1.一种中空介孔二氧化硅为包覆载菌核净的纳米颗粒的制备技术,其特点是,分为如下过程:①制备介孔二氧化硅(Mesoporous Silica Nanoparticles,MSNs):将十六烷基三甲基氯化铵(Hexadecyltrimethylammonium chloride,CTAC)溶液、乙醇、三乙醇胺(Triethanolamine,TEA)分别添加于去离子水中,通过高温下混合,并在室温稳定后缓慢而匀速的逐滴添加正硅酸四乙酯(Tetraacetoxysilane,TEOS)溶液使之充分反应,在高速混合后离心洗涤,并在与所得物质回流处理之后,进一步离心洗涤,并在通过冷冻干燥之后制备介孔二氧化硅,②制备中空介孔二氧化硅:将步骤①中得到的介孔二氧化硅加入到去离子水中,在高温下搅拌,随后离心洗涤,冷冻干燥,得到中空介孔二氧化硅,③制备Dim@HMSNs:先将菌核净(Dimethachlon,Dim)加入到乙醇中使其充分溶解,再加入一定量的中空介孔二氧化硅通过一锅法制备得到Dim@HMSNs。

4.根据权利要求1所述的中空介孔二氧化硅为包覆载菌核净的纳米颗粒的制备技术,其特点是,中空介孔二氧化硅为包覆载菌核净的纳米粒子的生产技术,所述步骤②中,将合成得到的介孔二氧化硅加入到100mL的去离子水中,在60～80℃的温度下持续搅拌24h,随后离心收集沉淀,用去离子水洗涤3次,上述离心条件为离心时间15min转速8000r/min,即得到中空介孔二氧化硅。