 [0008] 作为防止上述回流粒子污染真空室CH的手段,在以往的真空泵Z中,构成最上部排气级PT(PT1)的旋转叶片7的具体结构作为一个例子,旋转叶片采用图19(b)所示的7。 [0009] 在图19(b)所示的旋转叶片7中,如上所述,作为减少逆流的粒子比例的手段,在叶片边缘部EG上设置了机械加工倒角部MS(例如,参照专利文献1). [0010] 顺便提及,参考专利文献1的0026至0027段的描述,在旋转叶片7的叶片边缘部分EG附近粒子能够碰撞的区域极小(0.3mm或更小)。 碰撞可能区域最大与实际上可以通过机械加工(大量生产)生产的边缘倒角相同大小。 [0011] 在专利文献1所记载的以往的真空泵中,如上所述,为了将倒角的切削范围限制在极小的可能碰撞区域,降低粒子向吸气口侧反射的概率,倒角面为形成旋转体(形成为与4的轴向平行)(参照本申请的图19(b))或向下(参照本申请的图20),是气体分子排气方向。 [0012] 然而,由于倒角MS在加工过程中出现的加工刃变钝以及为提高旋转刀片7表面的耐腐蚀性而进行的电镀,使得倒角MS的上部MC呈凸弧形。表面。这是不可避免的 落在这样的凸圆弧面上的粒子因与凸圆弧面的碰撞而弹开,向吸气口2弹起,向真空室CH的方向逆流,与专利中记载的以往的真空泵相同。文献1,叶片根据在边缘部分EG上设置倒角部分MS的配置,不能有效地防止颗粒从真空泵Z向真空腔室CH回流,以及颗粒的回流。颗粒导致真空室 CH 不足以防止内部污染。 [0013] 特别是,参照专利文献1的图1~图3,如上所述,倒角部的倒角面28a形成为相对于旋转体4的轴向平行或向下(分子排出方向) , 粒子进入斜面 28a 后, 沿水平方向或稍微向下游反射。 在这种情况下,由于下游方向的颗粒速度较小,反射后,正向旋转叶片的背面(图斜率。下同),存在反射回来的风险朝向进气口。 [0014] 但是,作为如上所述的用于降低逆流的粒子的比例的构造,构成最上排气级PT(PT1)的旋转叶片7的布置间隔作为整体加宽的构造,或者使排气级的圆周速度加宽的构造。 rotating blades 7 [0040] 尽管降低了的构造,但是根据这些构造,出现的问题在于在所有这些构造中真空泵Z的气体分子排气性能都被削弱。 [0015] 此外,作为如上所述用于降低粒子回流率的具体构造,如图20所示,可以考虑上述倒角MS通过机械加工朝向分子排出方向向下倾斜的构造。是。 但是,根据该结构,由于旋转刀7的上端7A的表面与倒角部MS的表面(倒角面)所成的角度为锐角,因此容易产生因机械加工而产生的毛边,加工成本增加,而且,由于加工过程中加工边缘变钝,并且由于上述电镀导致凸圆弧表面的曲率增加,因此造成不利影响,例如逆流颗粒的比例增加。 现有技术文献 [0016] 日本专利第 5463037 号 要解决的挑战 [0017] 本发明是为解决上述问题而作出的,其目的在于在不损害真空泵的气体分子排气性能的情况下,有效地防止颗粒从真空泵回流到真空室,从而引起颗粒回流. 本发明提供一种真空泵及其中使用的包括叶片的部件,以及适用于防止真空室污染的转子和固定叶片。 解决问题的手段 [0018] 为了实现上述目的,本发明(1)具有多个排气级,该多个排气级用作在进气口和排气口之间排出气体分子的装置,并且多个排气级对于每个排气级呈放射状。一种真空泵,具有通过多个以预定间隔排列的旋转叶片和固定叶片对气体分子进行排气的结构,其中,气体分子位于多个排气端中最上端的排气端与进气口之间。颗粒输送级,用于沿排气方向输送颗粒,与构成最上级排气级的旋转叶片一起旋转,其数量也少于构成最上级排气级的多个旋转叶片的数量。其特征在于通过有刀片。 [0019]或者,作为排气级的一部分,其特征在于,在最上部的排气级配置有在气体分子的排气方向上输送粒子的粒子输送级。 [0020] 在本发明(1)中,构成粒子输送段的叶片也可以与构成最上段的排气段的多个旋转叶片相邻设置。 [0021] 在本发明(1)中,其特征在于,构成最上段排气级的多个旋转叶片中的至少1个的全部或一部分与构成粒子输送级的叶片一体化。 [0022] 在本发明(1)中,在构成最上排气段的多个旋转叶片中,与构成颗粒输送段的叶片相邻的旋转叶片的高度为 构成最上排气端的多个旋转叶片通过延长叶片可以为阶梯式结构,其上游端的高度整体不同。 [0023] 在本发明(1)中,在构成最上段排气级的多个旋转叶片中,其上游端被阶梯结构抬高的旋转叶片,以及位于旋转叶片旋转方向前方的旋转叶片。叶片的间隔可以设置得比多个其他旋转叶片的布置间隔宽。 [0024] 在本发明(1)中,构成最上段排气级的多个旋转叶片中的旋转叶片的下游端位于通过阶梯构造而上游端上升的旋转叶片的旋转方向前方。其特征在于,它比其他多个旋转叶片的下游端更靠近进气口方向。 [0025] 在本发明(1)中,构成最上段排气级的多个旋转叶片中,上游端被阶梯结构抬高的旋转叶片的下游端在其他多个旋转叶片的下游。它延伸到比一步还长。 [0026] 在本发明(1)中,其特征在于,台阶结构的台阶的高度阶梯状变化。 [0027] 在本发明(1)中,其特征在于,台阶结构的台阶的高度变化成锥状。 [0028] 在本发明(1)中,其特征在于,构成粒子输送级的叶片与构成最上位的排气级的多个旋转叶片中的至少1个的叶片的全部或一部分分离,作为部件安装。 [0029] 在本发明(1)中,构成粒子输送级的叶片的仰角可以设定得小于构成最上层排气级的多个旋转叶片的仰角。 [0030] 在本发明(1)中,构成粒子输送台的叶片也可以设置在远离构成最上段排气台的多个旋转叶片的位置。 [0031] 本发明(2)是用于本发明(1)的真空泵的叶片部件,包括构成粒子输送台的叶片。 [0032] 本发明(3)在吸气口和排气口之间具有作为排气单元发挥作用的多个排气级,多个排气级以规定的间隔放射状地配置于各排气级。由真空泵的旋转叶片和固定叶片排出气体分子的结构,通过降低构成最上排气端的多个旋转叶片的上游端的至少一部分的高度,其特征在于,具有高低不一的阶梯式结构,是在气体分子的排气方向上传递粒子的粒子传递台。 [0033] 在本发明(3)中,其特征在于,台阶结构的台阶的高度阶梯状变化。 [0034] 在本发明(3)中,其特征在于,台阶结构的台阶的高度变化为锥状。 [0035] 本发明(4)是具备本发明(1)或本发明(3)的真空泵中使用的叶片的转子,构成粒子输送台。 [0036] 在本发明(1)或本发明(3)中,反射器固定在最上排气端的上游,以与构成最上排气端的多个旋转叶片相反的角度倾斜。刀刃。 [0037] 本发明(5)用于本发明(1)或本发明(3)的真空泵中,在最上层排气级的上游用作反射装置,构成最上层排气级。刀片,其特征在于它是与多个转动刀片成相反角度倾斜的固定刀片。 发明效果 [0038] 在本发明中,如上所述,作为向气体分子的排气方向输送粒子的粒子输送台,构成最上级排气级的旋转叶片与构成最上级排气级的旋转叶片一起旋转。采用比叶片数量多或叶片与构成最上部排气级的旋转叶片一体安装的叶片的结构,不损害真空泵的气体分子排气性能,并且真空泵中的颗粒回流到真空室中可以有效地防止,并且可以提供一种适用于防止由于颗粒回流而造成真空室污染的真空泵,以及用于该真空泵的叶片部件和转子。 [0039] 另外,即使颗粒输送级具有与排气级分开设置的结构或与排气级一体的结构,与原来的排气级结构相比也可以提高排气性能。 [0040] 原因与以下<原因1>和<原因2>相同。 [0041] 《理由一》 [0042] 在本发明中,粒子转移级是用于有效地排出从进气口落下的粒子的装置,例如,通过加宽构成最上部排气级的旋转叶片的排列间隔,排气级的分子排气没有需要进行降低性能的设计更改,而设计的多个排气级可以有效地排出气体分子,以满足适合排出气体分子的条件。 [0043] 《理由2》 [0044]在本发明中,构成颗粒转移级的叶片数量少于构成最上层排气级的旋转叶片数量,因此构成颗粒输送级的叶片的排列间隔小于构成颗粒输送级的旋转叶片的排列间隔。最上面的排气阶段。它设置得比放置间隔宽。 因此,粒子输送阶段的粒子碰撞区域(=叶片排列间隔×粒子的下落速度/叶片转速)和顶部排气阶段的粒子碰撞区域(=叶片旋转速度)的排列间隔×粒子下落速度/旋转叶片转速),粒子在电子中可以碰撞的面积较大,即粒子在粒子转移阶段可以碰撞的区域,所以粒子转移阶段和排气阶段在相比较而言,粒子输运级与叶片碰撞后向排气方向(具体为排气级方向)反射的粒子比例高,即粒子向排气方向反射的比例高,碰撞随叶片方向弹跳的颗粒,即逆流颗粒的比例降低。 原因简而言之,当粒子可以碰撞的区域变宽时,粒子碰撞在旋转叶片或叶片中向分子排气方向倾斜的斜坡并且气体分子被反射到排气方向的概率是高,颗粒向进气口回流的概率高,这是因为它优于与(具体地,上述倒角表面和位于倒角部分上方的凸圆弧表面)碰撞的概率。 附图简要说明 [0045] 图1是应用了本发明的真空泵的剖视图图2(a)是从正面观察图1的真空泵中的粒子输送台的状态的说明图。转子的外周面侧,(b)是))的说明图,(c)是图B的立体图。 图4是真空泵的落下粒子的可能碰撞区域的说明图图1(对应于本发明的真空泵)具有粒子输送台 图5(a)、(b)、(c)、(d)、(e)是另一实施例1的说明图。图6是粒子输送台的另一实施例2的说明图图8是实施例4的另一粒子输送台的说明图图9(a)、(b) (c)是实施方式5的粒子输送台的另一实施方式的说明图图10是粒子输送台的另一实施方式6的说明图图11是粒子输送台的另一实施方式7的说明图。图12是图11的C立体图图14是粒子输送台的另一实施方式10的说明图图15是粒子输送台的另一实施方式11-1的说明图图16是图11-2是粒子转移台的另一实施例的说明图 图17是粒子转移台附近的本发明的另一实施例的说明图 图18是采用排气系统的示意图作为真空腔室的排气装置的传统真空泵。)是从图18中的箭头D方向观察图18所示的传统真空泵的最上排气端的状态的示意图。图20是倒角通过机械加工朝向分子排出方向向下倾斜的状态的说明图。 实施发明的具体细节 [0046] 具体实施方式以下,参照附图详细说明用于实施本发明的最佳方式。 在本实施方式中,作为真空泵的一例,使用具有由多个排气级构成的涡轮分子泵部和作为排气机构的螺旋槽排气级的所谓复合叶片式涡轮分子泵。用于描述。 另外,本实施方式也可以适用于仅具有涡轮分子泵单元的泵。 [0047] 附图说明图1是应用了本发明的真空泵的剖视图。 [0048] 参见图1,该图中的真空泵P1包括单面管状的外壳1、设置在外壳1内的转子6、可转动地支撑转子6的支架、转动装置和驱动装置。驱动转子 6. [0049] 外壳1具有筒状的泵壳1A和筒状的泵座1B,在圆筒的轴线方向上用紧固螺栓一体地连结,由筒状的泵壳1A构成。上端侧作为吸气用的吸气口2开口。在泵座1B的下端侧面设有用于将气体排出外壳1外的排气口3。 [0050] 吸气口2经由调压阀BL(参照图18)与半导体制造装置的处理室等成为高真空的真空室CH(参照图18)连接。 排气口3与未图示的辅助泵连通。 [0051] 在泵壳1A的中心,安装有包含各种电气元件的圆柱形定子柱4。 在图1的真空泵P1中,定子柱4与泵座1B分开形成,并用螺钉固定在泵座1B的内底部以固定定子柱4。虽然它直立安装在泵座1B上。泵座1B,作为与此不同的一个实施例,该定子柱4可以一体竖立安装在泵座1B的内底面上。 [0052] 在定子柱4的外侧安装有前述的转子6。 转子6被包围在泵壳1A和泵座1B内,呈包围定子柱4的外周的圆筒状。 [0053] 转子轴5安装在定子柱4内。 转子轴5配置为上端朝向吸入口2的方向,下端朝向泵座1B的方向。 此外,转子轴5由磁力轴承(具体地,两组公知的径向磁力轴承MB1和一组轴向磁力轴承MB2)可旋转地支撑。 进一步地,驱动电机MO安装在定子柱4内部,并且转子轴5被驱动电机MO绕其轴心旋转驱动。 [0054] 转子轴5的上端从定子柱4的圆筒形上表面向上突出,转子6的上端通过螺栓等紧固方式与转子轴5的突出上端结合为一体。固定在 因此,转子6经由转子轴5由磁力轴承(径向磁力轴承MB1和轴向磁力轴承MB2)可旋转地支撑,并且在该支撑状态下,当驱动电机MO启动时,转子6可以绕着转子6旋转。转子轴心与转子轴5一体成型。 简而言之,在图1的真空泵P1中,转子轴5和磁性轴承作为可旋转地支撑转子6的支撑装置,驱动马达MO驱动转子6。它作为驱动装置来驱动转子6。回转。 [0055] 并且图1的真空泵P1在进气口2和排气口3之间设有多个排气级PT,作为排气装置发挥气体分子的排气功能。 [0056] 另外,在图1的真空泵P1中,在多个排气级PT的下游侧,具体而言,从多个排气级PT中最下位的排气级PT(PTn)到排气口3之间,设置有螺旋槽泵。提供阶段PS。 [0057] 另外,在图1的真空泵P1中,从多个排气级PT的最上部、具体而言是多个排气级PT中的最上部的排气级PT(PT1)的吸气口2。在级之间提供用于在气体分子的排气方向上传送粒子的级PN。 最上段的排气段PT(PT1)和粒子输送段PN也可以是一体设置的结构。 [0058] 《排气端详解》 [0059] 在图1的真空泵P1中,转子6的大致中央上游侧的部分作为多个排气级PT发挥功能。 以下,对多个排气级PT进行详细说明。 [0060]在转子6的大致中部上游的转子6的外周面上,设置有多个与转子6一体旋转的旋转叶片7,这些旋转叶片7分别具有排气端PT(PT1, PT2,...PTn),转子6的旋转中心轴线(具体为转子轴线5的轴线)或壳体1的轴线(以下简称“真空泵轴线”)它们布置在预定位置以相对于中心的径向方式间隔。 [0061] 另一方面,在泵壳1A的内周侧设有多个固定叶片8,这些固定叶片8也与旋转叶片7、排气端子PT(PT1、PT2、...)相同。对于每个PTn)),它们以真空泵轴心为中心以预定间隔呈放射状排列。 [0062] 即,图1的真空泵P1的各排气级PT(PT1、PT2、...PTn)在吸气口2与排气口3之间多级设置,排气级(各PT( PT1、PT2、……PTn)具有以规定间隔呈放射状排列的多个旋转叶片7和固定叶片8,气体分子由此排出的结构。 [0063] 每个旋转刀片7是通过切割并一体切割转子6的外径而形成的刀片状切割产品,并且以最适合排出气体分子的角度倾斜。 任何固定叶片8也以最适合排出气体分子的角度倾斜。 [0064] 《多段排气操作说明》 [0065] 在具有上述构造的多个排气级PT中,最上部的排气级PT(PT1)由驱动马达MO驱动以与转子轴5和转子6一体。旋转叶片7高速旋转,并且旋转叶片7的旋转方向的前表面也因进气口2的倾斜面而向下方(从进气口2朝向排气口3的方向,以下简称为向下)移动。赋予向下方向的动量,气体分子的切线方向入射自 . 具有该向下动量的气体分子被设置在固定叶片8上的旋转叶片7和与旋转方向相反的向下倾斜面输送到下一个排气端PT(PT2)。 此外,在下一个排气端PT(PT2)和随后的排气端PT,旋转叶片7以与最上排气端PT(PT1)相同的方式旋转,并且与上述旋转相同。通过叶片7排出气体分子和通过固定叶片8排出气体分子,进气口2附近的气体分子依次被引导到转子6的下游。排出以实现 [0066] 《螺槽泵级详解》 [0067] 在图1的真空泵P1中,在转子6的大致中央的下游侧构成为作为螺旋槽泵级PS发挥功能。 以下,对螺旋槽泵级PS进行详细说明。 [0068] 螺旋槽泵级PS在转子6的外周侧(具体而言,转子6的比转子6的大致中央靠下游侧的部分的外周侧)形成螺旋槽排气通路R。为此,设置螺纹槽排气定子9,该螺纹槽排气定子9作为固定部件安装于外装壳体1的内周侧。 [0069] 螺旋槽排气部定子9是以内周面与转子6的外周面相对的方式配置的圆筒状的固定部件,配置成从转子6的大致中央向下游包围转子6的部分。转子 6. 有。 [0070] 并且,转子6的转子6的大致中央的下游部分是作为螺旋槽排气单元PS的旋转部件旋转的部分,隔开规定间隙而位于螺旋槽排气单元定子9的内侧。通过 插入和容纳。 [0071] 在螺纹槽排气定子9的内周形成有螺纹槽91,螺纹槽91的深度向下方变化,呈直径较小的圆锥状。 该螺纹槽91从螺纹槽排气定子9的上端到下端呈螺旋状刻出​​。 [0072] 如上所述,在具有螺纹槽91的螺纹槽排气定子9中,在转子6的外周侧形成有用于排气的螺纹槽排气通路R。 另外,虽然未图示,但也可以在转子6的外周面形成上述的螺纹槽91,从而设置上述的螺纹槽排气通路R。 [0073] 在螺杆槽排气单元PS中,气体在螺杆槽91和转子6的外周面的阻力作用下一边被压缩一边输送,因此螺杆槽91的深度为螺杆槽排气通道( R) 的上游入口侧(接近进气口 2 的通道开口端)最深,下游出口侧(靠近排气口 3 的通道开口端)最浅。 [0074] 螺旋槽排气通路R的入口(上游开口端)由构成最低排气端PTn的固定叶片8E与螺旋槽排气定子9之间的间隙(以下称为“最终间隙GE”)形成。) ”),同一螺杆槽排气流路R的出口(下游开口端)通过泵排气口侧流路S与排气口3连通。 [0075] 泵内排气口侧的流路S在转子6或螺槽排气定子9的下端与泵座1B的内底面之间具有规定的间隙(图1中的真空泵P1) .1、绕定子柱4)下部外周的间隙,从螺纹槽排气通路R的出口到达排气口3。 [0076] 《螺纹槽排气段排气操作说明》 [0077] 通过上述多个排气级PT的排气动作输送而到达上述最终间隙GE的气体分子向螺旋槽排气通路R移动。 迁移的气体分子在由转子6的旋转产生的阻力作用下从过渡流被压缩成粘性流的同时向泵内的排气口侧流路S移动。 然后,到达泵的排气口侧的流路S的气体分子流入排气口3,通过辅助泵(未图示)从外装壳体1排出。 [0078] 《粒子转移阶段详解》 [0079] 图2(a)是从转子外周侧观察图1的真空泵的粒子输送段的说明图;c)是该图(a)的B立体图。 [0080] 参见图2(a),图1的真空泵P1中的粒子输送级PN与构成最上部排气级PT(PT1)的旋转叶片7一起旋转,此外,其结构具有叶片NB的数量小于构成最上排气级PT(PT1)的旋转叶片7的数量。 [0081] 如上所述,由于构成颗粒输送级PN的旋转叶片7的数量少于构成最上排气级PT(PT1)的旋转叶片7的数量,因此颗粒输送级(旋转叶片7的排列间隔L2构成PN的叶片7的配置间隔L1设定得比构成最上排气端PT(PT1)的旋转叶片7的配置间隔L1宽(L1[0082] 在图1的真空泵P1中,作为构成粒子输送级PN的叶片NB的具体结构,与构成该结构的旋转叶片7相邻地设置最上部的排气级PT(PT1))的叶片NB。 [0083] 通过采用如上所述的邻接构造,在图1的真空泵P1中,与叶片NB邻接的旋转叶片7(71、74)的高度因构成粒子输送台PN的叶片NB而变长,因此,最上排气级PT(PT1) 构成)的多个旋转叶片7具有台阶结构,其中上游端7A的高度整体上不同。 [0084]作为上述邻接的具体结构的一个例子,在图1的真空泵P1中,如图2所示( a) 被采用。正在做 [0085] 即,在图1的真空泵P1中,如图2(a)所示,构成最上段排气级PT(PT1)的多个旋转叶片7、7…中的至少一个。阶段PN构成为所有旋转刀片7(71、74)(具体地,旋转刀片7的所有直径(D)方向和厚度(T)方向)刀片NB一体安装的结构(以下简称“叶片整体结构”)。 [0086] 在图2(a)的例子中,上述叶片一体结构采用了位于两个旋转叶片72、73两侧的两个旋转叶片71、74的上游端7A)高于公开了其它旋转叶片72、73、75的上游端7A,但不限于此。 位于上游端7A的高旋转叶片71和74之间的旋转叶片72和73的数量可以根据需要适当增加或减少。 [0087] 《粒子转移阶段操作说明》 [0088] 参考图18,在真空室(CH)中化学过程产生的呈颗粒形式的过程副产物在真空室(CH)中漂浮和扩散,并且由于它们自身的重量或气体分子。假设它落向真空泵 P1 的进气口 2。 另外,附着在真空容器CH的内壁面上的沉积物和附着在压力调节阀BL上的沉积物通过振动等剥离,并通过它们的作用被导向真空泵P1的吸入口2。自重。假设是坠落。 [0089] 参照图2(a),通过上述落下而到达进气口2的粒子Pa进一步从进气口2落下并首次进入粒子输送端PN。 于是,入射的粒子Pa与构成粒子输送台PN的叶片NB碰撞。 [0090] 此时,在粒子移动阶段PN中,与叶片NB碰撞的多个粒子中,由于叶片NB的旋转而位于行进方向前侧的叶片NB的倾斜FS(以下称为由于“与叶片NB的前斜面FS碰撞而在气体分子排气方向上反射的粒子(以下称为“排气方向反射粒子”)的比例增加,并且反弹粒子的比例(以下称为“逆流粒子”)减少。 原因与下面的<评论1>和<评论2>相同。 [0091] 《评论1》 [0092] 在该考虑1中,研究了构成粒子输送台PN的叶片NB与构成最上部排气台PT(PT1)的旋转叶片7相邻设置的结构例。 [0093] 在图1的真空泵P1(对应于以往的真空泵)中省略了粒子输送级PN的情况下,最上部的排气级PT(PT1)的粒子碰撞可能区域Z1(参照图2(a))基于以下公式(1)指定。 [0094] 另一方面,在具有如图1的真空泵P1那样的粒子输送台PN(相当于本发明的真空泵)的情况下,粒子输送台PN(2)中的粒子碰撞可能区域Z2 (a))基于以下等式(2)指定。 [0095] Z1=L1×Vp/Vr…… 等式(1) [0096] Z2=L2×Vp/Vr…… 等式(2) [0097] L1:旋转叶片间距 (7) [0098] L2:叶片排列间距(NB) [0099] Vp:粒子下落速度(Pa) [0100] Vr:旋转叶片(7)和叶片(NB)的转速(主转速) [0101] 在图1的真空泵P1中,如上所述,构成粒子输送级PN的叶片NB的数量比构成最上层的排气级PT1的旋转叶片7的数量少。因此,配置间隔L2构成粒子输送台PN的叶片NB被设定得比构成最上层排气台PT1的旋转叶片7的配置间隔L1宽。 [0102] 考虑到这一点,比较考察上述式(1)和式(2),由于Z2大于Z1(Z2>Z1),如上所述,在粒子转移阶段PN中,排气方向反射粒子的比例增加,反流颗粒的比例减少。 简而言之,原因在于,当颗粒可以碰撞的区域变宽时,颗粒碰撞旋转叶片 7 或叶片 NB 中朝向气体分子排出方向倾斜的斜面并反射到气体分子中的概率排气方向随着进气口的增加而增加(这是因为它优于2)方向(具体是上述倒角面和位于上方的凸弧面)与具有高回流概率的表面碰撞倒角)。 [0103] 《评论2》 [0104] 图3是在没有粒子输送台的真空泵(相当于以往的真空泵)中落下的粒子能够碰撞的区域的说明图,图4是落下的粒子能够碰撞的区域的说明图。图1的具有粒子输送台的真空泵(相当于本发明的真空泵)是落下的粒子能够碰撞的区域的说明图。 [0105] 在考虑 2 中,回顾了上述步骤结构。 [0106] 参见图3,在不具有上述阶梯结构的真空泵(对应于传统真空泵)中,即省略了颗粒转移级(PN),最上面的排气级(PT)的直径(PT1))(D)部分(参照图2(c))的粒子的碰撞可能区域Zp1通过下式(3)求出。 [0107] Zp1={(πD/N-T)Vp}/(Vr)。 等式(3) [0108] N:构成最上排气级的旋转叶片7的数量 [0109] D:直径尺寸(D)(见图2(c)) [0110] T:构成最上排气端的旋转叶片7的直径(D)部分的轴垂直厚度(见图2(c)) [0111] Vp:粒子下落速度 [0112] Vr:旋转刀片 7 的直径 (D) 部分的转速(圆周速度) [0113] 参照图4,上述阶梯结构中的阶梯高度(突出高度)Zp2基于下式(4)指定。 [0114] 下面的等式(4)将图2(a)中的两个旋转刀片72和73视为如图3所示的n个旋转刀片7、7...,并考虑n个旋转刀片。这适用于阶梯式位于(7、7)两侧的旋转叶片71、74的上游端7A高于其他旋转叶片(71、74以外)的上游端的结构。 [0115] Zp2={(πD·n/N)Vp}/(Vr)。 等式(4) [0116] n:位于具有高上游端的旋转叶片71和74之间的旋转叶片的数量 [0117] D:直径尺寸(D)(见图2(c)) [0118] N:构成最上排气级的旋转叶片7的数量 [0119] Vp:粒子下落速度(Pa) [0120] Vr:旋转刀片 7 的直径 (D) 部分的转速(圆周速度) [0121]若n个旋刀7与图2(c)中直径D两侧的旋刀7(71、74)的台阶差等于或大于Zp2,如图4所示,如图所示,落入旋转刀片71和74之间的空间(对应于图2中的L2)的颗粒与旋转刀片74的前表面碰撞,而不与n个旋转刀片7碰撞。 然后,粒子能够与附图标记74的旋转刀片的前表面碰撞的区域由后述的Zp3通过下式(5)指定。 [0122] 在具有上述阶梯结构的图1的真空泵(对应于本发明的真空泵)中,即具有粒子输送级PN,构成最上部排气级PT(PT1)的多个旋转叶片7具有台阶结构,其中上游端7A的高度整体上不同。 该阶梯结构是由于与构成颗粒转移平台PN的叶片NB相邻的旋转叶片7的高度被叶片NB延伸的事实,如上所述。在,被认为是“具有a的旋转叶片高上游端存在与叶片(NB)的高度(Zp2)一样多”。 [0123] 在该情况下,最上端排气端PT(PT1)的直径D部(参照图2(c))的粒子碰撞可能区域Zp3(参照图4)为, 根据下式( 5). [0124] Zp3=[{πD(n+1)/N-T)}Vp]/(Vr)。 等式(5) [0125] N:构成最上排气级的旋转叶片7的数量 [0126] D:直径尺寸(D)(见图2(c)) [0127] T:构成最上排气端的旋转叶片7的直径(D)部分的轴垂直厚度(见图2(c)) [0128] Vp:粒子下落速度 [0129] Vr:旋转刀片 7 的直径 (D) 部分的转速(圆周速度) [0130] n:位于具有高上游端的旋转叶片71和74之间的旋转叶片的数量 [0131] 参见图4,从旋转叶片7观察到的颗粒的相对速度Vc是旋转叶片7在直径D部分(参见图2)的旋转速度Vr,下落的颗粒It由速度获得(副总裁)。 在图4中,如果上游端高的旋转叶片7(71、74)的间隔或截面为叶片间隔L',则从图4中的A点(叶片间隔内的最下游侧)入射的粒子L')能够进入(落下)到)的粒子落在叶片间隔L'到旋转叶片7(74)前端的延长线上的B'点的范围内。 从旋转叶片7(74)的上端面7A到B'点的下落距离为由上式(5)求出的Zp3。 图1的真空泵(相当于本发明的真空泵)具有粒子输送台PN,在Zp3的范围内不存在倒角等叶片面,因此落下至B点的粒子'可以进一步下落,并最终与旋转刀片7(74)的前表面碰撞,具体地,在旋转刀片7(74)的向下斜坡上的点C'处。 [0132] 从以上描述可以看出,在图1的真空泵(对应于本发明的真空泵)中,从旋转叶片7的上表面7A(74)具有颗粒转移级PN、C' . 粒子到点的下落距离Zp4成为粒子的可碰撞区域,这个可碰撞区域(下落距离Zp4)大于上式(5)得到的可碰撞区域Zp3。 [0133] 简而言之,如果上述台阶结构的台阶高度为Zp2,则从图4中的A点入射的粒子与B点碰撞。),但与旋转刀片7(74)的前表面碰撞(对于例如,旋转刀片7(74))的向下斜坡上的点C'。 [0134] 这里,对上述式(3)和上述式(5)进行比较和研究。 此时,为简单起见,在上式(3)和上式(5)中考虑旋转叶片7的厚度T而忽略上述,在采用台阶高度为Zp2或Zp2的台阶结构的情况下更如上文所述,即在上式(5)的情况下,与上式(3)的情况相比,由于粒子Pa的碰撞可能区域扩大了(n+1)次,排气方向反射颗粒的比例增大,速率减小。 简而言之,原因在于,当颗粒可以碰撞的区域变宽时,颗粒碰撞旋转叶片 7 或叶片 NB 中朝向气体分子排出方向倾斜的斜面并反射到气体分子中的概率排气方向随进气口增加(这是因为它优于2)方向(具体是现有技术中描述的倒角表面和凸圆弧表面)与具有高回流概率的表面碰撞的概率位于倒角的上部)。 [0135] 此外,即使在叶片NB与旋转叶片7分开安装的结构中,上述操作也是相同的。 [0136] <<粒子转移台(PN)的另一实施例1>> [0137] 在图1的真空泵P1中,作为粒子输送台PN的具体结构,采用在旋转叶片7的整体设置叶片NB的结构,但不限于此。 例如,如图5(a)、(b)、(c)所示,旋转刀片7具有在长度L方向的一部分设置刀片NB的结构,但在该图中,如图所示在(d)、(e)中,也可以采用在旋转刀7的厚度T方向的一部分设置刀NB的结构,即使是这样的结构,也能发挥上述的作用效果(排气定向反射颗粒的比例增加,回流颗粒的比例减少)。 [0138] <<粒子供给阶段(PN)的另一实施例2>> [0139] 在图1的真空泵中,如图2(a)所示,作为构成最上段排气级PT(PT1)的多个旋转叶片7的具体结构,多个旋转叶片7的间隔为配置为相同的间隔,但不限于此。 例如,如图6所示,其上游端通过上述阶梯结构升高的旋转刀片7(74)和位于旋转方向上的前侧的旋转刀片7(74)旋转刀片 旋转刀片73(以下称为“先行刀片7(73)”)的排列间隔可以设定得比其他旋转刀片7的排列间隔宽。 [0140] 参见图6,在采用上述排列间隔设置的情况下,如上所述因与叶片NB的前斜面FS碰撞而反射的排气方向反射粒子落在前一叶片7(73 ).)变得难以碰撞,通过与先行叶片7(73)的后表面的碰撞反映到进气口2方向(另一侧朝向进气口2方向的斜面)旋转方向,下同)减少了弹跳粒子(这也是逆流粒子的一种),进一步提高了粒子排出效率。 [0141] <<粒子转移台(PN)的另一实施例3>> [0142] 在图1的真空泵中,如图2(a)所示,作为构成最上段排气级PT(PT1)的多个旋转叶片7的具体结构,多个旋转叶片7的下游端7B of被配置为相同高度,但不限于此。 例如,如图7(a)所示,先行叶片7(73)的下游端7B比另一旋转叶片7的下游端7B更靠近吸气口2。可以采用“底部凸起结构”),或者如图7(b)所示,将先行叶片7(73)的下游端7B的一部分切割成凸起结构。 . [0143]参照图7(a)和(b),即使采用底部升高的结构,如上所述,由于与叶片NB的前侧斜面FS的碰撞而反射的排气方向反射粒子也变得难以消除。与先行叶片7(73)的后表面碰撞,粒子因与先行叶片7(73)的后表面碰撞而反射而弹回进气口2方向(这也是一种逆流颗粒)减少,颗粒的排气效率进一步提高。 [0144] <<粒子转移台(PN)的另一实施例4>> [0145] 在图1的真空泵P1中,多个旋转叶片7的上游端7A整体呈阶梯状结构,即旋转叶片7的上游端7A为叶片NB。虽然结构(以下简称“单边延伸叶片结构”),但不限于此。 [0146] 例如,除了上述单侧伸出叶片结构之外,如图8所示,上游端7A所在的旋转叶片7的下游端(71、74)通过上述台阶结构升高7B也可以采用比其他旋转叶片7(72、73、75)的下游端7B延伸更长的结构(以下简称“双侧延伸叶片结构”)。 作为这种双面延伸刀片结构的具体构造示例,此外,在图8中,旋转刀片7(71、74)通过与用于获得上述台阶的刀片NB相当的刀片NB旋转。下游端7B虽有延伸,但不限于此。 [0147] 然而,由于旋转叶片7与转子6一体旋转,因此由该旋转产生的离心力从固定端指向旋转叶片7的自由端,或旋转叶片7的旋转中心(具体地,它从转子轴 5) 的轴线沿径向方向作用。 典型的旋转叶片7设置成其形状围绕与旋转轴线(具体地,转子轴5)垂直且呈径向的直线(以下称为叶片形状的中心)对称。 这是由于如上所述旋转产生的离心力,使得旋转刀片7上产生的力矩围绕旋转刀片形状的中心不平衡,因此,旋转刀片的基部(根部)旋转刀片 7(此为降低固定端扭矩引起疲劳损坏风险的措施)。 [0148] 在上述单侧延伸叶片结构中,由于仅旋转叶片7的上游端7A延伸,因此容易出现围绕旋转叶片7的形状中心的扭矩不平衡,并且这种扭矩导致考虑到旋转叶片7可能会损坏旋转叶片7,例如位于(7)的固定端附近的部分,即转子6的外周侧上的部分的疲劳破坏。 [0149] 另一方面,在上述双面延伸刀片结构中,由于在旋转刀片7(71、74)的上游端7A和下游端7B均设置有相等的刀片NB,因此如上所述,扭力为不易产生旋转刃7的破损,例如由扭转力引起的疲劳破坏等。 [0150] <<粒子转移台(PN)的另一实施例5>> [0151] 在图1的真空泵P1中,作为构成粒子输送级PN的叶片NB的具体结构,叶片NB是构成最上层排气级PT1的旋转叶片7。),作为具体结构例。与其相邻,采用叶片NB和旋转叶片7作为一个部件一体安装的结构(参见图2(a))。不限于 [0152] 作为上述邻接结构的另一具体例,例如如图9(a)所示,构成最上段排气级PT(PT1)的多个旋转叶片7中的至少一个叶片的结构为可以采用构成颗粒输送台PN的NB作为单独部件安装到每个旋转叶片7(71、74)的全部或一部分。 在这些分离部件的构造中,“旋转刀片的整体或部分”的分析根据上述<<粒子供给台(PN)的另一实施例1>中的描述,因此省略其详细说明. . [0153] 即使当采用构造为单独部件的叶片NB时,构成最上排气端PT(PT1)的多个旋转叶片7由作为单独部件的叶片NB形成,由于上游端7A具有不同的阶梯结构高度,获得上述效果(排气方向反射颗粒的比例增加和逆流颗粒的比例减少)。 [0154] 如上所述,在采用作为单独部件构造的叶片NB的情况下,构成粒子输送级PN的叶片NB和构成最上部排气级PT(PT1))的旋转叶片7(71)可以存在例如,如图9(b)所示产生间隙或如图9(c)所示产生相对位移的情况。 产生这种间隙或偏离的构造也包括在上述“相邻”中,并且获得上述效果(排气方向上的反射颗粒的比例增加,回流颗粒的比例减少)。 上述的间隙和偏差可以根据设计需要主动设置,也可以根据加工精度不可避免地设置。 [0155] 如上所述,即使在构成粒子输送台PN的叶片NB为分离部件的构造中,粒子输送台PN的另一实施例也不同于前述<<粒子输送台PN的另一实施例1>可以应用直至实施例4>的配置。 [0156] 在采用如上所述作为单独部件构造的叶片NB的构造中,叶片NB,即构成颗粒输送级PN和最上排气级PT(PT1)的叶片NB和构成颗粒输送级PN的旋转叶片7(71)具有各个刀面正对的结构,在正对的刀面之间插入固定刀8等固定部件。