CN112230322B 有效 一种插损线性变化的带通滤光片的制备方法
本发明提供一种插损线性变化的带通滤光片的制备方法,包括:切割基层成型;镀前对基层进行超声波清洗;进行膜系设计;其中,膜系设计中堆叠在基层上的膜系的膜系结构包括若干个法布里‑帕罗腔及连接层,每个法布里‑帕罗腔通过连接层级联下一个法布里‑帕罗腔,连接层为非四分之一波长的光学厚度的低折射率层;根据膜系设计对每一膜层进行膜层厚度控制并镀膜;对镀制好的带通滤光片进行测试得到合格的带通滤光片。本发明能够制备插损线性变化的带通滤光片,该带通滤光片具备常规的滤光功能以外,该带通滤光片的通带插损或透过率具有线性变化,在通带内实现了在特定的波长范围内插损随波长是线性变化的,在特定的波长范围内实现波长识别的功能。
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专利时间轴
  • 29 Sep 2020 申请日
    CN/202011049798.0
    优先权
  • 29 Sep 2020 申请日
    CN/112230322
    当前专利 申请号
  • 07 Apr 2023 公开(公告)日期
    CN112230322B
    申请号
  • 07 Apr 2023 公开(公告)日期
    授权日
    CN112230322B
    当前专利 申请号
专利类型/受理局 PATENT( CN)
[标]当前申请(专利权)人 苏州众为光电有限公司
当前申请(专利权)人 苏州众为光电有限公司

215000 江苏省苏州市高新区向街8号

[标]原始申请(专利权)人 苏州众为光电有限公司
原始申请(专利权)人 苏州众为光电有限公司

215000 江苏省苏州市高新区向街8号

IPC分类号
IPC(8): G02B5/28C23C14/08C23C14/10C23C14/06C23C14/54 +5
技术主题分类
应用领域分类
发明人

苏炎

李昱

陈居凯

代理机构

北京远大卓悦知识产权代理有限公司 (孔凡玲)

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