1.一种插损线性变化的带通滤光片的制备方法，其特征在于，包括：
切割基层成型；其中基层采用折射率在1304.5-1317nm的范围为1.45至3.5的材料；
镀前对基层进行超声波清洗；
根据带通滤光片的目标性能进行膜系设计；其中，所述膜系设计中堆叠在所述基层上的膜系的膜系结构包括若干个法布里-帕罗腔及连接层，每个所述法布里-帕罗腔包括高折射率膜层和低折射率膜层交替堆叠；每个所述法布里-帕罗腔通过连接层级联下一个所述法布里-帕罗腔，所述连接层为非四分之一波长的光学厚度的低折射率层；
所述法布里-帕罗腔的结构为：aHLHL4HLHLH、bHLHLHLHL4HLHL3HLHLH、cHLHLHL4HLHLHLH、dHLHL4HLHLA，其中，dHLHL4HLHLA为最后一层法布里-帕罗腔；
H为四分之一中心波长光学厚度的高折射率层，L为四分之一中心波长光学厚度的低折射率层；4H为四个四分之一中心波长光学厚度，A为非四分之一光学厚度的高折射率层；a、b、c、d为每个所述法布里-帕罗腔的第一个高折射率层的四分之一中心波长光学厚度的系数；
所述连接层的光学厚度为0.675-2.451中的非整数个四分之一波长的光学厚度；
根据膜系设计对每一膜层进行膜层厚度控制并镀膜；
对镀制好的带通滤光片进行测试，得到合格的带通滤光片。
2.如权利要求1的插损线性变化的带通滤光片的制备方法，其特征在于，所述法布里-帕罗腔的第一个高折射率层的四分之一中心波长光学厚度的系数通过上一个所述法布里-帕罗腔的最后一层的光学厚度通过软件优化得出。
3.如权利要求1的插损线性变化的带通滤光片的制备方法，其特征在于，所述a、b、c、d为0.974-1.015，所述法布里-帕罗腔的第一个高折射率层的四分之一中心波长光学厚度为0.974-1.015个四分之一波长的光学厚度，以使此层结束时的透过率达到极值。
4.如权利要求1的插损线性变化的带通滤光片的制备方法，其特征在于，所述法布里-帕罗腔的数量为9个。
5.如权利要求1的插损线性变化的带通滤光片的制备方法，其特征在于，所述根据膜系设计对每一膜层进行膜层厚度控制并镀膜，包括：所述每个所述法布里-帕罗腔的第一层在镀膜监控中采用极值法监控，以便接下来的每一层四分之一波长的光学厚度的膜层都可以采用极值法监控。
6.如权利要求1的插损线性变化的带通滤光片的制备方法，其特征在于，所述根据膜系设计对每一膜层进行膜层厚度控制并镀膜，还包括：所述连接层采用晶控/时间的控制方法进行监控。
7.如权利要求1的插损线性变化的带通滤光片的制备方法，其特征在于，所述高折射率层的材料为Ta2O5、Nb2O5、TiO2中的至少之一，所述高折射率层的折射率在1304.5-1317nm的范围为1.85至2.5；所述低折射率层的材料为SiO2、Al2O3、MgF2中的至少之一，所述低折射率层的折射率在1304.5-1317nm的范围为1.38至1.6。
8.如权利要求1的插损线性变化的带通滤光片的制备方法，其特征在于，所述对镀制好的带通滤光片进行测试，得到合格的带通滤光片，所述合格的带通滤光片为在入射角度为0-13.5度下，波长的插损随波长线性地递增或递减。
9.如权利要求1的插损线性变化的带通滤光片的制备方法，其特征在于，所述对镀制好的带通滤光片进行测试，得到合格的带通滤光片，所述合格的带通滤光片为在入射角度为0-13.5度下，波长的插损在1304.5-1317nm波段范围内的插损以斜率0.3846dB/nm从-5dB递增至-0.2dB。
