技术领域 [0001] 本发明涉及一种洗涤器、洗涤器系统和洗涤器驱动方法,用于去除与半导体制造过程中产生的大量粉末一起排放的全氟化物(PFC)或挥发性有机化合物(VOC)。 背景技术 [0002] 众所周知,电弧等离子体、微波等离子体、电容耦合等离子体和电感耦合等离子体被用于诱导与等离子体的高温反应或产生高温环境(等离子体)。 根据用于产生等离子体的反应器中的每种技术和结构差异,这些技术具有优点和缺点。 [0003] 在涤气器中,带高压电的电极与接地的外壳之间会形成电弧,如果由于电弧对外壳造成过度腐蚀,可能会损坏外壳,流入外壳的冷却液可能会泄漏。 此外,由于电弧点保持在电极的特定下部,电极可能由于电弧集中而损坏。 要解决的挑战 [0004] 本发明的一个目的是提供一种能够防止电弧集中并最小化电极和外壳的蚀刻的洗涤器。 本发明的另一个目的是提供一种能够稳定地旋转电弧的洗涤器。 解决问题的手段 [0005] 根据本发明的实施例的具有突出电极的洗涤器包括用于产生等离子弧的等离子发生器和连接到等离子发生器并提供用于处理气体的分解空间的反应器,其中等离子发生器施加有驱动voltage 它包括一个电极,以及一个包围电极并形成放电空间的外壳,电极从外壳的下端突出,可以插入到电抗器中。 [0006] 根据本发明的一个实施例,第一弧点可以形成在电极的外圆周表面上,第二弧点可以形成在外壳的内表面上。 [0007] 根据本发明的实施例的一些电弧可以位于反应器内部。 [0008] 根据本发明实施例的壳体包括与电极形成第一间隙的第一管部和与电极形成第二间隙的第二管部,第二管部的第一管部位于底部,第二间隙可大于第一间隙。 [0009] 根据本发明的一个实施例,第一弧点可以沿着电极的外周面移动,第二弧点可以沿着壳体的内周面移动。 [0010] 根据本发明的实施例,第一供气口可连接至外壳,通过该第一供气口引入含有全氟化合物的处理气体。 [0011] 在根据本发明的一个实施例的外壳中,形成有与第一供气口连接并沿外壳的周向延伸的处理气体通道和至少一个用于向外壳内注入处理气体的处理气体注入孔;处理气体注入孔可以相对于外壳的中心偏心以引起旋转流。 [0012] 根据本发明的一个实施例,处理气体注入孔可以形成在电极的纵向上的不同位置。 [0013] 根据本发明的实施例,处理气体注入孔可以形成为朝向电极的下端倾斜。 [0014] 根据本发明的一个实施例,所述壳体中形成有用于引入反应气体的第二供气口,所述第二供气口连接有供所述反应气体流动的第二供气管。 [0015] 根据本发明实施例的反应气体可以由惰性气体制成。 [0016] 根据本发明的一个实施例,处理气体流经的第一供应管连接到第一供气口,流经第一供应管的处理气体连接到第一供应管和第二供应管。 2 可连接通向供水管的支管。 [0017] 根据本发明的一个实施例,当初始等离子体产生时,反应气体通过第二供应管供应至第二供应口,等离子产生后,反应气体供应至第二供应管停止时,可以通过第一供气口向壳体内供给处理气体。 [0018] 根据本发明的一个实施例,当等离子体初始产生时,反应气体通过第二供气管供应,等离子体产生后,处理气体通过第一供气口和第二供气口供应。在外壳内提供。 [0019] 根据本发明的实施例,用于旋转电弧的磁体可以安装在外壳中。 [0020] 根据本发明的实施例,可以在反应器中安装用于将水喷入反应器中的喷嘴。 [0021] 根据本发明的实施例的洗涤器系统包括产生和释放等离子弧的洗涤器、接收来自洗涤器的气体并喷水进行湿处理的湿处理单元,以及将水喷洒在从湿处理排出的气​​体上单元洗涤器包括用于产生电弧和等离子体的等离子体发生器,以及连接到等离子体发生器并为处理气体提供分解空间的反应器,其中等离子体发生器被施加有驱动电压。它包括电极,和壳体围绕电极形成放电空间,电极从壳体下端突出,可插入反应器内。 [0022] 根据本发明的一个实施例,第一弧点可以形成在电极的外圆周表面上,第二弧点可以形成在外壳的内表面上。 [0023] 根据本发明的实施例的一些电弧可以位于反应器内部。 [0024] 根据本发明实施例的壳体包括与电极形成第一间隙的第一管部和与电极形成第二间隙的第二管部,第二管部位于底部,第二间隙可以较大比第一个差距。 [0025] 根据本发明的实施例的洗涤器驱动方法包括电弧产生步骤,该电弧产生步骤通过从外壳的下端突出来在电极的外圆周表面和外壳的内表面之间产生电弧,电极连接到该外壳的下端。等离子发生单元接地,对壳体内部进行处理,还可以包括通过供给气体使电弧旋转而旋转的电弧旋转步骤。 [0026] 在根据本发明实施例的电弧产生步骤中,第一电弧点可以形成在电极的外圆周表面上,第二电弧点可以形成在外壳的内圆周表面上。 [0027] 根据本发明的一个实施例的壳体包括与电极形成第一间隙的第一管部分和形成大于第一间隙的第二间隙的第二管部分,并且在电弧产生步骤之后形成第二电弧点在第一管部的内周面上,第二圆弧点可以因电弧的发展而向第二管部移动。 [0028] 在根据本发明实施例的弧旋转步骤中,第一弧点可以沿着电极的外周表面移动,第二弧点可以沿着壳体的内周表面移动。 [0029] 在根据本发明实施例的电弧产生步骤中,处理气体被供应到第一供气口,反应气体被供应到第二供气口,电弧旋转步骤是将反应气体供应到第二供气口被关闭,处理气体可以通过第一供气口继续供应。 [0030] 在根据本发明实施例的电弧旋转步骤中,可以将处理气体供应到第一供气口和第二供气口。 [0031]在根据本发明实施例的电弧产生步骤和电弧旋转步骤中,供应到第一供气口的工艺气体在相对于壳体中心偏心的方向上喷射以形成旋转力,并且第一气体供应通过球体供应的处理气体可注入电极纵向上的不同位置。 发明效果 [0032] 如上所述,在根据本发明实施例的洗涤器、洗涤器系统和洗涤器驱动方法中,由于电极从壳体的下部突出,所以在壳体的外圆周表面上形成圆弧点电极,并且弧点沿电极的外圆周表面旋转以形成电极并且可以防止外壳被过度蚀刻。 附图简要说明 [0033] 附图说明图1是表示本发明的第一实施方式的洗涤器系统的图。 图2是表示本发明的第一实施方式的洗涤器的剖视图。 图3是本发明的第一实施方式的框体的横剖视图。 图4是示出根据本发明第一实施例的在外壳和电极之间产生的电弧的旋转的视图。 图5是用于说明本发明的第一实施方式的洗涤器驱动方法的流程图。 图6是表示本发明的第二实施方式的洗涤器的剖视图。 图7是表示本发明的第三实施方式的洗涤器的剖视图。 实施发明的具体细节 [0034] 由于本发明可以进行各种变形,具有多种实施方式,因此在具体实施方式中将举例说明具体实施方式。 但是,应当理解,这并不是要将本发明限制于特定的实施例,而是包括所有落入本发明的精神和范围内的变换、等同和替换。 [0035] 本发明所使用的术语仅用于描述具体的实施例,并不用于限制本发明。 单数表达包括复数表达,除非上下文另有明确规定。 在本发明中,“包括”或“具有”等术语意在表示存在说明书中描述的特征、数字、步骤、操作、组件、部分或其组合,但不包含一个或多个其他特征。应当理解,不排除数字、步骤、操作、组件、部件或其组合的存在或添加。 [0036] 在下文中,将参考附图详细描述本发明的优选实施例。 此时,应当注意,在附图中,相同的部件尽可能用相同的附图标记表示。 此外,将省略可能模糊本发明的主旨的公知功能和配置的详细描述。 出于同样的原因,在附图中,一些部件被夸大、省略或示意性地示出。 [0037] 在下文中,将描述根据本发明的第一实施例的洗涤器系统。 [0038] 附图说明图1是表示本发明的第一实施方式的洗涤器系统的图,图2是表示本发明的第一实施方式的洗涤器的剖视图,图3是表示洗涤器的图。根据本发明第一实施例的系统 图4是示出根据本发明第一实施例的在外壳和电极之间产生的电弧的旋转的视图。 [0039] 参照图1至4,根据第一实施例的洗涤器系统1000可包括洗涤器100、湿法处理单元200和湿法塔400。 [0040] 根据本实施例的洗涤器系统1000使用由洗涤器100产生的高温等离子体来热分解包含在半导体制造过程中产生的全氟化合物的处理气体。 此外,在湿处理单元200和湿塔400中热分解的工艺气体中包含的水溶性有害气体和异物颗粒被收集后,只有无害气体被排放到外部。 [0041] 湿法处理单元200可包括喷嘴和水箱,并且通过将水注入从洗涤器100输送的气体中来收集和溶解气体中包含的诸如氟化氢的杂质。 