本发明提供一种MEMS器件及其制备方法、电子装置，所述方法包括：提供基底，在基底上形成有第一牺牲层，在第一牺牲层上形成有振膜，在振膜上形成有第二牺牲层；在第二牺牲层上形成界面层；在第二牺牲层和界面层上形成第三牺牲层；在第三牺牲层上形成背板层，背板层中形成有释放孔；去除部分第二牺牲层和部分第三牺牲层，以形成空腔，使部分背板层悬置于振膜上方；在基底的第二表面形成背腔。本发明的方法通过设置界面层，在刻蚀时减少对于界面处材料的刻蚀损伤，从而改善界面性质，进而减少界面处裂缝。