GB2611545A
审中
屏蔽设备
理赔
1. 屏蔽设备 包括:
一种装置,其中该装置在物体的不同部分以不同的量衰减 x 射线
设备,提供第一跨度的 x 射线衰减,和
屏蔽罩,其中该屏蔽罩包括一层X射线衰减材料,该材料衰减X-
射线的数量在屏蔽层上变化,提供第二个衰减跨度,以及
其中第二个衰减跨度的幅度在幅度的 20% 和 120% 之间
衰减的第一个跨度。
2.根据权利要求1所述的屏蔽装置, 其中 衰减的第二跨度有
衰减的第一个跨度内的最小衰减。
3.根据权利要求1或权利要求2所述的屏蔽装置, 其中 第二个衰减跨度
具有最大衰减,最多可达第一个跨度内最大衰减的两倍
的衰减。
4.根据任一前述权利要求所述的屏蔽装置, 其中 整个衰减变化
屏蔽与整个衰减变化处于相同的比例或可比的比例
设备。
5.根据任一前述权利要求所述的屏蔽装置, 其中 X 射线衰减不同
随机穿过盾牌。
6.根据权利要求5所述的屏蔽装置, 其中 x射线衰减的衰减
整个盾牌的材料随机变化。
7.根据权利要求5所述的屏蔽装置, 其中 x射线衰减的衰减
材料在盾牌的一部分随机变化。
8.根据权利要求7所述的屏蔽装置, 其中 盾牌的一部分有一个非随机的 x-
会导致在图像中生成编码消息的光线衰减变化
由穿过屏蔽层的 X 射线形成。
9.根据任一前述权利要求所述的屏蔽装置, 其中 X射线衰减材料
具有在屏蔽层上变化的厚度。
10.根据权利要求9所述的屏蔽装置, 其中 X射线厚度的变化
衰减材料的厚度可以逐步变化。
11.根据任一前述权利要求所述的屏蔽装置, 其中 X射线衰减层
材料包括连续层。
12.根据任一前述权利要求所述的屏蔽装置, 其中 X射线衰减层
材料包括施加到基材上的涂层。
13.根据任一前述权利要求所述的屏蔽装置, 其中 盾牌包括以下区域
分散在基底材料中的 X 射线衰减材料。
14.根据权利要求13所述的屏蔽装置, 其中 该防护罩包含多个 X 射线
分散在基底材料中的衰减粒子。
15.根据任一前述权利要求所述的屏蔽设备, 其中 防护罩包括多个
盒子内提供的 X 射线衰减颗粒。
16.根据任一前述权利要求所述的屏蔽装置, 其中 护罩包括面板。
17.根据权利要求1-15中任一项所述的屏蔽设备, 其中 盾牌包括一个盒子,一个
公文包、保险箱或容器。
18.根据任一前述权利要求所述的屏蔽设备, 其中 X射线衰减层
材料包括选自由钛、铁、镍、铜组成的列表的材料,
锌、钡、钨、汞、铅、铋和铀。
19. 一种屏蔽装置的制作方法,该屏蔽装置 包括 一种装置,其中该装置在该装置的不同部分以不同的量衰减 x 射线,提供第一跨度的 x 射线衰减,以及一个屏蔽,其中该屏蔽包括一层 x 射线衰减材料,该材料衰减 x- 以在整个屏蔽层上变化的量发射射线,提供第二跨度的 X 射线衰减,其中该方法包括:
在 X 射线衰减层上产生衰减变化
材料,使得第二个衰减跨度的幅度介于 20% 和
第一衰减跨度幅度的120%;
将X射线衰减材料层施加到屏蔽; 和
安排屏蔽相对于设备这样,如果有人试图
使用 X 射线对设备成像,防护罩会拦截用于对设备成像的 X 射线
设备。
20.根据权利要求19所述的方法, 其中 X射线衰减材料层的衰减变化是使用增材制造层产生的。
21.根据权利要求19的方法, 其中 X 射线衰减材料层的衰减变化是使用 CNC 加工产生的。