湿式塔400包括过滤器和喷嘴,并通过额外的注水湿处理和去除未处理的氟化氢和颗粒物。 [0042] 洗涤器100使用高温等离子体分解处理气体,并且可以包括等离子体发生器101和反应器102。 等离子体发生器101使用电弧和反应气体产生高温等离子体。 等离子体发生器101可以包括被充电有驱动电压的电极120和围绕电极120并提供其中产生电弧的放电空间的外壳110。 [0043] 电极120具有圆杆形状,并且可以在其中形成冷却水移动通过的冷却水通道121。 电源170连接到电极120并且可以施加驱动电压。 这里,驱动电压可以是足以形成电弧(AC)的电压。 电源170可以由交流电以及直流电制成。 [0044] 电极120插入到外壳110中并形成为在外壳110的高度方向上连接,并且电极120包括冷却水入口123,用于将冷却水供应到电极120的内部并排出冷却水。可以形成端口124。 [0045] 壳体110可具有内部空间且可具有大致阶梯状的圆柱形状,并在电极120的外表面与壳体110的内表面之间形成放电间隙。 外壳110可以电接地,为此,由陶瓷制成的绝缘构件117可以安装在外壳110的上部。 排出处理气体的排出口118形成在外壳110的下部。 [0046] 壳体110具有与电极120形成第一间隙G1的第一管部110a和大于电极120与第一间隙G1的第二间隙G2。其可包括两个管部(110b)。 第二管部110b具有比第一管部110a大的内径并且可以位于第一管部110a下方。 第二间隙G2可以比第一间隙G1大2至20倍。 此外,第二管部110b的内径可以与反应器102的内径相同。 电极120从第一管部110a延伸至第二管部110b,并比第二管部110b的下端突出。 第二圆弧点AP2可以形成在第一管部110a中然后移动到第二管部110b。 [0047] 外壳110还可包括其中容纳有冷却水的冷却单元116,并且冷却单元116形成在外壳的圆周方向上以冷却外壳110。 壳体110内形成有冷却水入口138和冷却水出口139,冷却水入口138和冷却水出口139连接冷却单元116。 [0048] 此外,外壳110中可以形成反应气体注入孔132、处理气体通道134、处理气体注入孔135、第一气体供应口136和第二气体供应口137。 [0049] 第一供气口136在第二供气口137的底部与壳体110相连。 第一供气口136将处理气体引入壳体110内,处理气体是指包含全氟化合物的待分解气体。 处理气体流路134与第一气体供给口136连接,沿框体110的周向连续。 工艺气体注入孔135从工艺气体通道134连接到外壳110的内部,以连接工艺气体通道134和外壳110的内部空间,以将工艺气体注入外壳110。 工艺气体注入孔135可以在相对于壳体110的中心偏心的方向上引导以引起旋转流。 [0050]如图2和图3所示,多个处理气体喷射孔135形成在外壳110中并且可以形成在电极的纵向上的不同位置。 一些处理气体注入孔135可以位于低于其他处理气体注入孔135的位置。 因此,由于处理气体在电极120的纵向上的不同位置被喷射以分别在顶部和底部形成漩涡,所以能够在壳体110内部形成更强的旋转流。 [0051] 第二气体供给口137与壳体110连接,通过反应气体注入孔132向壳体110内供给反应气体。 此处,反应气体可以由氮气等惰性气体组成,反应气体通过电弧放电过程形成等离子体。 [0052] 第二供气口137位于高于第一供气口136的位置,第二供气口137连接处的壳体110与电极120之间的距离为,壳体110与电极120之间的间隙。电极120可以小于第一供气孔136和电极120之间的间隙。 [0053] 第一气体供给口136与处理气体流动的第一供给管141连接,第二气体供给口137与反应气体流动的第二供给管142连接。 另外,在第一供给管141和第二供给管142上连接有分支管143,该分支管143使在第一供给管141内流动的处理气体向第二供给管142移动。 此外,用于控制与支管143的连接的控制阀145可以安装在第二供应管142中。 [0054] 因此,当产生初始等离子体时,通过第二供给管142和第二气体供给口137供给反应气体,等离子产生后稳定后,停止供给反应气体,第一供气口 处理气体可以通过136供应到外壳110中。 [0055] 另外,处理气体通过分支管143移动到第二供应管142,并通过第一气体供应口136和第二气体供应口137供应到外壳110中。 因此,处理气体可被电弧放电产生的等离子体分解,并且处理气体可在等离子体产生过程中形成的高温条件下热分解。 [0056] 此外,根据第一实施例,处理气体注入孔135形成在外壳110内部以朝向电极120的外周表面注入处理气体。 因此,与将处理气体供给至现有的反应器102的情况相比,处理气体流入等离子体发生装置,与等离子体接触,通过等离子体中产生的电子、离子等高能化学物质进行分解。由于处理气体处于高温区域的时间增加,因此可以更有效地分解。 [0057] 另外,由于在引起旋转运动的同时供应处理气体和反应气体,因此可以通过处理气体和喷射气体增加电弧AC的旋转力。 如在现有技术中那样,当仅供应少量反应气体时,由于弱旋转流而可能发生电弧AC不能适当旋转的问题。 然而,当在旋转的同时将处理气体供应到外壳110中时,可以形成能够充分旋转电弧AC的旋转流。 [0058] 另一方面,电极120形成得比以前更长,穿过出口118,从外壳110的下端突出,并插入到反应器102中。 传统等离子洗涤器的高压电极对应电极120的情况下,该电极位于等离子产生单元的上游,产生等离子时,不像电弧触点固定集中在末端的情况放电的高压电极,在本发明中,由于电极120的突出,现有的高压电极120的端部位于等离子体发生器的下游,使得第一弧点AP1没有固定到端部电极120的外周面可以连续旋转移动。 因此,如图4所示,第一圆弧点AP1可以形成在电极的外圆周表面上,第二圆弧点AP2可以形成在外壳的内圆周表面上。 [0059] 第一弧点AP1可位于外壳110内或在反应器102内移动。 因此,当电弧AC向下延伸时,电弧AC的下部可位于反应器102内。 另外,在第一管部110a的内周面形成第二圆弧点AP2之后,随着圆弧AC的发展,第二圆弧点AP2可以向第二管部110b移动。 [0060] 此外,第一弧点AP1可以通过处理气体的旋转力沿着电极120的外周表面移动并且第二弧点AP2可以沿着壳体110的内周表面移动。 这样,当两个弧点都旋转时,可以防止由于弧点集中而过度蚀刻外壳110和电极120。 [0061] 反应器102具有大致圆柱形的形状并且连接至出口118。 反应器102内部形成用于分解工艺气体的分解空间(CS),反应器102的壁内可安装隔热材料102a。 [0062] 反应器102容纳从壳体110排出的处理气体,并且处理气体可以在反应器102内的高温反应条件下进一步分解。 从反应器102排出的气体移动到湿式处理单元200。 [0063] 以下,对本发明的第一实施方式的洗涤器驱动方法进行说明。 图5是用于说明本发明的第一实施方式的洗涤器驱动方法的流程图。 [0064] 参照图2和图5,根据第一实施例的洗涤器驱动方法包括产生电弧(AC)并将处理气体供应到外壳110的内部以旋转的电弧产生步骤(S101)和电弧旋转。步骤(S102)旋转电弧AC。 [0065] 在电弧产生步骤(S101)中,使用充有高压的电极120和接地的外壳110在电极120的外周表面和外壳110的内周表面之间产生电弧(AC)。 在电弧产生步骤(S101)中,电极120从外壳110的下端突出以在电极120的外周表面上形成第一弧点AP1并在外壳的内周表面上形成第二弧点AP1 110. (AP2) 成立。 在电弧产生步骤(S101)中,通过经由第二气体供给口137供给反应气体,由电弧(AC)产生等离子体。 [0066] 电弧旋转步骤(S102)通过向外壳110内部供应工艺气体使其旋转来旋转电弧(AC),在电弧旋转步骤(S102)中,第一圆弧点(AP1)为外周面电极120的圆弧,第二圆弧点AP2沿壳体110的内周面移动并旋转,从而由圆弧AC形成环形圆弧。 当处理气体通过旋转电弧AC之间时,处理气体被分解并且可以进一步形成高温等离子体。 