我从来没有这样做过。 这一点在前面描述的叶片整体结构中也是相同的(参见图2(a))。 [0157] <<粒子转移台(PN)的另一实施例6>> [0158] 在图1的真空泵中,作为粒子输送台PN的具体结构,构成粒子输送台PN的叶片NB是构成最上部的排气级PT(PT1)的旋转叶片7),但不是限于此。 [0159] 例如,如图10所示,构成粒子输送台PN的叶片NB与构成最上部的排气台PT(PT1)的旋转叶片7隔开规定距离的配置也可以采用上述配置。通过该结构,也能够得到上述的效果(排气方向的反射粒子的比例增加,逆流粒子的比例减少)。 [0160] <<粒子转移台(PN)的另一实施例7>> [0161] 在构成粒子输送台PN的叶片NB如上述图9(a)所示作为单独部件安装的构造中,叶片NB的具体安装结构例如如图11所示如图所示,准备能够嵌入转子6上表面的凹部61的第一安装部件62,第一安装部件62(具体而言,第一安装部件叶片NB)的外周面为第1安装部件62被设置在62外周的凸缘62A的外周面支承,第1安装部件62插入凹部61。62和转子轴5的前端螺纹固定的系统可以使用螺栓 BT。 [0162] 在如上所述使用第一安装构件62的叶片NB的安装方法中,存在气体可能积聚在转子6的上表面的凹部61中的可能性,因此第一安装构件62提供脱气最好在第一安装件62的凸缘62A与转子6的顶面之间设置排气孔63或设置排气槽64等方式 [0163]为了平衡包括转子6和旋转叶片7的整个旋转体的旋转,当从旋转体的旋转中心看时,图11所示的叶片NB如图12所示旋转对称。它被安排成 该配置也可以应用于上述图1至10(不包括图3)的叶片NB和稍后描述的图13和4的叶片NB。 [0164] <<粒子转移台(PN)的另一实施例8>> [0165] 至于如上所述构造为单独部件的刀片NB的具体安装结构,例如,可以采用图13所示的安装结构。 在图13的安装结构中,准备能够安装在转子轴5的前端的第2安装部件65,叶片NB被第2安装部件65的外周面支承。如图所示,第二安装件65与转子轴5的前端用螺栓BT螺纹固定。 [0166] <<粒子传输台(PN)的另一实施例9>> [0167] 另外,作为分体构成的叶片的具体安装构造,虽然未图示,但也可以采用将叶片用螺栓拧紧固定在转子6的进气口侧的上端的方法。 [0168] <<粒子转移台(PN)的另一实施例10>> [0169] 在图1的真空泵P1中,如图6所示,构成粒子输送级PN和最上部的排气级PT(PT1)的叶片NB的仰角θ1构成(θ1=θ2)采用将多个旋转叶片7的仰角θ2设定为相等的角度,但不限于此。 [0170] 例如,设定如图14所示的仰角,即构成粒子输送级PN的叶片NB的仰角θ1为构成最上部排气级PT(PT1)的仰角θ1。构成为小于旋转叶片7的仰角θ2(θ1<θ2)。 [0171] 在采用如上所述的仰角构造的情况下,构成颗粒输送级PN的叶片NB连接至构成最上排气级PT(PT1)的旋转叶片7(71、74)。它在相对于前一个叶片呈悬垂形式,叶片下端之间的空间方向高于前一个叶片的方向,即旋转体的轴线(具体地,旋转体包括转子6或旋转叶片7)。由于反射以接近向下的角度指向,因此与叶片NB的前斜面FS碰撞而反射的排气方向反射粒子难以碰撞。在先叶片7(73)的背面。因与先行叶片7(73)的碰撞而反射而向吸气口2方向反弹的粒子(这也是逆流粒子的一种)减少,颗粒的排气效率进一步提高。 [0172] 此外,如上所述的仰角设置不仅适用于如图14所示的叶片NB作为单独部件安装的构造,而且适用于叶片NB和旋转的构造。叶片7一体安装如图6所示即可。 [0173] <<粒子转移台(PN)的其他实施例11-1和11-2>> [0174] 根据上述台阶结构的台阶差的高度(深度)不限于一种类型,并且可以使用多个台阶的高度(深度)的组合的结构。 例如,可以形成阶梯状(参照图15),也可以形成高度变化的锥状(参照图16)。 另外,虽然未图示,但作为多个台阶的高度(深度)的组合的例子,也可以采用使这些台阶的高度(深度)不同的结构(高度不均的结构)或深度)。 总之,多个台阶的高度(深度)的组合可以根据需要适当变更。 另外,阶梯差的高度可以根据旋转刀片在径向方向上的位置而改变。 [0175] 图15是粒子搬送载台PN的其他实施方式11-1的说明图,具体而言,是台阶的高度阶梯状地变化的多个台阶的组合的例子。 图16是粒子输送载台PN的其他实施方式11-2的说明图,具体而言,是将多个台阶的高度变更为锥状的组合的例子的图。 [0176] 在此,例如参照图4,在图4的本例中,上游端7A通过上述阶梯结构而上升的旋转叶片7(71、74)和位于它们之间的旋转叶片的高度(7、7)中的台阶的深度(depth)一律为相同的Zp2或Zp2以上的Zp3。 [0177] 另一方面,参照图15,在图15的例子中,第n旋转刀7(80)的上述阶梯构造的阶梯的高度(深度)阶梯状变化,成为Zp2以上。采用(h1[0178] 因此,在该阶梯状的结构中,上游端7A通过阶梯结构上升至旋转叶片7(76、80)和位于其间的旋转叶片7(77、78、79)。高度(深度)( h1、h2、h3)的台阶不一律相同,设定为沿着旋转刀7的旋转方向依次变低(深)。 即使在采用以这种方式设置的阶梯形构造的情况下,如图15所示的颗粒体积比可以看出,微粒Pa也不会与旋转叶片7(77、78、79)碰撞。 ..,获得上述操作效果(排气方向反射颗粒的比例增加,回流颗粒的比例减少)。 [0179] 在采用台阶形构造的情况下,位于上游端7A升高的旋转叶片7(76、80)之间的旋转叶片7(77、78、79)的上游端7A全部由以下组成:没有倾斜度的飞机。 [0180] 参照图16,在图16的例子中,第n旋转刀7(80)的台阶结构的台阶的高度(深度)变更为锥形,使其大于Zp2 (h4[0181] 因此,即使在这种锥形构造中,其上游端7A通过上述阶梯结构升高的旋转叶片7(76、80)和位于其间的旋转叶片7(77、78、79)的高度(深度) )中的步骤(h4、h5、h6)不一律相同,设定为在旋转刀7的旋转方向上连续下降(加深)。 即使当采用以这种方式设置的锥形构造时,细颗粒Pa也不会与旋转叶片7(77、78、79)碰撞,从图3中所示的细颗粒Pa的比例可以看出,得到上述效果(排气方向的反射粒子比例增加,逆流粒子比例减少)。 [0182] 当采用上述锥形构造时,位于旋转叶片7(76、80)之间的旋转叶片7(77、78、79)的上游端7A,其中上游端7A被抬高。它们均由以下组成:以预定角度倾斜的倾斜表面。 [0183] 另外,由于旋转叶片7的配置间隔与高度之比被设定为能够有效地将气体分子输送到下游侧的最佳值,所以如果旋转叶片7的高度不同,则一部分旋转叶片(7)可能会偏离最佳设定值,导致真空泵整体排气性能下降。 因此,为了确保排气性能,优选旋转叶片7的高度差小。 [0184]在这点上,在上述图15的阶梯状构造和图16的锥形构造中,第n个旋转刀片7(80)中的阶梯结构的阶梯高度阶梯式地使得另外,例如,由于采用了变更为锥形的结构,因此即使采用后述的可退避阶梯构造,旋转叶片7的高低差也变小,排气性能提高。减少。困难。 另外,不用说,图15的阶梯结构和图16的锥形结构不仅可以用作后述的可退避阶梯结构,而且可以用作上述的阶梯结构。 [0185] <<粒子供给端(PN)附近的本发明的其他实施方式>> [0186] 图17是粒子输送台PN附近的本发明的其他实施方式的说明图。 如图17所示,在最上层排气级PT(PT1)的上游侧(具体而言,粒子输送级PN的上游侧)设置有固定叶片RF1(以下称为“固定反射叶片RF1”),以与构成PT1)的多个旋转刀片7相反的角度倾斜。 [0187] 参照图17,微粒Pa被构成排气端PT(PT1)的旋转叶片7(以下称为“最上旋转叶片7”)向下游方向反射,向固定的方向移动。叶片8构成排气端PT(PT1)(以下称为“最上固定叶片8”)。 此时,如图17所示,一些移动的微粒(Pa)从最上面的固定叶片8的后表面或上表面反射回来,因此它们不会进入最上面的旋转叶片的前表面。叶片7。 ,气流很可能以预定速度在最上面的旋转叶片7之间通过并且在进气口2或它之前的真空室CH的方向上向后流动。 [0188] 如上所述,作为用于防止由于在最上面的固定叶片8处的再反射而导致微粒Pa(以下称为“再反射微粒Pa”)回流的装置,反射装置RF起作用。 即,如图17所示,再反射微粒Pa被固定反射叶片RF1反射,向最上端排气端PT(PT1)移动。 [0189] 然而,由于如上所述逆流的再反射微粒Pa以预定速度通过最上旋转叶片7之间,作为逃逸所需的速度分量,最上旋转叶片的斜度具有平行的速度分量(旋转方向)。 由此,在图17的实施例中,如上所述,静止反射叶片RF1以与最上面的旋转叶片7的角度相反的角度倾斜,使得回流的再反射微粒Pa被引导到静止的反射叶片(RF1)配置为有效捕捉。 [0190] 固定反射叶片RF1的个数、倾斜角度等可以考虑固定反射叶片RF1对微粒子Pa的反射和真空泵整体的排气效率来适当变更。 . [0191] 在图17的实施方式中,采用了在真空泵P1的吸入口2的下游侧设置反射机构RF而将反射机构RF配置在真空泵PI内的结构,但不限于此。 虽然省略了图示,但例如也可以在连接真空泵P1和真空室CH的路径的途中设置反射单元RF。 [0192] 本发明不限于上述实施例,并且本领域技术人员可以在本发明的技术精神内进行许多修改。 [0193] 例如,在上述<<颗粒输送台PN的另一实施例1>>至<<颗粒输送台PN的另一实施例11-2>>和<<颗粒输送台PN)>的配置中可以根据需要适当组合使用本发明的其他实施例。 [0194] 上述实施方式的真空泵在吸气口2和排气口3之间具有作为排气单元发挥作用的多个排气级PT,多个排气级PT具有将气体分子排出的结构。由多个旋转叶片7和固定叶片8以预定间隔径向布置用于每个排气级PT。 在具有这种结构的多个排气级PT中,构成卷绕阶梯结构的多个旋转叶片7中的至少一部分上游端7A的高度,即最上面的排气级PT1。通过降低(滚动) ),上游端7A也可以是上游端7A整体的高度不同的阶梯结构,也可以是在气体分子的排气方向上输送粒子的粒子输送端。 该粒子传送台也以与上述粒子传送台PN相同的方式起作用。 代码说明 [0195] 1:外壳 2:进气口 3:排气口 4:定子柱 5:转子轴 6:转子 61:转子上表面的凹部 62:第一安装构件 62A:法兰 63:排气孔 64:排气槽 65:第二安装件 7:旋转刀片 8:固定刀片 9:螺槽排气定子 91:螺槽 BL:调压阀 BT:螺栓 CH:真空室 D:旋转叶片直径 EG:刀刃 FS:构成颗粒转移阶段的叶片前斜率 GE:最终清关 L1:构成最上排气级的旋转叶片排列间隔 L2:构成颗粒输送级的旋转叶片排列间隔 MB1:径向磁力轴承 MB2:轴向磁力轴承 MO:驱动电机 MS:倒角 MC:倒角上部 P1:真空泵 Pa:粒子 PN:粒子传输阶段 PS:螺槽泵端 PT:排气端 PT1:上排气端 PTn:下排气端 R:螺槽排气流路 RF:反射方式 RF1:固定反光叶片 S:泵内排气流路 Z:常规真空泵

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