【技术领域】 【0001】 磁带、盒式磁带和磁带装置 技术领域 本发明涉及磁带、盒式磁带和磁带装置。 【背景技术】 【0002】 磁记录介质包括带状和盘状磁记录介质,带状磁记录介质即磁带主要用于数据备份、归档等数据存储应用(如专利文献1、2) ). [现有技术文件] 【专利文献】 【0003】 【专利文献1】 JP 2016-524774 A [专利文献2] US2019/0164573A1 【发明概要】 【发明要解决的问题】 【0004】 磁记录介质总是需要进一步提高其电磁转换特性。 因此,需要能够表现出优异的电磁转换特性的磁带。 【0005】 另一方面,在磁带上记录数据通常是通过在磁带装置中运行磁带并使磁头跟随磁带的数据带以在数据带上记录数据来执行的。 从而在数据带中形成数据轨道。 再现记录数据时,磁带在磁带装置中运行,磁头跟随磁带的数据带读取记录在数据带上的数据。 【0006】 如上所述,为了提高磁头在记录和/或再现期间跟踪磁带数据带的精度,使用伺服信号执行磁头跟踪的系统(以下称为“伺服系统”)是used. 已投入实际使用。 另外,利用伺服信号获取运行磁带宽度方向的尺寸信息(收缩、扩张等),并根据获取的尺寸信息调整磁头模块的轴向。已经提出改变相对于宽度方向的倾斜角度(以下也称为“头倾斜角度”)(参见专利文献1和2,例如,专利文献1的0059至0067段和0084段) .)。 在记录或重放过程中,如果用于记录或重放数据的磁头因磁带宽度变形而偏离目标磁道位置,则记录或重放数据可能会导致记录数据被覆盖或重放有缺陷的现象发生。 本发明人认为,如上所述改变磁头倾斜角是抑制这种现象发生的一种手段。 【0007】 例如,假定磁头倾斜角如上所述改变,当以不同的磁头倾斜角记录和/或再现数据时,希望磁带具有高运行稳定性。 这是因为认为磁带的高运行稳定性可以导致例如进一步抑制上述现象的发生。 【0008】 顺便说一句,近年来,磁带有时被用于控制温度和湿度的数据中心。 另一方面,数据中心需要节省电力以降低成本。 为了省电,希望在数据中心中使用磁带的环境的管理条件比现在更宽松,或者不需要管理。 然而,如果放宽使用环境的管理条件或不进行管理,则假设磁带将用于例如高温高湿环境中。 因此,当在高温高湿环境下以不同的磁头倾斜角度记录和/或再现数据时,希望具有运行稳定性优异的磁带。 【0009】 本发明的一个方面是一种磁带,当在高温高湿环境中以不同的磁头倾斜角度记录和/或再现数据时,可以表现出优异的电磁转换特性并且具有优异的运行稳定性。 [解决问题的方法] 【0010】 本发明的一个方面是 一种具有非磁性载体和含有铁磁粉的磁性层的磁带, 磁带的垂直开关场分布 (SFD) 为 1.5 或更小, 在温度32℃、相对湿度80%的环境中, LTO (Linear Tape-Open) 8 磁头在磁头倾斜角度为 45° 时测量的磁层表面上的摩擦力 F _45° 等于或大于 4gf 且等于或小于 15gf,并且 在磁头倾斜角度为 0°、15°、30° 和 45° 时测量的 LTO8 磁头磁层表面摩擦力 F 的标准偏差。)为 10 gf 或更小,磁带, 关于。 在下文中,磁带的垂直切换磁场分布SFD也被称为“垂直SFD”。 【0011】 在一种形式中,F的标准偏差可为2gf或更大且10gf或更小。 【0012】 在一种形式中,垂直SFD可为0.5或更大且1.5或更小。 【0013】 在一个实施例中,磁带纵向上的弯曲量的标准偏差(以下也简称为“弯曲量的标准偏差”)可以是5mm/m或更小。 【0014】 在一种形式中,磁性层可以包含无机氧化物颗粒。 【0015】 在一种形式中,基于无机氧化物的颗粒可以是无机氧化物和聚合物的复合颗粒。 【0016】 在一种形式中,磁性层可以包含炭黑。 【0017】 在一种形式中,磁带可以在非磁性载体和磁性层之间具有包含非磁性粉末的非磁性层。 【0018】 在一种形式中,磁带可以在与非磁性载体的具有磁性层的表面侧相反的表面侧具有包含非磁性粉末的背涂层。 【0019】 在一种形式中,磁带的磁带厚度可为5.2μm或更小。 【0020】 本发明的一个方面涉及一种包括上述磁带的盒式磁带。 【0021】 本发明的一个方面涉及一种包括上述磁带的磁带装置。 【0022】 在一种形式中,磁带装置还可以包括磁头, 磁头可具有模块,该模块包括元件阵列,该元件阵列具有在一对伺服信号读取元件之间的多个磁头元件, 当磁带在磁带装置中运行时,磁带装置可以改变由元件阵列的轴相对于磁带的宽度方向形成的角度θ。 【发明效果】 【0023】 根据本发明的一个方面,提供一种磁头,当在高温和高湿环境中以不同的磁头倾斜角度记录和/或再现数据时,该磁头可以表现出优异的电磁转换特性并且具有优异的运行稳定性。可以提供。 此外,根据本发明的一个方面,可以提供一种磁带盒和一种装有上述磁带的磁带装置。 【图纸简要说明】 【0024】 【图1】 附图说明图1是表示磁头的模块的一个例子的示意图。 【图2】 图4是磁带装置中磁带走动时的模块与磁带的相对位置关系的说明图。 [图3] 图10是关于磁带行走中的角度θ的变化的说明图。 【图4】 图4是磁带长度方向的弯曲量的说明图。 [图5] 显示了数据带和伺服带的示例布置。 [图6] 显示了 LTO(线性磁带开放)Ultrium 格式磁带的伺服模式排列示例。 [图7] 图4是磁带行走时的角度θ的测定方法的说明图。 [图8]附图说明图1是表示磁带装置的一例的概略图。 [实施发明的方式] 【0025】 [磁带] 本发明的一个方面涉及一种具有非磁性载体和含有铁磁粉末的磁性层的磁带。 磁带的垂直开关磁场分布SFD(perpendicular SFD)为1.5以下。 此外,在温度为 32°C、相对湿度为 80% 的环境中,摩擦力 F _45° 大于等于4gf且小于等于15gf,并且在磁头倾斜角为0°、15°、30°和45°时测量的LTO8磁头在磁层表面上的摩擦力F的标准偏差为10gf或较少的。 在本发明和本说明书中,术语“磁性层的(the)表面”与磁带的磁性层侧表面同义。 关于单位,“gf”表示克力,1N(牛顿)约为102 gf。 【0026】 <垂直SFD> 在本发明和本文中,磁带的垂直开关场分布SFD(perpendicular SFD)是在磁带的垂直方向上测量的开关场分布。 开关场分布所描述的“垂直方向”是与磁性层表面正交的方向,也可以称为厚度方向。 在本发明和本说明书中,磁带的垂直切换磁场分布SFD是使用振动样品磁强计在25℃的测量温度下通过以下方法获得的值。 从要测量的磁带上切下测量用样品片。 样品片可以具有任何尺寸,只要它能够被引入用于测量的振动样品磁强计中即可。 使用振动样品磁强计,在 3979kA/m 的最大外加磁场、25°C 的测量温度和 8.3kA/m/sec 的磁场扫描速率下测量这样的样品片。测量样品在最大外加磁场下的磁化强度。 测量值应减去作为背景噪声的振动样品磁强计样品探头的磁化强度。 在通过这种测量获得的磁场-磁化曲线(称为“M-H曲线”)中,磁化强度M变为零时的磁场大小H被定义为矫顽力Hc(单位:Oe)。 此外,HPW(单位:Oe)是当磁化相对于磁场微分时在微分曲线中看到的峰中在高于2000Oe的磁场中的峰的半值宽度。 “HPW”是半峰宽的缩写。 SFD 由 SFD=HPW/Hc 获得。 注意单位是1Oe(1奥斯特)=79.6A/m。 测得的温度就是样品的温度。 通过将样品件周围的环境温度设置为测量温度(25℃),建立温度平衡并且可以将样品件的温度设置为测量温度(25℃)。 【0027】 从提高电磁转换特性的观点来看,磁带的垂直SFD为1.5以下,优选为1.3以下,更优选为1.0以下。 磁带的垂直SFD可以是例如大于或等于0.1、大于或等于0.3、或大于或等于0.5,或者可以小于本文示例的值。 从进一步提高电磁转换特性的观点来看,小的垂直SFD值是优选的。 磁带的垂直SFD可以通过已知的方法控制,例如调整垂直取向处理条件。 【0028】 <头部倾斜角度> 接下来,在描述磁头倾斜角时,将首先描述LTO8磁头。 此外,认为通过在磁带运行时使磁头的模块的轴向相对于磁带的宽度方向倾斜可以抑制在记录或再现期间发生的上述现象的原因. 下面解释。 在本发明和本说明书中,“LTO8磁头”是符合LTO8标准的磁头。 对于摩擦力的测量,可以取出并使用安装在LTO8驱动器上的磁头,或者可以使用市售的磁头作为用于LTO驱动器的磁头。 这里,LTO8驱动器是符合LTO8标准的驱动器(磁带设备)。 LTO9硬盘是符合LTO9标准的硬盘,其他各代硬盘同理。 另外,LTO8磁头在磁头倾斜角度分别为0°、15°、30°和45°时测量磁层表面的摩擦力F时,新的(即未使用过的)应使用LTO8磁头。 考虑到LTO8标准是可以应对近期高密度记录的标准,采用LTO8作为磁头进行摩擦力测量,上述磁带用于LTO8驱动器,不限于 数据可通过LTO8驱动器在磁带上记录和/或再现,数据可通过LTO9驱动器或下一代驱动器或LTO7等记录和/或再现。数据可被记录和/或播放回到 LTO8 之前的一代驱动器上。 【0029】 LTO8磁头具有三个模块,每个模块包括一个元件阵列,该元件阵列具有在一对伺服信号读取元件之间的多个磁头元件。 三个模块以“记录模块-再现模块-记录模块”的排列方式排列在LTO8磁头中(模块总数:3)。 【0030】 每个模块包括一个元件阵列,该元件阵列在一对伺服信号读取元件之间具有总共32个磁头元件。 具有记录元件作为磁头元件的模块是用于在磁带上记录数据的记录模块。 具有作为磁头元件的再现元件的模块是用于再现记录在磁带上的数据的再现模块。 在 LTO8 磁头中,三个模块排列成每个模块的元件阵列的轴平行。 这种“平行”并不一定只是严格意义上的平行,而是包括本发明所属技术领域通常允许的误差范围。 误差幅度可能意味着,例如,严格平行度小于 ±10° 的范围。 【0031】 摩擦力测量中的磁头倾斜角是LTO8磁头的再现模块中的磁头倾斜角。 【0032】 在每个元件阵列中,一对伺服信号读取元件和多个磁头元件(即,记录元件或再现元件)线性间隔开。 这里,“线性布置”是指每个磁头元件布置在连接一个伺服信号读取元件的中心部分和另一个伺服信号读取元件的中心部分的直线上。 在本发明和本说明书中,“元件阵列的轴线”是指连接一个伺服信号读取元件的中心部分和另一个伺服信号读取元件的中心部分的直线。 【0033】 接下来,将参照附图进一步描述模块的配置等。 然而,附图中所示的形式是示例而不是限制本发明。 【0034】 图1是表示磁头模块的一个例子的示意图。 图1所示的模块在一对伺服信号读取元件(伺服信号读取元件1和2)之间具有多个磁头元件。 磁头元件也称为“通道”。 图中的“Ch”是Channel的缩写。 图1所示的模块具有总共32个磁头元件Ch0至Ch31。 LTO8磁头的重放模块从Ch0到Ch31共有32个重放单元。 【0035】 在图1中,“L”是一对伺服信号读取元件之间的距离,即一个伺服信号读取元件与另一个伺服信号读取元件之间的距离。 在图1所示的模块中,“L”为伺服信号读取元件1和伺服信号读取元件2之间的距离。 具体为伺服信号读取元件1的中心部分与伺服信号读取元件2的中心部分之间的距离。 这种距离可以例如通过光学显微镜等测量。 【0036】 图2是磁带装置中的磁带走行时的模块与磁带的相对位置关系的说明图。 在图2中,虚线A表示磁带的宽度方向。 虚线 B 表示元素数组的轴。 角度θ可以说是磁带运行过程中磁头的倾斜角度,是虚线A和虚线B所成的角度。 当磁带运行且角度θ为0°时,元件阵列中的一个伺服信号读取元件与另一个伺服信号读取元件之间在磁带宽度方向上的距离(以下简称“有效距离”)伺服信号读取元件)为“L”。 另一方面,当角度θ超过0°时,伺服信号读取元件之间的有效距离为“Lcosθ”,并且Lcosθ变得小于L。 