另外,在电弧旋转步骤(S102)中,可以停止反应气体的供给,将处理气体供给至第一气体供给口136,第一气体供给口136和第二气体供给口137也可以供给处理气体。 [0067] 此外,在电弧旋转步骤(S102)中,通过第一供气口136供应的处理气体在相对于壳体110的中心偏心的方向上喷射以形成旋转力,但是在壳体的纵向方向上电极120。可以通过在不同位置喷射来最大化处理气体的旋转力。 [0068] 以下,对本发明的第二实施方式的洗涤器进行说明。 图6是表示本发明的第二实施方式的洗涤器的剖视图。 [0069] 参照图6,由于根据本实施例的洗涤器100具有与根据上述第一实施例的洗涤器的结构相似的结构,因此将省略相同或相似结构的重复描述。 [0070] 洗涤器100包括等离子体发生器101和反应器102,等离子体发生器101可包括电极120、外壳110和磁体160。 [0071]电极120形成为棒状,并且可以在其中形成冷却水移动通过的冷却水通道121。 电极120从外壳110的下端突出经过出口118并且被插入到反应器102中。 在根据第二实施例的电极120中,电极120的长度的1/5到4/5可以从外壳突出。 [0072] 外壳110可具有具有内部空间的大致圆柱形形状,并在电极120的外表面和外壳110的内表面之间形成放电间隙。 壳体110可以电接地,并且处理气体通过其排出的排出口118形成在壳体110的下部。 [0073] 外壳110可包括具有第一内径的第一管部分110a和具有大于第一内径的第二内径的第二管部分110b。 此外,第二管部110b的内径可以与反应器102的内径相同。 电弧AC可以在第一管部分110a中形成然后移动到第二管部分110b。 [0074] 外壳110还可包括其中容纳有冷却水的冷却单元116,并且冷却单元116形成在外壳的圆周方向上以冷却外壳110。 冷却水端口(CWP)可以形成在外壳110中以允许冷却水流入和流出。 [0075] 此外,处理气体通道134、处理气体分配孔135和第一气体供应孔136可以形成在外壳110中。 本实施方式的洗涤器100不具有供给反应气体的第2气体供给口,处理气体成为反应气体。 [0076] 第一供气口136与壳体110连接,用于将处理气体导入壳体110内。 处理气体流路134与第一气体供给口136连接,沿框体110的周向连续。 工艺气体注入孔135从工艺气体通道134连接到外壳110的内部,以连接工艺气体通道134和外壳110的内部空间,以将工艺气体注入外壳110。 工艺气体注入孔135可以在相对于壳体110的中心偏心的方向上引导以引起旋转流。 [0077] 另外,在电极120上形成有从外周面突出的凸部120a,该凸部120a可以形成在与第一供气口136相邻的位置。 当第一圆弧点AP1初步形成于凸起部120a后,第一圆弧点AP1可向下移动。 [0078] 用于旋转电弧AC的磁体160安装在产生等离子体的反应器102中。磁体160形成为环形或者多个磁体160形成在反应器102的圆周方向上。可以间隔开。 当磁体160安装在反应器102的外部时,洛伦兹力作用于位于反应器102内部的电弧AC,使得电弧在反应器102内部旋转。 [0079] 第一弧点AP1形成在电极120的外周表面上,第二弧点AP2形成在外壳110的内周表面上。)可以沿着电极120的外周表面移动,并且第二弧点AP2形成在外壳110的内周表面上。圆弧点AP2可沿壳体110的内周面移动。 此外,第二弧点AP2可向下移动并位于反应器102内。 第一电弧点AP1可向下移动并位于反应器102内。因此,电弧AC的一部分可位于外壳内且电弧AC的一部分可位于电抗器102内。 [0080] 这样,当两个圆弧点都旋转时,可以防止外壳110和电极120的过度蚀刻。 [0081] 以下,对本发明的第三实施方式的洗涤器进行说明。 图7是表示本发明的第三实施方式的洗涤器的剖视图。 [0082] 参照图7,由于根据本实施例的洗涤器100具有与根据上述第一实施例的洗涤器的结构相似的结构,因此将省略相同或相似结构的重复描述。 [0083] 洗涤器100包括等离子体发生器101和反应器102,等离子体发生器101可包括电极120和外壳110。 [0084] 电极120形成为棒状,并且可以在其中形成冷却水移动通过的冷却水通道121。 电极120从外壳110的下端突出经过出口118并且被插入到反应器102中。 在根据第二实施例的电极120中,电极120的长度的1/10到9/10可以从外壳110突出。 [0085] 外壳110可具有具有内部空间的大致圆柱形形状,并在电极120的外表面和外壳110的内表面之间形成放电间隙。 壳体110可以电接地,并且处理气体通过其排出的排出口118形成在壳体110的下部。 [0086] 外壳110包括与电极120形成第一间隙G1的第一管部分110a和形成大于第一间隙G1的第二间隙G2的第二管部分110b。 第二管部110b具有比第一管部110a大的内径,并且第二间隙G2可以比第一间隙G1大2至20倍。 反应气体注入孔132可形成于第一管部110a,处理气体注入孔135可形成于第二管部110b。 第二管部110b的内径可以与反应器102的内径相同。 电弧AC可以在第一管部分110a中形成然后移动到第二管部分110b。 [0087] 另外,外壳110包括反应气体通道131、反应气体分配孔132、处理气体通道134、处理气体分配孔135、第一供气口136和第二供气口(137)。可以形成。 [0088] 第一供气口136在第二供气口137的底部与壳体110相连。 第一供气口136将处理气体引入壳体110内,处理气体是指包含全氟化合物的待分解气体。 处理气体流路134与第一气体供给口136连接,沿框体110的周向连续。 工艺气体注入孔135从工艺气体通道134连接到外壳110的内部,以连接工艺气体通道134和外壳110的内部空间,以将工艺气体注入外壳110。 [0089] 工艺气体注入孔135可以在相对于壳体110的中心偏心的方向上引导以引起旋转流。 一些处理气体注入孔135可以位于低于其他处理气体注入孔135的位置。 [0090] 第二供气口137向壳体110内供给反应气体至壳体110内。 这里,反应气体可以由氮气等组成,并且反应气体通过电弧(AC)形成等离子体。 [0091] 反应气体流路131与第二气体供给口137连接,沿框体110的周向连续。 反应气体注入孔132从反应气体通道131连接至壳体110内部,以连通反应气体通道131与壳体110的内部空间,以将反应气体注入壳体110内。 反应气体注入孔132可相对于壳体110的中心偏心,以产生旋流。 [0092]第一弧点AP1形成在电极120的外周表面上,第二弧点AP2形成在外壳110的内周表面上。第一弧点AP1由处理气体的旋转力形成。第二圆弧点AP2沿电极120的外周面移动,第二圆弧点AP2可沿壳体110的内周面移动。 第一电弧点AP1可向下移动并位于反应器102内。因此,电弧AC的一部分可位于外壳内且电弧AC的一部分可位于电抗器102内。 此外,第二弧点AP2可向下移动并位于反应器102内。 [0093] 反应器102具有大致圆柱形的形状并且连接至出口118。 分解空间CS形成在反应器102内部,其中容纳冷却水的冷却空间163可以形成在反应器102的壁表面内部。 冷却水入口161和冷却水出口162可连接到冷却空间163。 [0094] 此外,在反应器102中可以安装用于喷水的喷嘴150。 喷嘴150向分解空间CS喷射少量的水,在喷射水时,能够防止分解气体的再结合。 [0095] 以上,对本发明的一个实施方式进行了说明,但本领域的技术人员可以在不脱离权利要求书所记载的本发明的精神的范围内进行构成要素的追加、变更、删除、追加等。可以通过类似的方式进行各种修改和改变,并且这也被认为包括在本发明的范围内。 代码说明 [0096] 1000:洗涤器系统 100:洗涤器 101:等离子发生器 102:反应器 110:外壳 116:冷却装置 117:绝缘部件 118:排出口 120:电极 121:冷却水通道 132:反应气体注入孔 134:工艺气体通道 135:处理气体注入孔 136:第一供气口 137:第二供气口 138:冷却水入口 139:冷却水出口 141:第一供水管 142:第二供水管 143:支管 145:控制阀 150:喷嘴 160:磁铁 200:湿处理单元 400:湿塔