即,“L cos θ【0037】 如上所述,在记录或重放数据时,如果由于磁带的宽度变形,用于记录或重放数据的磁头偏离目标磁道位置,则可能会导致记录的数据丢失、数据覆盖和重放不良等现象可能发生。 例如,如果磁带的宽度缩小或扩大,则可能发生应在目标磁道位置记录或再现的磁头元件在不同的磁道位置记录或再现的现象。 进一步地,当磁带的宽度扩大时,伺服信号读取元件之间的有效距离变为两个相邻伺服带之间的间隔,数据带介于其间(也称为“伺服带间隔”或“伺服带间隔”)。 ”。 具体来说,就是两个伺服带在磁带宽度方向上的距离。 另一方面,如果元件阵列以大于0°的角度θ倾斜,则伺服信号读取元件之间的有效距离变为如上所述的“Lcosθ”。 θ值越大,L cos θ值越小,θ值越小,L cos θ值越大。 因此,根据磁带宽度方向的尺寸变化程度(即收缩或膨胀)改变θ的值,可以使伺服信号读取元件之间的有效距离接近或等于伺服带的间距。是可能的。 结果,在记录或再现数据时,用于记录或再现数据的磁头由于磁带的宽度变形而偏离目标磁道位置。可以防止诸如缺陷等现象的发生,或者减少发生频率。 【0038】 图3是关于磁带走行时角度θ的变化的说明图。 θ 为开始运行时的角度 θ _initial 例如,可以设置为大于或等于 0°。 在图3中,中央的图表示模块开始运行时的状态。 在图 3 中,右图显示了角度 θ _initial 角度 θ,这是较大的角度 _c 它显示模块的状态时 伺服信号读取元件之间的有效距离Lcosθ _c 是磁带开始运行时的 Lcosθ _initial 较小的值。 当磁带的宽度在磁带行进期间收缩时,最好进行这种角度调整。 另一方面,在图 3 中,左图表示角度 θ _initial 角度 θ,这是较小的角度 _e 它显示模块的状态时 伺服信号读取元件之间的有效距离Lcosθ _e 是磁带开始运行时的 Lcosθ _initial 一个更大的价值。 如果磁带的宽度在磁带行进期间扩大,则最好进行这种角度调整。 【0039】 如上所述,在磁带运行时改变磁头的倾斜角度会导致用于记录或再现数据的磁头由于磁带在记录或再现期间的宽度变形而偏离目标磁道位置。这有助于防止由于数据的记录或再现而导致的记录数据的覆盖和缺陷再现等现象的发生,或者可以有助于减少此类事件发生的频率。 另一方面,在磁带上记录数据和再现记录数据通常是通过使磁带的磁性层表面和磁头彼此接触并滑动它们来进行的。 本发明人认为,如果在这种滑动期间磁头的倾斜角发生变化,则磁头与磁性层表面之间的接触状态可能会发生变化,这可能是降低运行稳定性的一个因素。 具体地,如果磁带的磁层表面与磁头的接触状态(例如磁头的模块边缘附近的部分与磁层表面的接触状态)由于以下原因而发生显着变化:磁头倾斜角度的差异,本发明人推测行驶稳定性会降低,并且行驶稳定性的降低在高温高湿环境下会更加显着。 基于以上推测,本发明的发明人进行了广泛的研究。 因此,关于磁带的摩擦特性,在温度为 32°C、相对湿度为80% _45° LTO8磁头在磁头倾斜角分别为0°、15°、30°和45°时测量的磁层表面摩擦力F的标准偏差在上述范围内。本发明人新发现当在潮湿环境中以不同的头部倾斜角度记录和/或再现数据时,可以提高运行稳定性。 采用测量环境的温度和湿度作为高温高湿环境温度和湿度的示例值。 因此,在磁带上记录数据和再现所记录的数据的环境不限于上述温度和湿度环境。 测量摩擦力时磁头的倾斜角也被用作当磁带运行时通过改变磁头的倾斜角来记录和/或再现数据时可以采用的角度的示例值。 因此,在磁带上记录数据和再现记录数据时磁头的倾斜角度不限于上述角度。 此外,本发明不受这里描述的发明人的推测的限制。 在下文中,当磁带在高温高湿环境中运行时通过改变磁头倾斜角度来记录和/或再现数据时的运行稳定性也简称为“运行稳定性”。 此外,高温高湿环境例如可以是30~50℃左右的温度环境。 环境的湿度可以是例如约70至100%的相对湿度。 在本发明和本文中,针对环境描述的温度和湿度是该环境的环境温度和相对湿度。 【0040】 在本发明和本说明书中,头部倾斜角度为0°、15°、30°和45°时的摩擦力的测量应在温度32°C和相对湿度80%的环境中通过以下方法进行。 另外,摩擦力测量头的倾斜角是LTO8头的再现模块的元件阵列的轴线相对于以下100次往复滑动的第一次正向通过中的滑动方向垂直的方向. 它应该意味着一个角度。 该角度为A与B所成的角度θ,图2中的A为与滑动方向正交的方向。 在 100 次往复滑动期间,头部的倾斜角度是固定的。 将待测磁带放置在两个直径为1英寸(1英寸=2.54厘米)的圆柱形导辊上,两个导辊相互间隔开,相互平行,使磁层表面处于与他们联系。 在要测量的磁带的随机选择部分,磁带的磁层表面相对于 LTO8 磁头滑动,磁头倾斜角度设置为 0°、15°、30° 或 45°。应变计检测在产生的阻力 往复滑动100次。 测量条件是6°的包角θ和30mm/秒的滑动速度。 滑动时磁带纵向施加的张力为0.55N。 每次向前和向后移动的滑动距离应为 5 厘米。 将第 100 次向前通过时的动摩擦力作为每个头部倾斜角度的摩擦力。 上述测量时,将被测磁带纵向的一端连接应变片,另一端施加0.20N的拉力。 这里给出的张力是 T ₀ (单位:N),应变片检测到的阻力为T(单位:N),则摩擦力F值按下式计算。 即这里的摩擦力F为T ₀ =0.20。 以任意顺序在待测磁带的不同部分上执行四个磁头倾斜角处的摩擦力F的测量。 另外,在每次测量之前,将待测磁带如上所述放置在导辊上并放置24小时或更长时间以适应测量环境。 由上述四个头部倾斜角度下的摩擦力F的值计算出一个标准偏差(即方差的正平方根)。 【0041】 【数字】 【0042】 <摩擦力F _45° ,摩擦力的标准差F> 关于磁带的摩擦特性,从提高在高温高湿环境下以不同的磁头倾斜角度记录和/或再现数据时的运行稳定性的观点来看,摩擦力F _45° 为 4 gf 或更多且 15 gf 或更少。 从进一步提高行驶稳定性的观点来看,摩擦力F _45° 优选为14gf以下,更优选为13gf以下,进一步优选为12gf以下,进一步优选为11gf以下。 摩擦力F _45° 从进一步提高行驶稳定性的观点来看,为4gf以上,优选为5gf以上。 LTO8磁头在磁头倾斜角度分别为0°、15°、30°和45°时测量的磁层表面摩擦力F的标准差,表明不同磁头倾斜角度下的记录和/或播放在高温高湿环境下。从提高执行时的运行稳定性的观点来看,其为10gf以下,优选为9gf以下,更优选为8gf以下,甚至更优选为7gf以下,甚至更多优选为6gf以下,优选为5gf以下,进一步优选为4gf以下。 标准偏差可以是例如0gf或更大、0gf或更大、1gf或更大、或2gf或更大。 从进一步提高行驶稳定性的观点来看,优选标准偏差的值小。 磁带的摩擦特性可以通过例如用于生产磁性层的组分的类型来调节。 稍后将描述这一点的细节。 【0043】 <弯曲量的标准偏差> 接着,对弯曲量的标准偏差进行说明。 在本发明和本说明书中,磁带在纵向的弯曲量是在环境温度为23℃和相对湿度为50%的环境中通过以下方法获得的值。 磁带通常分布在磁带盒中。 从未安装到磁带设备的未使用的磁带盒中取出的磁带用作待测量的磁带。 图4是磁带纵向的弯曲量的说明图。 从待测磁带的随机选择部分切下纵向长度为 100 m 的磁带样本。 该胶带样品的一端定义为0米位置,并且从该一端到另一端在纵向方向上相距Dm(D米)的位置定义为Dm位置。 因此,纵向相隔10m的位置为10m位置,相距20m的位置为20m位置,依次为10m位置、30m位置、40m位置、50m位置、60m位置、 70m位置、80m位置、90m位置、100m位置确定。 从0m位置到1m位置剪出1m长的胶带样本。 该胶带样品用作用于测量0m位置处的弯曲量的胶带样品。 从 10m 位置到 11m 位置切割 1m 长的胶带样本。 该胶带样品用作用于测量10m位置处的弯曲量的胶带样品。 将 1m 长的胶带样本从 20m 位置切割到 21m 位置。 该胶带样品用作用于测量20m位置处的弯曲量的胶带样品。 从 30m 位置到 31m 位置切割 1m 长的胶带样本。 该胶带样品用作用于测量30m位置处的弯曲量的胶带样品。 从 40m 位置到 41m 位置切割 1m 长的胶带样本。 该胶带样品用作用于测量40m位置处的弯曲量的胶带样品。 从 50m 位置到 51m 位置切割 1m 长的胶带样本。 该胶带样品用作用于测量50m位置处的弯曲量的胶带样品。 将 1m 长的胶带样品从 60m 切割到 61m。 该胶带样品用作用于测量60m位置处的弯曲量的胶带样品。 从 70m 位置到 71m 位置切割 1m 长的胶带样本。 该胶带样品用作用于测量70m位置处的弯曲量的胶带样品。 将 1m 长的胶带样本从 80m 位置切割到 81m 位置。 该胶带样品用作用于测量80m位置处的弯曲量的胶带样品。 将 1m 长的胶带样品从 90m 切割到 91m。 该胶带样品用作用于测量90m位置处的弯曲量的胶带样品。 将 1m 长的胶带样本从 99m 位置切割到 100m 位置。 该胶带样品用作用于测量100m位置处的弯曲量的胶带样品。 各位置的胶带样品在上端用保持部件(夹子等)保持纵向为垂直方向,并在无张力状态下悬挂24小时±4小时。 然后,在 1 小时内,执行以下测量。 将这块胶带放在没有张力的平面上,如图 4 所示。 可以将胶带片放置在平坦的表面上,磁性层的表面朝上,或者可以放置在平坦的表面上,另一表面朝上。 在图4中,S表示胶带样品,W表示胶带样品的宽度方向。 使用光学显微镜,在胶带样品S的纵向上,距离L1(单位:mm),其为连接胶带样品S的两端52和53的虚线54与最大弯曲部分之间的最短距离55 测量 图4显示了纸面上向上弯曲的例子。 当它向下弯曲时,距离 L1 (mm) 也以相同的方式测量。 无论哪一侧是弯曲的,距离L1都显示为正值。 如果未观察到纵向弯曲,则 L1 应为 0(零)mm。 因此,从0米到100米共11个位置测得的曲率L1的标准差(即方差的正平方根)即为曲率量的标准差。被测磁带纵向的曲率(单位:mm/m)。 【0044】 上述磁带中,通过上述方法求出的弯曲量的标准偏差例如可以设为7mm/m以下、6mm/m以下,从进一步提高运行稳定性的观点出发,为5mm/m以下,优选为4mm/m以下,进一步优选为3mm/m以下。 磁带的弯曲量的标准偏差可以是例如0mm/m或更大、0mm/m或更大、1mm/m或更大、或2mm/m或更大。 从进一步提高行驶稳定性的观点来看,优选弯曲量的标准偏差的值小。 另外,从进一步提高电磁转换特性的观点出发,优选弯曲量的标准偏差的值小。 同样从这个观点来看,优选的是弯曲量的标准偏差在上述范围内。 弯曲量的标准偏差可以通过调整磁带制造过程的制造条件来控制。 稍后将描述这一点的细节。 【0045】 下面将更详细地描述磁带。 【0046】 <磁性层> (铁磁粉) 作为包含在磁性层中的强磁性粉末,可以使用被称为用于各种磁记录介质的磁性层中的强磁性粉末的强磁性粉末中的一种或两种以上的组合。 从提高记录密度的观点出发,优选使用平均粒径小的强磁性体粉末。 从这一点出发,强磁性粉末的平均粒径优选为50nm以下、更优选为45nm以下、进一步优选为40nm以下、进一步优选为35nm以下、30nm以下。更优选为25nm以下,进一步优选为20nm以下。 另一方面,从磁化稳定性的观点来看,强磁性粉末的平均粒径优选为5nm以上,更优选为8nm以上,进一步优选为10nm以上、15nm以上。优选,更优选20nm以上。 【0047】 六角晶系铁氧体粉末 铁磁粉末的优选具体实例是六方晶系铁氧体粉末。 关于六角晶系铁氧体粉末的详细内容,例如参照JP-A-2011-225417的0012~0030段、JP-A-2011-216149的0134-0136段、JP-A-2012-的0013-0030段等。可以参考JP-A-2015-127985的204726和0029至0084段。 【0048】 在本发明和本说明书中,“六方晶系铁氧体粉末”是指通过X射线衍射分析检测到六方晶系铁氧体的晶体结构为主相的铁磁性粉末。 主相是指在通过X射线衍射分析得到的X射线衍射光谱中具有最高强度的衍射峰的结构。 例如,当通过X射线衍射分析获得的X射线衍射光谱中的最高强度衍射峰归因于六方晶系铁氧体的晶体结构时,确定检测到六方晶系铁氧体的晶体结构为主相.做。 当通过X射线衍射分析仅检测到单一结构时,将该检测到的结构作为主相。 六方晶系铁氧体的晶体结构至少包含铁原子、二价金属原子和氧原子作为构成原子。 二价金属原子是可以作为离子变成二价阳离子的金属原子,其实例包括碱土金属原子如锶、钡和钙原子,以及铅原子。 在本发明及说明书中,六方晶系铁酸锶粉是指该粉体中所含的主要二价金属原子为锶原子,六方晶系铁酸钡粉体是指该粉体中所含的主要二价金属原子为钡原子作为二价原子。金属原子。 主要二价金属原子是粉末中所含的二价金属原子中以原子%计占最大量的二价金属原子。 然而,上述二价金属原子不包括稀土原子。 本发明和本文中的“稀土原子”选自钪原子(Sc)、钇原子(Y)和镧系原子。 镧系原子包括镧原子(La)、铈原子(Ce)、镨原子(Pr)、钕原子(Nd)、钷原子(Pm)、钐原子(Sm)、铕原子(Eu)、钆原子(Gd) 、铽原子(Tb)、镝原子(Dy)、钬原子(Ho)、铒原子(Er)、铥原子(Tm)、镱原子(Yb)和镥原子(Lu)。 【0049】 下面将更详细地描述作为六方晶系铁氧体粉末的一种形式的六方晶系锶铁氧体粉末。 【0050】 六方锶铁氧体粉体的活化体积优选为800~1600nm ³ 在范围内 活化体积在上述范围内的细碎六方晶系锶铁氧体粉末适用于制造具有优异电磁转换特性的磁带。 六方锶铁氧体粉体的活化体积优选为800nm ³ 以上,例如850nm ³ 它可以超过。 另外,从进一步提高电磁转换特性的角度来看,六方锶铁氧体粉体的活化体积为1500 nm ³ 更优选为1400nm以下 ³ 更优选1300nm或更小 ³ 更优选 1200 nm ³ 甚至更优选1100nm或更小。 ³ 更优选的是: 六方晶系钡铁氧体粉体的活化体积也是如此。 【0051】 “活化体积”是磁化反转的单位,是表示粒子磁性大小的指标。 本发明和本说明书中描述的活化体积和各向异性常数Ku是在矫顽力Hc测量单元(测量温度:23℃±1)下使用振动样品磁强计以磁场扫描速度3分钟和30分钟测量的。 °C),这是从 Hc 和活化体积 V 之间的以下关系表达式获得的值。 1erg/cc=1.0×10 各向异性常数Ku的单位 ^-1 焦耳/米 ³ 是。 Hc=2Ku/Ms{1-[(kT/KuV)ln(At/0.693)] ^1/2} 【上式中,Ku:各向异性常数(单位:J/m ³ ), Ms:饱和磁化强度(单位:kA/m),k:玻尔兹曼常数,T:绝对温度(单位:K),V:激活体积(单位:cm ³ ), A: 自旋进动频率(单位:s ^-1 ), t: 磁场反转时间(单位: s)] 【0052】 可以引用各向异性常数Ku作为降低热波动,换句话说,提高热稳定性的指标。 六方锶铁氧体粉最好是1.8×10 ⁵ 焦耳/米 ³ 它可以具有 2.0 x 10或更多的 Ku,最好是 2.0 x 10 ⁵ 焦耳/米 ³ 您可以让 Ku 大于或等于 六方锶铁氧体粉体的Ku例如为2.5×10 ⁵ 焦耳/米 ³ 可: 然而,Ku值越高,热稳定性越高,这是优选的。 【0053】 六方锶铁氧体粉末可以含有也可以不含稀土原子。 当六方晶系铁酸锶粉末含有稀土原子时,相对于100原子%的铁原子,优选含有0.5~5.0原子%的稀土原子(体积含量)。 在一种形式中,含有稀土原子的六方锶铁氧体粉末可以在表层具有不均匀分布的稀土原子。 在本发明和本说明书中,术语“表层稀土原子分布不均”是指稀土原子含量(以下简称“表层稀土原子含量”或简称为“表层含量”)。稀土原子。)是用酸完全溶解六方晶系铁酸锶粉末得到的溶液中铁原子的100原子%。(以下简称“稀土原子体积含量”或简称“体积含量”相对于稀土原子)和 稀土原子表层含量/稀土原子体积含量>1.0 意味着比率 后述的六方晶系铁酸锶粉末的稀土原子含有率与稀土原子整体含有率同义。 另一方面,由于使用酸的部分溶解溶解构成六方晶系铁酸锶粉末的粒子的表层,因此部分溶解得到的溶液中的稀土原子含量为表层的稀土原子含有率粒子的层部分。 如果稀土原子表层含量比满足“稀土原子表层含量/稀土原子体积含量>1.0”的比值,则稀土原子在构成颗粒的表层分布不均。六方锶铁氧体粉(也就是说里面的多)。 在本发明和本说明书中,术语“表层部分”是指构成六方晶系锶铁氧体粉末的颗粒从表面向内部延伸的部分区域。 【0054】 六方晶系铁酸锶粉末含有稀土原子时,相对于铁原子100原子%,稀土原子的含量(体积含量)优选为0.5~5.0原子%的范围。 稀土原子以上述范围的体积含量包含并且稀土原子不均匀地分布在构成六方晶系锶铁氧体粉末的颗粒的表层中的事实有助于抑制重复再现期间再现输出的降低. 可想而知。 这是因为六方晶系锶铁氧体粉末含有体积含量在上述范围内的稀土原子,并且稀土原子不均匀分布在构成六方晶系锶铁氧体粉末的颗粒的表层中。推测这是由于事实上 各向异性常数Ku越高,越能够抑制称为热波动的现象的发生(换言之,能够提高热稳定性)。 通过抑制热波动的发生,可以抑制在重复再现中再现输出的降低。 六方锶铁氧体粉体表层稀土原子的不均匀分布有助于稳定表层晶格中铁(Fe)位的自旋,推测会增加。 此外,据推测,使用表层稀土原子不均匀分布的六方晶系锶铁氧体粉末作为磁性层的强磁性粉末有助于抑制磁性层表面因与磁性体滑动而引起的磨损。头。是。 即,推测稀土原子不均匀地分布在表层的六方晶系锶铁氧体粉末有助于提高磁带的运行耐久性。 这是因为稀土原子在构成六方锶铁氧体粉末的颗粒表面上的不均匀分布改善了颗粒表面与磁性层中包含的有机物质(例如粘合剂和/或添加剂)之间的相互作用。结果,提高了磁性层的强度。 从抑制反复再现时的再现输出降低的观点和/或进一步提高运行耐久性的观点出发,稀土类原子含量(总含量)更优选为0.5~4.5原子%的范围,更优选为0.5~4.5原子%的范围。在1.0至4.5原子%的范围内,甚至更优选在1.5至4.5原子%的范围内。 【0055】 上述体积含量是六方晶系铁酸锶粉末完全溶解后的含量。 在本发明和本说明书中,除非另有说明,原子含量是指六方晶系铁酸锶粉体完全溶解后的体积含量。 含有稀土原子的六方晶系锶铁氧体粉末可以仅含有一种稀土原子作为稀土原子,也可以含有两种以上的稀土原子。 当含有两种或多种稀土原子时,上述总含量是两种或多种稀土原子的总和。 这一点也适用于本发明和本说明书中的其他组件。 也就是说,除非另有说明,可以仅使用一种成分,或者可以使用两种或更多种成分。 当使用两种或多种类型时,含量或含量率是指两种或多种类型的总和。 【0056】 当六方晶系铁酸锶粉中含有稀土原子时,所含的稀土原子可以为一种或多种稀土原子。 从抑制反复再现时的再现输出降低的观点出发,优选的稀土类原子有钕原子、钐原子、钇原子和镝原子,更优选为钕原子、钐原子和钇原子,进一步优选为钕原子。 【0057】 在表层稀土原子不均匀分布的六方晶系锶铁氧体粉末中,稀土原子可以在构成六方晶系铁酸锶粉末的颗粒的表层不均匀分布,不均匀分布的程度没有限制。 例如,对于表层稀土原子分布不均匀的六方晶系锶铁氧体粉末,在后述的熔融条件下部分溶解得到的稀土原子和在熔融条件下完全溶解得到的稀土原子的表层含量后述条件原子与体积含量之比“表层含量/体积含量”大于1.0并且可以为1.5或更大。 当“表层含量/体积含量”大于1.0时,表示构成六方晶系锶铁氧体粉末的颗粒中稀土原子在表层分布不均匀(即存在多于内部)。 另外,在后述的溶解条件下部分溶解得到的稀土原子的表层含量与在后述的溶解条件下完全溶解得到的稀土原子的体积含量之比为“表层含量/” “体积含量”可以是例如10.0或更小、9.0或更小、8.0或更小、7.0或更小、6.0或更小、5.0或更小、或4.0或更小。 然而,在表层稀土原子不均匀分布的六方晶系锶铁氧体粉末中,构成六方晶系锶铁氧体粉末的颗粒的表层稀土原子应该是不均匀分布的。“比例”不限于所例示的。上限或下限。 【0058】 下面介绍六方晶系锶铁氧体粉末的部分溶解和完全溶解。 对于以粉末形式存在的六方晶系锶铁氧体粉末,部分溶解样品粉末和完全溶解样品粉末取自同一批粉末。 另一方面,对于磁带的磁性层中所含的六方晶系锶铁氧体粉末,从磁性层中取出的六方晶系锶铁氧体粉末的一部分被部分熔化,另一部分被完全熔化. 六方晶系锶铁氧体粉末可以例如通过JP-A-2015-91747的0032段中描述的方法从磁性层中取出。 上述部分溶解是指溶解到在溶解结束时可以在液体中目视确认残留六方晶系铁酸锶粉末的程度。 例如,通过部分溶解,构成六方晶系锶铁氧体粉末的颗粒的10~20质量%的区域可以溶解,基于100质量%的全部颗粒。 另一方面,上述完全溶解是指六方晶系铁酸锶粉末溶解到溶解结束时液体中没有残留六方晶系铁酸锶粉末的程度。 部分溶解和表层含量的测量例如通过以下方法进行。 但是,后述的样品粉末量等溶解条件是一例,可以任意采用能够部分溶解和完全溶解的溶解条件。 将装有12mg样品粉末和10mL 1mol/L盐酸的容器(例如烧杯)在设定温度为70℃的电热板上放置1小时。 通过 0.1 μm 膜过滤器过滤产生的裂解物。 如此获得的滤液的元素分析通过电感耦合等离子体(ICP)分析仪进行。 这样,可以获得稀土原子相对于100原子%的铁原子的表层部分含量。 元素分析检测多种稀土原子时,以所有稀土原子的总含量作为表层部分含量。 这一点也适用于体积含量的测量。 另一方面,总溶解量和体积含量的测量例如通过以下方法进行。 将装有12mg样品粉末和10mL 4mol/L盐酸的容器(例如烧杯)在设定温度为80℃的热板上保持3小时。 之后,以与上述相同的方式进行部分溶解和表层部分含量的测量,并且可以获得相对于100原子%的铁原子的体积含量。 【0059】 从再现记录在磁带上的数据时提高再现输出的观点来看,希望包含在磁带中的铁磁性粉末具有高质量磁化强度σs。 在这方面,与不含稀土原子的六方锶铁氧体粉末相比,含有稀土原子但在稀土原子表层没有不均匀分布的六方锶铁氧体粉末往往具有显着较低的σs。 另一方面,为了抑制σs的大幅下降,认为在表层中稀土类原子不均匀分布的六方晶系锶铁氧体粉末是优选的。 在一种形式中,六方锶铁氧体粉末的σs为45 A m ² /kg以上,47A·m ² /公斤以上。 另一方面,从降噪的观点来看,σs为80A·m。 ² /kg以下,60 A·m ² /kg以下更好。 可以使用能够测量磁特性的已知测量装置例如振动样品磁强计来测量σs。 在本发明和本说明书中,除非另有说明,否则质量磁化强度σs是在15kOe的磁场强度下测量的值。 【0060】 关于六方晶系铁酸锶粉末的构成原子的含量(体积含量),相对于100原子%的铁原子,锶原子的含量例如可以在2.0~15.0原子%的范围内。 在一种形式中,六方晶系锶铁氧体粉末可以具有锶原子作为粉末中所含的仅有的二价金属原子。 在又一种形式中,除了锶原子之外,六方晶系锶铁氧体粉末还可以包含一个或多个其他二价金属原子。 例如,它可以包含钡原子和/或钙原子。 当含有除锶原子以外的其它二价金属原子时,六方晶系锶铁氧体粉末中的钡原子含量和钙原子含量例如相对于100原子%铁原子为0.05至5.0原子%。 【0061】 作为六角晶系铁氧体的晶体结构,已知有磁铅石型(也称为“M型”)、W型、Y型和Z型。 六方晶系锶铁氧体粉末可以具有任何晶体结构。 晶体结构可以通过X射线衍射分析来确认。 六方晶系锶铁氧体粉末可以是通过X射线衍射分析检测到单晶结构或两种或更多种晶体结构的粉末。 例如,在一种形式中,六方晶系铁酸锶粉末可以是其中通过X射线衍射分析仅检测到M型晶体结构的形式。 例如M型六方铁氧体是AFe ₁₂ 欧 ₁₉由以下的组成式表示 此处,A表示二价金属原子,若六方晶系铁酸锶粉末为M型,则A仅为锶原子(Sr),若包含多个二价金属原子作为A,则如上所述,锶原子( Sr) 以原子百分比计占最大量。 六方晶系锶铁氧体粉末的二价金属原子含量通常由六方晶系铁氧体的晶体结构类型决定,并无特别限制。 这同样适用于铁原子含量和氧原子含量。 六方晶系锶铁氧体粉末至少含有铁原子、锶原子和氧原子,还可以含有稀土原子。 此外,六方晶系锶铁氧体粉末可以含有也可以不含有这些原子以外的原子。 例如,六方晶系锶铁氧体粉末可以含有铝原子(Al)。 相对于100原子%的铁原子,铝原子的含量例如可以为0.5~10.0原子%。 从抑制反复再生时再生输出下降的观点出发,六方晶系锶铁氧体粉末含有铁原子、锶原子、氧原子和稀土原子,这些原子以外的原子的含量为100原子%的铁原子。另一方面,优选为10.0原子%以下,更优选为0~5.0原子%的范围,也可以为0原子%。 也就是说,在一种形式中,六方晶系铁酸锶粉末可以不包含除铁原子、锶原子、氧原子和稀土原子之外的原子。 上述原子%表示的含量是六方锶铁氧体粉末完全溶解后得到的各原子的含量(单位:质量%),用各原子的原子量换算成原子%表示的值。转换。 此外,在本发明和本说明书中,“不含有”某原子是指该原子的含量在全溶解后通过ICP分析仪测定为0质量%。 ICP 分析仪的检测限通常为 0.01 ppm(百万分之一)或更低(以质量计)。 上述“不含”是指含有ICP分析仪的检出限以下的意思。 在一种形式中,六方锶铁氧体粉末可以不含铋原子 (Bi)。 【0062】 金属粉末 作为强磁性粉末的优选的具体例,也可以举出强磁性金属粉末。 对于强磁性金属粉末的细节,例如,可以参考JP-A-2011-216149的0137至0141段和JP-A-2005-251351的0009-0023段。 【0063】 ε-氧化铁粉 强磁性粉末的优选的具体例是ε-氧化铁粉末。 在本发明和说明书中,“ε-氧化铁粉末”是指通过X射线衍射分析检测出ε-氧化铁的晶体结构为主相的强磁性粉末。 例如,当通过X射线衍射分析得到的X射线衍射谱中最高强度的衍射峰归因于ε-氧化铁的晶体结构时,则判定检测到ε-氧化铁的晶体结构作为主要相。应为 作为ε-氧化铁粉末的制造方法,已知有由针铁矿制造的方法、反胶束法等。 所有上述制造方法都是已知的。 另外,关于Fe的一部分被Ga、Co、Ti、Al、Rh等置换原子置换的ε-氧化铁粉末的制造方法,例如参见J. Jpn. Soc. Powder Metallurgy Vol. 61 Supplement , No. S1, pp. S280-S284, J. Mater. Chem. C, 2013, 1, pp.5200-5206 等。 但是,可以作为磁带的磁性层中的强磁性粉末使用的ε-氧化铁粉末的制造方法不限于这里所记载的方法。 【0064】 ε-氧化铁粉的活化体积优选300-1500nm ³ 在范围内 活性体积在上述范围内的细碎的ε-氧化铁粉末适合于制造具有优异电磁转换特性的磁带。 ε-氧化铁粉的活化体积优选为300nm ³ 以上,例如500nm ³ 它可以超过。 另外,从进一步提高电磁转换特性的角度来看,ε-氧化铁粉的活化体积为1400 nm ³ 更优选小于1300nm ³ 更优选1200nm或更小 ³ 更优选1100nm或更小 ³ 以下是更优选的。 【0065】 可以引用各向异性常数Ku作为降低热波动,换句话说,提高热稳定性的指标。 ε-氧化铁粉优选为3.0×10 ⁴ 焦耳/米 ³ 可以具有 8.0 x 10或更多的 Ku,更优选 ⁴ 焦耳/米 ³ 您可以让 Ku 大于或等于 ε-氧化铁粉的Ku例如为3.0×10 ⁵ 焦耳/米 ³ 可: 然而,较高的Ku意味着较高的热稳定性,这是优选的,因此不限于以上示例的值。 【0066】 从再现记录在磁带上的数据时提高再现输出的观点来看,希望包含在磁带中的铁磁性粉末具有高质量磁化强度σs。 对此,在一种形式中,ε-氧化铁粉的σ为8Am ² /kg以上,12A·m ² /公斤以上。 另一方面,ε-氧化铁粉的σs为40 A·m ² /kg以下,35A·m ² /kg以下更好。 【0067】 在本发明和本说明书中,除非另有说明,各种粉末如铁磁性粉末的平均粒径是使用透射电子显微镜通过以下方法测量的值。 用透射电子显微镜在10万倍的放大倍率下拍摄粉末照片,打印在相纸上或在显示器上显示,使总放大倍数为50万倍,得到构成粉末的颗粒照片. . 从获得的颗粒照片中选择目标颗粒,用数字化仪描绘颗粒的轮廓以测量颗粒(初级颗粒)的尺寸。 初级颗粒是指没有团聚的单个颗粒。 上述测量是对 500 个随机选择的粒子进行的。 将如此获得的500个颗粒的粒径的算术平均值作为粉末的平均粒径。 作为透射电子显微镜,例如可以使用Hitachi的H-9000透射电子显微镜。 另外,粒径可以使用Carl Zeiss图像分析软件KS-400等公知的图像分析软件进行测定。 除非另有说明,以下实施例中所示的平均粒径是使用日立透射电子显微镜H-9000作为透射电子显微镜和卡尔蔡司图像分析软件KS-400作为图像分析软件测量的值。 在本发明和本文中,粉末是指颗粒的集合。 例如,铁磁粉是指铁磁颗粒的聚集体。 另外,多个粒子的凝聚并不限于构成凝聚的粒子直接接触的形态,也包括后述的粘合剂、添加剂等,介于粒子之间。 术语颗粒有时用于描述粉末。 【0068】 作为从用于粒度测量的磁带收集样品粉末的方法,例如,可以采用JP-A-2011-048878的0015段中描述的方法。 【0069】 在本发明和本说明书中,除非另有说明,否则构成粉末的颗粒的尺寸(粒度)是在上述颗粒照片中观察到的颗粒的形状。 (1)针状、纺锤状、柱状(但高度大于底面最大长度)等情况下,构成粒子的长轴长度,即长轴的长度, (2) 为板状或柱状时(但厚度或高度小于板面或底面的最大长度),以板面或底面的最大长度表示, (3) 如果颗粒为球形、多面体、不规则形状等,且无法从形状确定颗粒的长轴,则以当量圆直径表示。 等效圆直径通过圆投影法获得。 【0070】 另外,粉末的平均针状率是通过在上述测量中测量颗粒的短轴长度,即短轴长度,并获得(长轴长度/短轴长度)的值来获得的每个粒子的。它是指对粒子获得的值的算术平均值。 这里,除非另有说明,在上述粒径的定义中,短轴长度在(1)的情况下是构成粒子的短轴的长度,在(2)的情况下是厚度或高度。在(3)的情况下,由于不区分长轴和短轴,为方便起见,将(长轴长度/短轴长度)视为1。 并且,除非另有说明,当颗粒形状是特定的时,例如,在上述粒径的定义(1)的情况下,平均粒径是平均长轴长度,并且在相同定义的情况下(2)、平均粒径为Average plate diameter。 在同定义(3)的情况下,平均粒径为平均直径(也称为平均粒径或平均粒径)。 【0071】 磁性层中的强磁性粉末的含量(填充率)相对于磁性层的总质量优选为50~90质量%的范围,更优选为60~90质量%的范围。 从提高记录密度的观点来看,磁性层中的铁磁粉末的高填充率是优选的。 【0072】 (黏合剂) 磁带可以是带涂层的磁带,磁性层可以包含粘合剂。 粘合剂是一种或多种树脂。 作为粘合剂,可以使用通常用作涂布型磁记录介质的粘合剂的各种树脂。 粘合剂的实例包括聚氨酯树脂、聚酯树脂、聚酰胺树脂、氯乙烯树脂、通过共聚苯乙烯、丙烯腈、甲基丙烯酸甲酯等获得的丙烯酸树脂、纤维素树脂如硝化纤维素、环氧树脂、苯氧基树脂、聚乙烯醇缩醛、选择的树脂聚乙烯醇缩丁醛等聚乙烯醇烷基醛树脂可以单独使用,也可以将多种树脂混合使用。 其中优选聚氨酯树脂、丙烯酸树脂、纤维素树脂和氯乙烯树脂。 这些树脂可以是均聚物或共聚物。 这些树脂还可以用作非磁性层和/或背涂层中的粘合剂,这将在后面描述。 对于上述粘合剂,可以参考JP-A-2010-24113的0028至0031段。 粘合剂还可以是辐射固化树脂,例如电子束固化树脂。 关于辐射固化树脂,可以参考JP-A-2011-048878的0044至0045段。 用作粘合剂的树脂的重均分子量例如可以为10,000以上且200,000以下。 相对于强磁性粉末100.0质量份,粘合剂的使用量例如可以为1.0~30.0质量份。 【0073】 (固化剂) 硬化剂也可以与粘合剂一起使用。 固化剂可以是一种形式是通过加热进行固化反应(交联反应)的化合物的热固化性化合物,另一种形式是通过光进行固化反应(交联反应)的光固化性化合物。辐照。可以是化合物。 在磁带的制造过程中随着固化反应的进行,固化剂可以以其至少一部分已经与诸如粘合剂的其他组分反应(交联)的状态包含在磁性层中。 优选的固化剂是热固性化合物,优选聚异氰酸酯。 关于聚异氰酸酯的详细内容,可参照特开2011-216149的0124~0125段。 固化剂在磁性层形成用组合物中的含量相对于粘合剂100.0质量份例如为0~80.0质量份,从提高磁性的观点出发优选为50.0~80.0质量份。可以使用诸如磁性层的每一层的强度。 【0074】 (其他成分) 磁性层可以任选地包含一种或多种添加剂。 Commercially available additives can be appropriately selected and used according to desired properties. 或者,可以使用通过已知方法合成的化合物作为添加剂。 添加剂的实例包括上述固化剂。 磁性层中可以包含的添加剂包括非磁性填料、润滑剂、分散剂、分散助剂、抗真菌剂、抗静电剂、抗氧化剂等。 非磁性填料是非磁性颗粒或非磁性粉末的同义词。 非磁性填料可包括可用作突起形成剂的非磁性填料和可用作研磨剂的非磁性填料。 作为添加剂,还可以使用已知的添加剂,例如JP-A-2016-051493的0030至0080段中描述的各种聚合物。 【0075】 作为非磁性填料的一种形态的突起形成剂,可以使用无机物的粒子,也可以使用有机物的粒子,还可以使用无机物和有机物的复合粒子。使用。 也可以使用炭黑。 作为无机物,可举出金属氧化物、金属碳酸盐、金属硫酸盐、金属氮化物、金属碳化物、金属硫化物等无机氧化物,优选无机氧化物。 在一种形式中,突起形成剂可以是基于无机氧化物的颗粒。 这里,术语“系统”在“包括”的意义上使用。 无机氧化物颗粒的一种形式是由无机氧化物制成的颗粒。 无机氧化物颗粒的另一种形式是无机氧化物和有机物质的复合颗粒,其具体实例包括无机氧化物和聚合物的复合颗粒。 这种颗粒的实例包括其中聚合物键合到无机氧化物颗粒表面的颗粒。 【0076】 突起形成剂的平均粒径例如可以为30~300nm,优选为40~200nm。 关于突起形成剂的形状,认为磁性层中所含的突起形成剂的粒子的形状越接近正球体,摩擦特性越容易因不同而发生变化。在头部倾斜角度。 这是出于以下原因。 如果磁头倾斜角度不同,在测量摩擦力时,LTO8磁头与磁带磁层表面的接触状态可能会发生变化,因此由于与LTO8磁头接触而施加在磁层表面的压力也可能会发生变化. 具有更接近真实球体形状的颗粒在施加压力时具有更小的压痕阻力,因此更可能受到压力变化的影响。 另一方面,如果颗粒的形状与真正的球体不同,例如所谓的变形形状,则在施加压力时可能会产生较大的压痕阻力,因此存在不易受影响的趋势到压力的变化。假设有。 此外,颗粒表面不均匀和表面光滑度低的颗粒在施加压力时也容易产生较大的压痕阻力,因此往往不易受到压力变化的影响。 因此,使用颗粒形状偏离真球形的凸起形成剂和/或使用颗粒表面不均匀且表面光滑度低的凸起形成剂可以降低摩擦力F _45° 以及上述范围内的摩擦力F的标准偏差。 此外,在一种形式中,所谓的不规则形状也可以用作突起形成剂。 【0077】 作为非磁性填料的另一种形式的磨料优选为莫氏硬度大于8的非磁性粉末,更优选为莫氏硬度为9以上的非磁性粉末。 相反,突起形成剂的莫氏硬度可以为例如8或更小,或7或更小。 金刚石的最大莫氏硬度为 10。 具体地,作为磨料,氧化铝(例如,Al ₂ 欧 ₃ ), 碳化硅, 碳化硼 (e.g. B ₄ C)、二氧化硅 ₂ , TiC, 氧化铬 (Cr ₂ 欧 ₃ ), 氧化铈, 氧化锆 (e.g. ZrO ₂ )、氧化铁、金刚石等。其中,优选α-氧化铝等氧化铝粉末、碳化硅粉末。 另外,研磨剂的平均粒径例如可以为30~300nm的范围,优选为50~200nm的范围。 【0078】 另外,从能够更好地发挥突起形成剂和研磨剂的功能的观点出发,磁性层中的突起形成剂的含量相对于强磁性粉末100.0质量份优选为0.1~4.0份。 0.3~3.5质量份,更优选0.5~2.5质量份。 另一方面,磁性层中的磨粒含量相对于强磁性粉末100.0质量份优选为1.0~20.0质量份,更优选为3.0~15.0质量份,进一步优选为4.0~10.0质量份。 .部分更优选。 【0079】 可用于含有磨料的磁性层的添加剂的实例包括JP-A-2013-131285的0012至0022段中描述的分散剂,其提高磨料在用于形成磁性层的组合物中的分散性。它可以是作为分散剂提及 此外,关于分散剂,可以参考JP-A-2012-133837的0061和0071段。 非磁性层中可以含有分散剂。 关于可包含在非磁性层中的分散剂,可参考JP-A-2012-133837的0061段。 【0080】 可以包含在磁性层中的添加剂的一种形式是具有由下式1表示的烷基酯阴离子的铵盐结构的化合物。 【0081】 [阵型] 【0082】 (式1中,R表示碳原子数7以上的烷基或碳原子数7以上的氟代烷基,Z ⁺ 代表铵阳离子。 ) 【0083】 发明人相信这些化合物可以起到润滑剂的作用。 这一点将在下面进一步说明。 润滑剂可大致分为流体润滑剂和边界润滑剂。 本发明人认为,具有上述通式1表示的烷基酯阴离子的铵盐结构的化合物可以起到流体润滑剂的作用。 据信,流体润滑剂本身可以通过在磁性层表面形成液膜而起到为磁性层提供润滑的作用。 摩擦力F _45°并且为了控制摩擦力F的标准偏差,假设流体润滑剂希望在磁性层的表面上形成液膜。 此外,摩擦力 F _45° 并且摩擦力F的标准偏差的值可以更小。 关于流体润滑剂的液膜,从实现更稳定的滑动的观点来看,认为在磁性层的表面上形成液膜的流体润滑剂的量是适当的。 这是因为如果在磁层表面形成液膜的液体润滑剂的量过多,磁层表面和LTO8磁头会粘在一起,推测滑动稳定性有下降的趋势. 此外,如果在磁性层表面形成液膜的液体润滑剂的量过多,则推测由例如非磁性填料形成在磁性层表面上的突起将被覆盖与液膜。 认为这也可能是滑动稳定性趋于降低的一个因素。 关于上述,该化合物包含由式1表示的烷基酯阴离子的铵盐结构。 据信,含有此类结构的化合物即使在相对少量的情况下也能很好地用作流体润滑剂。 因此,在磁性层中包含上述化合物导致磁带的磁性层表面与LTO8磁头之间的滑动稳定性提高,并且摩擦力F _45° 和摩擦力 F 的标准偏差。 【0084】 下文将更详细地描述上述化合物。 【0085】 在本发明和本说明书中,除非另有说明,所描述的基团可以是取代的或未取代的。 此外,除非另有说明,具有取代基的基团的“碳数”是指不包括取代基的碳原子数的碳原子数。 在本发明和说明书中,取代基包括例如烷基(例如,具有1至6个碳原子的烷基)、羟基、烷氧基(例如,具有1至6个碳原子的烷氧基)、卤素原子(例如,氟原子、氯原子、溴原子等)、氰基、氨基、硝基、酰基、羧基、羧基的盐、磺酸基的盐、磺酸基等。 【0086】 至少部分具有由式1表示的烷基酯阴离子的铵盐结构的化合物包含在磁性层中并且能够在磁性层的表面上形成液体膜。还可以形成液体通过在磁头滑动过程中移动到磁性层的表面来制作薄膜。 另外,其一部分可以包含在后述的非磁性层中,也可以迁移到磁性层,然后迁移到磁性层的表面,形成液膜。 “烷基酯阴离子”也可称为“烷基羧酸根阴离子”。 【0087】 在式1中,R表示具有7个或更多个碳原子的烷基或具有7个或更多个碳原子的氟代烷基。 氟代烷基具有构成烷基的氢原子的一部分或全部被氟原子取代的结构。 R所表示的烷基或氟化烷基可以具有直链结构,也可以具有支链结构,可以为环状烷基或氟化烷基,优选具有直链结构。 R所表示的烷基或氟代烷基可以具有取代基,也可以不具有取代基,优选不具有取代基。 R所代表的烷基例如为C _n H。 _2n+1 - 可以代表。 这里,n表示7以上的整数。 另外,R代表的氟化烷基例如为C _n H。 _2n+1 它可以具有其中构成由-表示的烷基的部分或全部氢原子被氟原子取代的结构。 R所表示的烷基或氟化烷基的碳原子数为7以上,优选为8以上,更优选为9以上,进一步优选为10以上,11以上。更优选为12以上,甚至更优选13或更多。 R所表示的烷基或氟代烷基的碳原子数优选为20以下,更优选为19以下,进一步优选为18以下。 【0088】 式1中,Z ⁺ 代表铵阳离子。 铵阳离子具体具有以下结构。 在本发明和本说明书中,表示化合物一部分的式中的“*”表示该部分的结构与相邻原子之间的键合位置。 【0089】 [阵型] 【0090】 铵阳离子的氮阳离子N ⁺ 和方程式中的氧阴离子 O ^- 可以形成盐桥基,从而形成式1所示的烷基酯阴离子的铵盐结构。 磁性层中具有式1表示的烷基酯阴离子的铵盐结构的化合物的存在可以通过X射线光电子能谱法(ESCA)和红外光谱法(IR:可以通过红外线等分析来确认光谱学。 【0091】 在一种形式中,Z ⁺ 表示的铵阳离子例如可以通过含氮聚合物的氮原子变成阳离子来提供。 含氮聚合物是指含有氮原子的聚合物。 在本发明和说明书中,术语“聚合物”和“聚合物”在包括均聚物和共聚物的意义上使用。 氮原子可以以一种形式作为构成聚合物主链的原子包含,并且可以以一种形式包含作为构成聚合物侧链的原子。 【0092】 一种形式的含氮聚合物是聚亚烷基亚胺。 聚亚烷基亚胺是亚烷基亚胺的开环聚合物,是具有多个下述式2所示的重复单元的聚合物。 【0093】 [阵型] 【0094】 式2中构成主链的氮原子N为氮阳离子N ⁺ 和方程式 1 中的 Z ⁺ 可以提供由表示的铵阳离子。 并且例如可以如下与烷基酯阴离子形成铵盐结构。 【0095】 [阵型] 【0096】 下面将更详细地描述公式2。 【0097】 式2中,R ¹ 和R ² 各自独立地表示氢原子或烷基,n1表示2以上的整数。 【0098】 R。 ¹ 或 ² 由 表示的烷基的实例包括具有1至6个碳原子的烷基,优选具有1至3个碳原子的烷基,更优选甲基或乙基,进一步优选甲基。 R。 ¹ 或 ² 表示的烷基优选为未取代的烷基。 等式 2 中的 R ¹ 和R ² 组合包括一个为氢原子另一个为烷基的形式,两者均为氢原子的形式,以及两者均为烷基(相同或不同的烷基)的形式,优选均为氢原子它是一种形式,它是一个原子。 乙烯亚胺是得到聚亚烷基亚胺的亚烷基亚胺,环中碳原子数最少的结构是乙烯亚胺,乙烯亚胺(乙烯亚胺)开环得到的亚烷基亚胺主链有2个碳原子。 因此,式2中的n1为2以上。 式2中的n1可以是例如10或更小、8或更小、6或更小或4或更小。 聚亚烷基亚胺可以是仅包含由式2表示的相同重复结构的均聚物,或包含两种或更多种由式2表示的不同重复结构的共聚物。 可用于形成由式1表示的烷基酯阴离子的具有铵盐结构的化合物的聚亚烷基亚胺的数均分子量可以例如为200以上,优选为300以上,400以上为更多更可取。 聚亚烷基亚胺的数均分子量例如可以为10,000以下,优选为5,000以下,更优选为2,000以下。 【0099】 在本发明和本说明书中,平均分子量(重均分子量和数均分子量)是通过凝胶渗透色谱法(GPC:Gel Permeation Chromatography)测定的,是指通过标准聚苯乙烯换算求出的值。 除非另有说明,否则在以下实施例中所示的平均分子量是通过将在以下测量条件下通过GPC测量的值换算成标准聚苯乙烯而获得的值(聚苯乙烯换算值)。 GPC装置:HLC-8220(东曹株式会社制) 保护柱:TSKguardcolumn Super HZM-H 色谱柱:TSKgel Super HZ 2000、TSKgel Super HZ 4000、TSKgel Super HZ-M(东曹株式会社制、4.6mm(内径)×15.0cm、3种色谱柱串联) 洗脱液:四氢呋喃 (THF) 和稳定剂(2,6-二叔丁基-4-甲基苯酚) 洗脱液流速:0.35 mL/min 柱温:40℃ 入口温度:40℃ 折射率 (RI) 测量温度:40°C 样品浓度:0.3%质量 进样量:10 μL 【0100】 含氮聚合物的另一个例子是聚烯丙胺。 聚烯丙胺是具有多个由下式3表示的重复单元的烯丙胺聚合物。 【0101】 [阵型] 【0102】 式3中构成侧链氨基的氮原子N为氮阳离子N ⁺ 和方程式 1 中的 Z ⁺ 可以提供由表示的铵阳离子。 并且例如可以如下与烷基酯阴离子形成铵盐结构。 【0103】 [阵型] 【0104】 可用于形成由式1表示的烷基酯阴离子的具有铵盐结构的化合物的聚烯丙基胺的重均分子量可以例如为200以上,优选为1,000以上,并且优选为1,500。更可取的是在上面。 聚烯丙基胺的重均分子量例如可以为15,000以下,优选为10,000以下,更优选为8,000以下。 【0105】 包含具有源自聚亚烷基亚胺或聚烯丙基胺的结构的化合物作为具有由式1表示的烷基酯阴离子的铵盐结构的化合物对于通过飞行时间二次离子质谱法分析的磁性层表面是有用的(这可以通过使用 TOF-SIMS(飞行时间二次离子质谱法)等的分析来确认。 【0106】 式1表示的具有烷基酯阴离子的铵盐结构的化合物为含氮聚合物和选自碳原子数为7以上的脂肪酸和碳原子数为7以上的氟化脂肪酸中的一种以上的脂肪酸。碳原子。可以是盐 成盐含氮聚合物可以是一种或多种含氮聚合物,例如选自聚亚烷基亚胺和聚烯丙基胺的含氮聚合物。 形成盐的脂肪酸可以是选自具有7个或更多个碳原子的脂肪酸和具有7个或更多个碳原子的氟化脂肪酸的一种或多种脂肪酸。 含氟脂肪酸具有构成与脂肪酸中的羧基COOH键合的烷基的氢原子的一部分或全部被氟原子取代的结构。 例如,通过在室温下混合含氮聚合物和脂肪酸,可以容易地进行成盐反应。 室温例如为20~25℃左右。 在一个实施例中,一种或多种含氮聚合物和一种或多种脂肪酸被用作磁性层形成组合物的组分,并且在制备磁性层形成组合物的过程中将它们混合以形成盐。 . 让反应继续进行。 在一个实施例中,在制备磁性层形成组合物之前,将一种或多种含氮聚合物与一种或多种脂肪酸混合形成盐,然后将该盐添加到磁性层形成组合物中。可以通过将其用作材料的组分来制备形成磁性层的材料。 这一点也适用于包含具有由式1表示的烷基酯阴离子的铵盐结构的化合物的非磁性层的形成。 对于磁性层,例如,每100.0质量份铁磁粉末可以使用0.1至10.0质量份含氮聚合物,优选0.5至8.0质量份含氮聚合物。 脂肪酸相对于强磁性体粉末100.0质量份例如可以使用0.05~10.0质量份、优选0.1~5.0质量份。 作为非磁性层,相对于非磁性粉末100.0质量份,可以使用0.1~10.0质量份的含氮聚合物,优选为0.5~8.0质量份的含氮聚合物。 例如,相对于非磁性粉末100.0质量份,可以使用0.05~10.0质量份、优选0.1~5.0质量份的脂肪酸。 当含氮聚合物与脂肪酸混合形成式1所表示的烷基酯阴离子的铵盐时,构成含氮聚合物的氮原子与脂肪酸的羧基还具有以下结构可以通过反应形成,含有此类结构的形式也包括在上述化合物中。 【0107】 [阵型] 【0108】 脂肪酸的实例包括具有如上式1中R所示的烷基的脂肪酸和具有如上式1中R所示的氟化烷基的氟化脂肪酸。 【0109】 用于形成由式1表示的烷基酯阴离子的铵盐结构的化合物的含氮聚合物和脂肪酸的混合比以含氮聚合物:脂肪酸的质量比计为10:1优选为90至90:10,更优选为20:80至85:15,甚至更优选为30:70至80:20。 相对于强磁性粉末100.0质量份,磁性层中含有式1所示的具有烷基酯阴离子的铵盐结构的化合物的量优选为0.01质量份以上,也可以含有在磁性层中。优选含有0.1质量份以上,更优选含有0.5质量份以上。 这里,磁性层中的化合物的含量是指在磁性层表面形成液膜的量与磁性层内部所含的量之和。 另一方面,从高密度记录的观点来看,磁性层中的铁磁粉含量高是优选的。 因此,从高密度记录的观点来看,优选强磁性粉末以外的成分的含量少。 从该观点出发,磁性层中的上述化合物的含量相对于强磁性体粉末100.0质量份优选为15.0质量份以下,更优选为10.0质量份以下且8.0质量份以下。更优选。 这同样适用于用于形成磁性层的磁性层形成用组合物中上述化合物含量的优选范围。 【0110】 作为润滑剂,例如可以使用可用作边界润滑剂的脂肪酸酰胺。 边界润滑剂被认为是能够通过吸附到粉末(例如,铁磁性粉末)的表面并形成坚固的润滑膜来减少接触摩擦的润滑剂。 脂肪酸酰胺的实例包括各种脂肪酸的酰胺,例如月桂酸、肉豆蔻酸、棕榈酸、硬脂酸、油酸、亚油酸、亚麻酸、山萮酸、芥酸和反油酸,特别是月桂酸酰胺、肉豆蔻酸。酰胺、棕榈酸酰胺、硬脂酸酰胺等。 磁性层的脂肪酸酰胺的含量相对于强磁性体粉末100.0质量份例如为0~3.0质量份,优选为0~2.0质量份,更优选为0~1.0质量份。 非磁性层也可以含有脂肪酸酰胺。 非磁性层的脂肪酸酰胺的含量相对于非磁性粉末100.0质量份例如为0~3.0质量份,优选为0~1.0质量份。 关于分散剂,可以参考JP-A-2012-133837的0061和0071段。 可将分散剂添加到非磁性层形成组合物中。 对于可以添加到用于形成非磁性层的组合物中的分散剂,参见JP-A-2012-133837的0061段。 【0111】 <非磁性层> 接着,对非磁性层进行说明。 磁带可以在非磁性载体上直接具有磁性层,或者可以在非磁性载体和磁性层之间具有含有非磁性粉末的非磁性层。 非磁性层中使用的非磁性粉末可以是无机粉末(inorganic powder)或有机粉末(organic powder)。 也可以使用炭黑等。 无机物质的实例包括金属、金属氧化物、金属碳酸盐、金属硫酸盐、金属氮化物、金属碳化物和金属硫化物。 这些非磁性粉末是可商购的并且可以通过已知方法生产。 详情可参考JP-A-2011-216149的0146至0150段。 对于可用于非磁性层的炭黑,参见JP-A-2010-24113的0040至0041段。 非磁性层中的非磁性粉末的含量(填充率)相对于非磁性层的总质量优选为50~90质量%,更优选为60~90质量%。非磁性层。。 【0112】 非磁性层可以包含粘合剂并且还可以包含添加剂。 用于非磁性层的已知技术可以应用于其他细节,例如用于非磁性层的粘合剂和添加剂。 此外,例如,粘合剂的类型和含量、添加剂的类型和含量等可以应用于与磁性层相关的已知技术。 【0113】 磁带的非磁性层旨在包括非磁性粉末以及包含少量铁磁粉末的基本非磁性层,例如作为杂质或有意地。 这里,实质上非磁性层是指该层的剩余磁通密度为10mT以下,矫顽力为7.96kA/m(100Oe)以下,或者剩余磁通密度为10mT以下., 矫顽力为 7.96 kA/m (100 Oe) 或更小。 非磁性层优选没有残留磁通密度和矫顽力。 【0114】 <非磁性支架> 接下来,将描述非磁性支撑体。 非磁性载体(以下也简称为“载体”)的实例包括已知的双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚酰胺、聚酰胺酰亚胺、芳香族聚酰胺等。 其中,优选聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯和聚酰胺。 这些支持体可以预先进行电晕放电、等离子体处理、易粘合处理、热处理等。 【0115】 <背涂层> 带在非磁性载体的与具有磁性层的表面相对的表面上可以具有或不具有包含非磁性粉末的背涂层。 背涂层优选包含炭黑和无机粉末中的一种或两种。 背涂层可以包含粘合剂并且还可以包含添加剂。 关于背面涂层的非磁性粉末、粘合剂、添加剂等的详细情况,可以应用背面涂层的公知技术,也可以应用磁性层和/或非磁性层的公知技术。被应用。 例如,对于背涂层,可以参考JP-A-2006-331625的0018至0020段和美国专利No.7,029,774第4栏第65行至第5栏第38行。 【0116】 <各种厚度> 关于磁带的磁带厚度(总厚度),随着近年来信息量的巨大增加,存在增加磁带的记录容量(增加容量)的需求。 增加容量的手段包括减小磁带的磁带厚度和增加每卷盒式磁带可容纳的磁带长度。 从这一点出发,磁带的带厚优选为5.6μm以下,更优选为5.5μm以下,进一步优选为5.4μm以下,进一步优选为5.3μm以下,进一步优选为5.2μm以下。 从易于处理的观点来看,磁带的厚度优选为3.0μm以上,更优选为3.5μm以上。 【0117】 磁带的带厚可以通过以下方法测量。 从磁带的任意部分切下十个磁带样品(例如,5至10cm长),将这些磁带样品堆叠起来,并测量厚度。 将测得的厚度除以 1/10 所得的值(每个胶带样品的厚度)作为胶带厚度。 厚度测量可以使用能够测量0.1μm数量级的厚度的已知测量仪器来进行。 【0118】 非磁性载体的厚度优选为3.0-5.0μm。 磁性层的厚度可根据所用磁头的饱和磁化量、磁头间隙长度、记录信号频带等进行优化,一般为0.01μm~0.15μm,优选0.02μm~ 0.12μm,更优选0.03μm~0.1μm。 至少一层磁性层就足够了,并且磁性层可以分成具有不同磁性的两层或多层,并且可以应用已知的多层磁性层结构。 当分成两层或更多层时磁性层的厚度是这些层的总厚度。 非磁性层的厚度例如为0.1~1.5μm,优选为0.1~1.0μm。 背涂层的厚度优选为0.9μm以下,更优选为0.1~0.7μm。 磁性层的厚度等各种厚度可以通过以下方法得到。 在用离子束使磁带的厚度方向的截面曝光之后,用扫描电子显微镜或透射电子显微镜观察曝光的截面。 各种厚度可以确定为在横截面观察中在任意两个位置确定的厚度的算术平均值。 或者,作为根据制造条件等计算出的设计厚度,可以获得各种厚度。 【0119】 <制造方法> (各层形成用组合物的调制) 用于形成磁性层、非磁性层或背涂层的组合物通常包含溶剂以及上述各种成分。 作为溶剂,可以使用通常用于制造涂布型磁记录介质的各种有机溶剂。 其中,从涂布型磁记录介质中常用的粘合剂的溶解性来看,各成层组合物含有丙酮、甲基乙基酮、甲基异丁基酮、二异丁基酮、环己酮、异佛尔酮、四氢呋喃等酮系溶剂。 . 优选的是一种或多种 各层形成用组合物中的溶剂量没有特别限制,可以与现有的涂布型磁记录介质用各层形成用组合物中的溶剂量相同。 另外,制备各层形成用组合物的工序通常可以根据需要至少包括混炼工序、分散工序、以及在这些工序之前或之后设置的混合工序。 每个单独的步骤可以分为两个或更多个阶段。 用于制备各层形成组合物的组分可以在任何步骤的开始或中间添加。 可以分两步或更多步添加单独的成分。 例如,可以在混炼工序、分散工序、分散后的调整粘度的混合工序中分别添加粘合剂。 如上所述,一种或多种含氮聚合物和一种或多种上述脂肪酸用作磁性层形成用组合物的组分,并且这些用于磁性层形成用组合物的制备过程中。通过混合,可以进行成盐反应。 在一个实施例中,在制备磁性层形成组合物之前,将一种或多种含氮聚合物与一种或多种脂肪酸混合形成盐,然后将该盐添加到磁性层形成组合物中。可以通过将其用作材料的组分来制备形成磁性层的材料。 这一点也适用于制备用于形成非磁性层的组合物的过程。 在一实施例中,在制备磁性层形成用组合物的步骤中,制备含有凸起剂的分散液(以下简称“凸起剂液”)后,将该凸起剂液加入到磁性层形成组合物的一种或多种其他组分可以混合。 例如,突起形成剂液可以通过超声波处理等公知的分散处理来调制。 超声波处理,例如200cc(1cc=1cm ³ ) 在约 10 至 2000 瓦的超声波输出下持续约 1 至 300 分钟。 另外,也可以在分散工序后进行过滤。 用于过滤的过滤器可参考以下描述。 【0120】 可以在磁带的部分或全部制造过程中使用通常已知的制造技术。 在混炼工序中,优选使用开放式混炼机、连续混炼机、加压混炼机、挤出机等混炼力强的混炼机。 在JP-A-1-106338和JP-A-1-79274中描述了这些揉捏处理的细节。 此外,玻璃珠和/或其他珠子可用于分散各层形成组合物。 作为这种分散珠,作为高比重分散珠的氧化锆珠、二氧化钛珠和钢珠是合适的。 这些分散珠优选在优化粒径(珠径)和填充率之后使用。 可以使用已知的分散器。 各层形成用组合物可以在涂布前通过公知的方法进行过滤。 过滤例如可以通过过滤器过滤来进行。 作为用于过滤的过滤器,例如可以使用孔径为0.01~3μm的过滤器(例如,玻璃纤维过滤器、聚丙烯过滤器等)。 【0121】 (涂层工艺) 磁性层的形成例如可以通过将磁性层形成用组合物直接涂布在非磁性支撑体上,或者依次或同时将非磁性层形成用组合物涂布在磁性层形成用组合物上来形成。 进行取向处理时,在磁性层形成用组合物的涂层处于湿润状态的状态下,在取向区域对磁性层形成用组合物的涂层实施取向处理。 可以将包括在JP-A-2010-24113的0052段中描述的技术在内的各种已知技术应用于取向处理。 例如,垂直取向处理可以通过使用不同极性的对置磁铁的方法等公知的方法来进行。 垂直取向处理中的磁场强度例如可以为0.40T(特斯拉)以上且1.20T以下。 随着磁场强度的增加,垂直 SFD 值趋于减小。 在定向区,涂层的干燥速度可以通过干燥空气的温度和风量和/或定向区的输送速度来控制。 此外,涂层可以在被传送到取向区之前被预干燥。 背涂层可以通过将背涂层形成用组合物涂布在非磁性支撑体的具有磁性层的一侧的相反侧(或稍后设置磁性层的一侧)来形成。 关于用于形成各层的涂层的详细内容,可以参考JP-A-2010-231843的0066段。 【0122】 (其他工艺) 在进行涂层工艺之后,磁带通常进行压光处理以提高表面光滑度。 作为压光条件,压光压力例如为200~500kN/m,优选为250~350kN/m,压光温度(压光辊的表面温度)例如为70~120℃,优选为在80~100℃下,压光机速度例如为50~300m/分钟,优选为80~200m/分钟。 此外,随着使用具有更硬表面的压延辊并且增加级数,磁性层的表面趋于平滑。 关于制造磁带的各种其他步骤,可以参考日本专利申请特开No.2010-231843的0067至0070段。 经过各种工序,可以得到长条磁带原料。 例如,通过已知的切割机将所获得的磁带材料切割(切割)成要容纳在磁带盒中的磁带的宽度。 上述宽度可根据标准确定,一般为1/2英寸。 伺服图案通常形成在通过分切获得的磁带上。 【0123】 (热处理) 在一种形式中,磁带可以是通过以下热处理制造的磁带。 在另一种形式中,可以在不进行如下所述的热处理的情况下制造磁带。 【0124】 热处理可以在已经被切开并切割成根据标准确定的宽度的磁带缠绕在芯构件上的状态下进行。 【0125】 在一个实施例中,在将磁带缠绕在用于热处理的芯部件(以下称为“热处理缠绕芯”)上的同时进行热处理,并且在热处理之后的磁带缠绕在磁带的盒式卷轴上。可以制造其中磁带缠绕在盒带卷轴上的盒式磁带。 用于热处理的芯可以由金属、树脂、纸等制成。 从抑制辐条等绕线不良的发生的观点出发,热处理用芯材的材质优选为刚性高的材质。 从这一点考虑,热处理用芯材优选为金属制或树脂制。 另外,作为刚性的指标,热处理用芯材的弯曲模量优选为0.2GPa(吉帕斯卡)以上,更优选为0.3GPa以上。 另一方面,由于高刚性材料通常价格昂贵,因此使用由刚性超过能够抑制绕线故障发生的刚性的材料制成的热处理卷芯导致成本增加。 考虑到以上几点,热处理用芯材的弯曲模量优选为250GPa以下。 弯曲模量是根据ISO(国际标准化组织)178测定的值,各种材料的弯曲模量是已知的。 此外,用于热处理的芯可以是实心或空心芯构件。 在中空形状的情况下,从保持刚性的观点来看,壁厚优选为2mm以上。 此外,用于热处理的芯可以具有或不具有凸缘。 作为热处理卷绕在磁芯上的磁带,准备比最终收容在磁带盒中的长度(以下称为“最终产品长度”)长的磁带,并将该磁性卷绕优选的是,将基板放置在热处理环境中来进行热处理。 缠绕在热处理磁芯上的磁带的长度等于或长于最终产品长度,并且从易于缠绕在热处理磁芯上的观点来看,优选将长度设置为“最终产品”长度 + α”。 从容易卷绕的观点来看,该α优选为5m以上。 当将膜卷绕到芯上进行热处理时,优选0.1N(牛顿)或更大的张力。 另外,从抑制制造时的过度变形的观点出发,热处理时卷绕在芯上时的张力优选为1.5N以下,更优选为1.0N以下。 从易于卷绕和抑制卷绕(纵向卷曲)的观点来看,用于热处理的芯的外径优选为20mm以上,更优选为40mm以上。 此外,热处理用芯材的外径优选为100mm以下,更优选为90mm以下。 用于热处理的磁芯的宽度应等于或大于要缠绕在磁芯上的磁带的宽度。 此外,当在热处理之后从热处理芯移除磁带时,在磁带和热处理芯充分冷却之后移除磁带以防止磁带在移除操作期间意外变形. 最好从型芯中取出进行热处理。 取出的磁带先缠绕在另一个磁芯(称为“临时收带芯”)上,然后从临时收带芯上取下到磁带盒的盒带盘(一般外径为40mm ). 50 毫米)). 结果,在热处理期间,可以在保持磁带相对于用于热处理的磁芯的内侧和外侧之间的关系的同时,将磁带卷绕到磁带盒的盒带卷轴上。 临时收线芯的详细内容以及磁带缠绕在该芯上时的张力,可以参考上述热处理芯的描述。 在具有“最终产品长度+α”的长度的磁带经受上述热处理的情况下,“+α”的长度可以在任意阶段被切割。 例如,在一个实施例中,磁带的最终产品长度可以从临时收带芯缠绕到磁带盒的卷轴上,并且剩余的“+α”长度可以被切掉。 从减少被切断废弃的部分的观点出发,α优选为20m以下。 【0126】 下面将描述在如上所述缠绕芯构件的同时进行的热处理的具体形式。 热处理的环境温度(以下称为“热处理温度”)优选为40℃以上,更优选为50℃以上。 另一方面,从抑制过度变形的观点出发,热处理温度优选为75℃以下,更优选为70℃以下。 热处理气氛的重量绝对湿度优选为0.1g/kg Dry air以上,更优选为1g/kg Dry air以上。 重量绝对湿度在上述范围内的气氛是优选的,因为它可以在不使用用于减少水分的特殊装置的情况下制备。 另一方面,从抑制结露和加工性劣化的观点出发,重量绝对湿度优选为70g/kg Dry air以下,更优选为66g/kg Dry air以下。 热处理时间优选为0.3小时以上,更优选为0.5小时以上。 另外,从生产效率的观点出发,热处理时间优选为48小时以下。 【0127】 关于上述弯曲量的标准偏差控制,热处理温度、热处理时间、热处理芯的弯曲弹性模量、热处理卷绕时的张力的值越大核心,弯曲越大。数量标准偏差值往往越小。 【0128】 (伺服模式的形成) “伺服模式的形成”也可以称为“伺服信号的记录”。 下面将描述伺服图案的形成。 【0129】 伺服图案通常沿着磁带的纵向形成。 使用伺服信号的控制(伺服控制)方法包括基于时间的伺服(TBS)、振幅伺服、频率伺服等。 【0130】 如 ECMA(欧洲计算机制造商协会)-319(2001 年 6 月)所述,基于时间的伺服系统被用于符合 LTO(线性磁带开放)标准的磁带(通常称为“LTO 磁带”)。 在这种基于时序的伺服系统中,一个伺服模式是由多对非平行的磁条(也称为“伺服条”)连续排列在磁带的纵向上组成的。 在本发明和本说明书中,术语“基于时序的伺服模式”是指在基于时序的伺服系统伺服系统中实现磁头跟踪的伺服模式。 如上所述伺服图案由一对非平行磁条组成的原因是为了告知伺服信号读取元件通过伺服图案其通过位置。 具体地,形成一对磁条使得它们之间的间隔沿着磁带的宽度方向和伺服信号读取元件的相对位置连续变化。 该相对位置信息能够跟踪数据轨道。 为此,通常沿磁带的宽度方向在伺服图案上设置多个伺服磁道。 【0131】 伺服带由在磁带纵向上连续的伺服模式组成。 磁带上通常提供多个伺服带。 例如,在 LTO 磁带中,数量为 5。 数据带是夹在两个相邻伺服带之间的区域。 数据带由多个数据轨道组成,每个数据轨道对应于每个伺服轨道。 【0132】 在一种形式中,如 JP-A-2004-318983 中公开的,每个伺服带包含指示伺服带编号的信息(“伺服带 ID(标识)”或“UDIM(唯一数据带标识)”)。信息”。)被嵌入。 该伺服带ID通过移动伺服带中的多对伺服带中的特定一对使其位置在磁带的纵向方向上相对移动来记录。 具体地,针对每个伺服带改变移动多对伺服带中的特定一对的方法。 结果,由于记录的伺服带ID对于每个伺服带是唯一的,所以可以仅通过用伺服信号读取元件读取一个伺服带来唯一地指定伺服带。 【0133】 作为唯一指定伺服频带的方法,还有如 ECMA-319(2001 年 6 月)中所示的交错方法。 在这种交错方法中,记录了一组相互不平行的成对磁条(伺服条),这些磁条在磁带的纵向上连续排列,以便在磁带的纵向上移动每一个伺服带。做。 由于相邻伺服带之间的这种移位组合对于整个磁带来说是唯一的,因此在用两个伺服信号读取元件读取伺服图案时可以唯一地识别伺服带是可能的。 【0134】 在每个伺服带中,指示磁带纵向位置的信息(也称为“LPOS(纵向位置)信息”)通常也被嵌入,如 ECMA-319(2001 年 6 月)中所示。 与UDIM信息一样,该LPOS信息也是通过在磁带的纵向方向上移动一对伺服条的位置来记录的。 然而,与UDIM信息不同,在该LPOS信息中,相同的信号被记录在每个伺服频带中。 【0135】 与上述UDIM和LPOS信息不同的其他信息也可以嵌入到伺服带中。 在这种情况下,嵌入的信息可以对于每个伺服带不同,例如UDIM信息,或者可以是所有伺服带共有的,例如LPOS信息。 此外,作为在伺服带中嵌入信息的方法,可以采用上述以外的方法。 例如,可以通过从一组成对的伺服条带中剔除预定对来记录预定代码。 【0136】 伺服图案形成头称为伺服写入头。 伺服写磁头通常具有一对间隙,对应于与伺服带的数量一样多的磁条对。 通常,铁芯和线圈连接到每一对间隙,并且通过向线圈提供电流脉冲,铁芯中产生的磁场可以在该对间隙中产生漏磁场。 在形成伺服图案时,在磁带在伺服写入磁头上运行的同时,通过输入电流脉冲将对应于一对间隙的磁性图案转移到磁带上,从而形成伺服图案。 每个间隙的宽度可以根据要形成的伺服图案的密度适当地设置。 每个间隙的宽度可以设置为例如1μm或更小、1至10μm或10μm或更大。 【0137】 在磁带上形成伺服图案之前,通常对磁带进行消磁(擦除)处理。 可以通过使用直流磁体或交流磁体向磁带施加均匀磁场来执行该擦除过程。 擦除处理包括DC(直流)擦除和AC(交流)擦除。 交流擦除是通过逐渐降低磁场强度同时反转施加到磁带的磁场方向来执行的。 另一方面,DC擦除是通过向磁带施加单向磁场来执行的。 DC擦除还有两种方法。 第一种方法是水平直流擦除,它沿磁带的纵向施加单向磁场。 第二种方法是垂直直流擦除,它沿磁带的厚度方向施加单向磁场。 擦除过程可以对整个磁带进行,也可以对磁带的每个伺服带进行。 【0138】 根据擦除方向确定形成的伺服图案的磁场方向。 例如,当在磁带上执行水平DC擦除时,伺服模式被形成为使得磁场的方向与擦除方向相反。 结果,可以增加通过读取伺服模式获得的伺服信号的输出。 顺便提及,如日本专利申请特开No.2012-53940中所公开的,当使用间隙将磁性图案转印到垂直DC擦除磁带时,读取并获得形成的伺服图案。伺服信号具有单极性脉冲形状。 另一方面,当磁性图案被转移到已经使用间隙被水平DC擦除的磁带时,通过读取形成的伺服图案获得的伺服信号具有双极脉冲形状。 【0139】 [磁带盒] 本发明的一个方面涉及一种包括上述磁带的盒式磁带。 【0140】 包含在盒式磁带中的磁带的细节如上所述。 【0141】 盒式磁带通常包含缠绕在盒体内部的卷轴上的磁带。 卷轴可旋转地设置在盒体内。 作为磁带盒,广泛使用在盒体内具有一个卷轴的单卷轴型磁带盒和在盒体内具有两个卷轴的双卷轴型磁带盒。 当单卷盘盒式磁带装入磁带装置以在磁带上记录和/或再现数据时,将磁带从盒式磁带中拉出并缠绕到磁带装置的卷轴上。采取。 磁头布置在从磁带盒到卷带盘的磁带传送路径中。 磁带在盒式磁带的卷轴(supply reel)和磁带装置的卷轴(take-up reel)之间被传送和卷取。 在此期间,通过磁头与磁带的磁性层表面之间的接触和滑动来记录和/或再现数据。 另一方面,双卷轴盒式磁带在盒式磁带内部具有供带卷轴和收带卷轴。 【0142】 在一种形式中,盒式磁带可以包括盒式存储器。 盒式存储器例如可以是非易失性存储器,并且已经记录了磁头倾斜角度调整信息或者记录了磁头倾斜角度调整信息。 磁头倾斜角调整信息是用于在磁带在磁带装置中运行时调整磁头倾斜角的信息。 例如,作为磁头倾斜角调整信息,可以记录数据记录期间在磁带的纵向上的每个位置处的伺服带间隔的值。 例如,当再现记录在磁带上的数据时,在再现期间测量伺服带间隔的值,并且在记录在盒式存储器中的相同纵向位置处与记录期间的伺服带间隔的差值的绝对值变为0磁头的倾斜角度可由磁带装置的控制单元改变以接近。 头部倾斜角度例如可以是上述角度θ。 【0143】 上述的磁带和盒式磁带可以适用于以不同的磁头倾斜角度记录和/或再现数据的磁带装置(换言之,磁记录/再现系统)。 在这种磁带装置的一种形式中,可以通过在磁带运行时改变磁头的倾斜角度来记录和/或再现数据。 例如,可以根据磁带运行时获取的磁带宽度方向的尺寸信息来改变磁头倾斜角度。 此外,例如,在改变特定时间的用于记录和/或再现的磁头倾斜角和下一次之后的用于记录和/或再现的磁头倾斜角之后,用于每次记录和/或再现的磁带可能存在跑步时头部倾斜角度固定不变的一种使用方式。 在任何形式的使用中,当以不同磁头倾斜角度记录和/或再现数据时具有高运行稳定性的磁带是优选的。 【0144】 [磁带装置] 本发明的一个方面涉及一种包括上述磁带的磁带装置。 在上述磁带装置中,例如通过使磁带的磁性层的表面与磁头接触并滑动来进行在磁带上的记录数据和/或记录在磁带上的数据的再现。完毕。 磁带装置可以可拆卸地包括根据本发明的一个方面的盒式磁带。 【0145】 磁带盒可以安装在具有磁头的磁带设备中并用于记录和/或再现数据。 在本发明和本说明书中,术语“磁带装置”是指能够在磁带上记录数据和再现记录在磁带上的数据中的至少一种的装置。 此类设备通常称为驱动器。 【0146】 <磁头> 磁带装置可以包括磁头。 磁头的构造和作为磁头倾斜角的角度θ如上文参考图1至图3所述。 磁带装置中包含的磁头可以是一种形式的LTO8磁头,另一种形式的LTO磁头,另一种形式的LTO磁头以外的磁头。 当磁头包括再现元件时,再现元件优选为能够以高灵敏度读取记录在磁带上的信息的磁阻(MR)元件。 作为MR元件,可以使用各种已知的MR元件(例如,GMR(巨磁阻)元件、TMR(隧道磁阻)元件等)。 记录数据和/或再现记录数据的磁头在下文中也被称为“记录/再现头”。 用于记录数据的元件(recording element)和用于再现数据的元件(reproducing element)统称为“磁头元件”。 【0147】 通过使用具有窄再现元件宽度的再现元件作为再现元件来再现数据,可以以高灵敏度再现以高密度记录的数据。 从这个观点来看,读取元件的读取元件宽度优选为0.8μm或更小。 读取元件的读取元件宽度例如可以为0.3μm以上。 然而,从上述观点来看,低于该值也是优选的。 这里,“再现元件宽度”是指再现元件宽度的物理尺寸。 这样的物理尺寸可以用光学显微镜、扫描电子显微镜等测量。 【0148】 当记录数据和/或再现记录的数据时,首先,可以执行使用伺服信号的跟踪。 也就是说,通过使伺服信号读取元件跟随预定的伺服磁道,可以控制磁头元件越过目标数据磁道。 通过在磁带的宽度方向上改变由伺服信号读取元件读取的伺服轨道来移动数据轨道。 录放磁头还可以录放其他数据段。 在这种情况下,上述UDIM信息用于将伺服信号读取元件移动到预定伺服带,并且可以开始对该伺服带的跟踪。 【0149】 图5示出了数据带和伺服带的布置示例。 在图5中,多个伺服带1被布置成夹在磁带MT的磁性层上的引导带3之间。 夹在两个伺服带之间的多个区域2是数据带。 伺服图案是通过用伺服写入头磁化磁性层的特定区域而形成的磁化区域。 伺服写入头磁化的区域(形成伺服图案的位置)由标准定义。 例如,在工业标准LTO Ultrium格式磁带中,如图6所示,在制造磁带时在伺服带上形成多个相对于磁带宽度方向倾斜的伺服图案。 具体地,在图6中,伺服带1上的伺服帧SF由伺服子帧1(SSF1)和伺服子帧2(SSF2)组成。 伺服子帧1由A突发(图6中的符号A)和B突发(图6中的符号B)组成。 A突发由伺服模式A1至A5组成,B突发由伺服模式B1至B5组成。 另一方面,伺服子帧2由C突发(图6中的符号C)和D突发(图6中的符号D)组成。 C突发由伺服模式C1至C4组成,D突发由伺服模式D1至D4组成。 这18个伺服模式在按5、5、4、4顺序排列的子帧中以5组和4组排列,用于识别伺服帧。 为了说明,图6示出了一个伺服帧。 然而,实际上,在执行基于定时的伺服系统的磁头跟踪的磁带的磁层上的每个伺服带中,在运行方向上布置多个伺服帧。 在图6中,箭头表示磁带的行进方向。 例如,LTO Ultrium 格式磁带通常在磁层的每个伺服带中每米磁带长度具有 5000 个或更多伺服帧。 【0150】 在上述磁带装置中,可以在磁带在磁带装置中运行的同时改变磁头的倾斜角度。 磁头倾斜角例如是元件阵列的轴相对于磁带的宽度方向所成的角度θ。 角度θ如上所述。 例如,通过在磁头的记录/再现磁头单元中设置用于调整磁头模块的角度的角度调整部分,可以在磁带运行时可变地调整角度θ。 这种角度调节器可以包括例如旋转模块的旋转机构。 可以将已知技术应用于角度调节部分。 【0151】 关于磁带运行期间磁头的倾斜角度,如果磁头包括多个模块,则可以为随机选择的模块定义参照图1至图3描述的角度θ。 θ,即磁带开始运行时的角度θ _initial 可以设置在 0° 以上或以上。 θ _initial 随着θ变大,相对于角度θ的变化量的伺服信号读出元件间的有效距离的变化量变大,从观点来看是优选的。 从这一点来看,θ _initial 优选为1°以上,更优选为5°以上,进一步优选为10°以上。 另一方面,当磁带运行与磁头接触时,磁性层表面与磁头接触面形成的角度(一般称为“包角”)在偏差中保持较小磁带宽度方向这对于提高在磁带运行期间由磁头和磁带之间的接触引起的磁带宽度方向的均匀性是有效的。 此外,从磁头的位置追随性和运行稳定性的观点来看,希望改进沿磁带宽度方向的摩擦的均匀性。 从减小包角在带宽方向的偏差的观点来看,θ _initial 优选为45°以下,更优选为40°以下,进一步优选为35°以下。 【0152】 关于磁带运行过程中角度θ的变化,磁带在磁带装置中运行以在磁带上记录数据和/或再现磁带上记录的数据。磁头为θ _initial , 磁带运行过程中角度 θ 的最大变化量 Δθ 由下式计算 Δθ _max 和Δθ _min ,这是较大的值。 磁带运行时角度θ的最大值为θ _max 最小值为 θ _min 是。 请注意,“max”是 maximum 的缩写,“min”是 minimum 的缩写。 Δθ _max =θ _max -θ _initial Δθ _min =θ _initial -θ _min 【0153】 在一种形式中,Δθ可以大于0.000°,并且从调整伺服信号读取元件之间的有效距离以响应磁带宽度方向上的尺寸变化的可调整性的观点来看,应该为0.001°或更大。优选,更优选0.010°以上。 从在数据记录和/或再现期间促进多个磁头元件之间的记录数据和/或再现数据的同步的观点,Δθ优选为1.000°或更小。更优选为0.900°或更小,还更优选为0.800 °以下,更优选为0.700°以下,进一步优选为0.600°以下。 【0154】 在图2和图3所示的例子中,元件阵列的轴向磁带的行进方向倾斜。 然而,本发明不限于这些示例。 在上述磁带装置中,本发明还包括元件阵列的轴沿与磁带行进方向相反的方向倾斜的实施例。 【0155】 θ,磁带开始运行时的磁头倾斜角度 _initial 可以通过磁带设备的控制器等来设置。 关于磁带行走时的磁头倾斜角,图7是磁带行走时的角度θ的测定方法的说明图。 例如,可以通过以下方法获得磁带运行期间的角度θ。 当通过以下方法获得磁带运行期间的角度θ时,角度θ在磁带运行期间在0至90°的范围内变化。 也就是说,如果磁带开始运行时元件阵列的轴在磁带的行进方向上倾斜,则元件阵列的轴将在与磁带的行进方向相反的方向上移动当磁带开始走动时,如果元件阵列的轴在磁带开始走动时向与磁带走动方向相反的方向倾斜,则元件阵列的轴不会向磁带倾斜。假定当磁带开始运行时元件阵列不向磁带的运行方向倾斜。 测量来自一对伺服信号读取元件1和2的再现信号之间的相位差(即,时间差)ΔT。 ΔT可以通过设置在磁带装置中的测量单元来测量。 这种测量单元的配置是已知的。 伺服信号读取元件1的中心部与伺服信号读取元件2的中心部之间的距离L可以用光学显微镜等测量。 当磁带运行速度为v时,两个伺服信号读取元件在磁带运行方向上的距离为Lsinθ,Lsinθ=v×ΔT的关系成立。 因此,磁带运行过程中的角度θ可由公式“θ=arcsin(v.DELTA.T/L)”计算得出。 图7的右图表示元件阵列的轴向磁带的行进方向倾斜的例子。 在该示例中,测量伺服信号读取元件1的再现信号的相位与伺服信号读取元件2的再现信号的相位之间的相位差(即,时间差)ΔT。 如果元件阵列的轴在与磁带运行方向相反的方向上倾斜,则来自伺服信号读取元件2的再现信号的相位与相位之间的相位差(即时间差)来自伺服信号读取元件1的再现信号的ΔT为 ),θ可以通过上述方法确定,除了ΔT被测量为 )。 角度θ的测量间距,即角度θ在胶带纵向的测量间隔,可以根据胶带纵向宽度变形的频率来选择。 作为示例,测量间距例如可以是250μm。 【0156】 <磁带设备的配置> 图8所示的磁带装置10根据来自控制装置11的命令控制记录/再现磁头单元12以在磁带MT上记录和再现数据。 磁带装置10具有能够检测和调节从控制磁带盒卷盘和卷带盘的旋转的主轴马达17A和17B及其驱动装置施加在磁带纵向方向上的张力的构造18A和18B.正在做。 磁带装置10具有能够装载盒式磁带13的结构。 磁带装置10具有能够对磁带盒13的盒式存储器131进行读写的盒式存储器读写装置14。 从安装在磁带装置10上的磁带盒13,通过自动装载机构或手动拉出磁带MT的端部或导销,并且磁带MT的磁层表面被记录记录/再现头单元12。磁带MT通过引导辊15A和15B在与再现头的表面接触的方向上越过记录/再现头而被卷绕到卷带盘16上。 来自控制器11的信号控制主轴电机17A和主轴电机17B的旋转和扭矩,以任意速度和张力运行磁带MT。 先前在磁带上形成的伺服模式可用于控制磁带速度和磁头倾斜角度。 可以在磁带盒13和卷带盘16之间设置张力检测机构来检测张力。 除了主轴电机17A和17B的控制之外,还可以使用导辊15A和15B来进行张力控制。 盒式存储器读/写装置14被配置为能够根据来自控制装置11的命令从盒式存储器131读取和写入信息。 作为盒式存储器读/写装置14和盒式存储器131之间的通信方法,例如,可以采用ISO(国际标准化组织)14443方法。 【0157】 控制装置11例如包括控制部、存储部、通信部等。 【0158】 记录/再现头单元12包括例如记录/再现头、用于在磁道宽度方向上调整记录/再现头的位置的伺服跟踪致动器、记录/再现放大器19、用于连接的连接器电缆。到控制装置11等。 记录/再现头由例如用于在磁带上记录数据的记录元件、用于从磁带再现数据的再现元件和用于读取记录在磁带上的伺服信号的伺服信号读取元件组成. 例如,一个或多个记录元件、一个或多个再现元件以及一个或多个伺服信号读取元件安装在一个磁头中。 或者,每个元件可以分别设置在对应于磁带行进方向的多个磁头中。 【0159】 记录/再现头单元12被配置为能够根据来自控制装置11的命令将数据记录在磁带MT上。 此外,根据来自控制装置11的命令,可以再现记录在磁带MT上的数据。 【0160】 控制装置11在磁带MT运行时根据从伺服带读取的伺服信号获得磁带的运行位置,并且控制伺服使得记录元件和/或再现元件位于目标运行position(轨道位置),它有一个控制跟踪执行器的机制。 该轨道位置控制例如通过反馈控制来进行。 控制装置11具有用于在磁带MT运行时根据从两个相邻伺服带读取的伺服信号获得伺服带间隔的机构。 控制装置11可以将获得的伺服带间隔信息存储在控制装置11内部的存储单元、盒存储器131、外部连接的装置等中。 此外,控制装置11可以根据运行磁带的宽度方向上的尺寸信息来改变磁头倾斜角。 结果,可以使伺服信号读取元件之间的有效距离接近或匹配伺服带的间距。 可以使用预先形成在磁带上的伺服图案来获取上述尺寸信息。 例如,当磁带在磁带装置中运行时,可以根据磁带宽度方向上的尺寸信息来调整元件阵列的轴相对于磁带宽度方向所成的角度θ。运行过程中获得的磁带。可以更换。 例如,可以通过反馈控制来调整头部倾斜角度。 此外,例如,可以通过JP-A-2016-524774(专利文献1)或US2019/0164573A1(专利文献2)中描述的方法来调整头部倾斜角度。 【例子】 【0161】 下面将基于实施例描述本发明。 然而,本发明不限于实施例中所示的实施方式。 以下记载的“份数”表示“质量份数”。 此外,除非另有说明,否则以下描述的处理和评估是在温度为23°C±1°C的环境中进行的。 下面使用的“eq”是等效的,一个不可转换为 SI 单位的单位。 【0162】 [凸起成型剂] 在制备实施例和比较例的磁带的磁性层形成组合物的制备中使用的突起形成剂如下。 突起形成剂A和突起形成剂D是表面平滑度低的粒子。 突起形成剂B的粒子形状为所谓的无定形。 突起形成剂C的粒子形状为茧状。 突起形成剂E的粒子形状接近于球状。 投影成型剂A:Cabot ATLAS(二氧化硅和聚合物的复合颗粒),平均粒径100 nm 突起形成剂B:Asahi#52(炭黑),由Asahi Carbon Co., Ltd.制造,平均粒径60nm 突起形成剂C:TGC6020N(二氧化硅颗粒),由Cabot Corporation制造,平均粒径140nm 突起形成剂D:日机触媒化成株式会社制Cataloid(二氧化硅粒子的水分散溶胶,将上述水分散溶胶加热除去溶剂而得,作为突起形成剂,用于配制磁性层形成用组合物)干物质),平均粒径120nm 突起形成剂E:Quatron PL-10L(扶桑化学工业株式会社制造的二氧化硅粒子水分散溶胶);干物质制得),平均粒径130nm 【0163】 [铁磁粉] 在表1中,“BaFe”是六方晶系钡铁氧体粉末(矫顽力Hc:196kA/m,平均粒径(平均板径):24nm)。 【0164】 在表1中,“SrFe1”是通过以下方法制造的六方晶系锶铁氧体粉末。 碳酸锶 ₃ 1707克,高 ₃ BO ₃ 687克,铁 ₂ 欧 ₃ 1120 克铝 (OH) ₃ 45 克碳酸钡 ₃ 24 克碳酸钙 ₃ 13g,和钕 ₂ 欧 ₃ 称取235g,用混合机混合,得到原料混合物。 将如此获得的原料混合物在1390℃的熔化温度下在铂坩埚中熔化,并且在铂坩埚底部设置的出口加热的同时搅拌熔体以将熔体以棒状的速度分配至棒状。约 6 克/秒。 将流出的液体用水冷双辊轧制和淬火以制备非晶质体。 将制备好的280g非晶材料放入电炉中,以3.5℃/min的升温速率升温至635℃(晶化温度),并在该温度下保温5小时,析出六方晶系锶铁氧体颗粒(结晶)。 接着,将上述得到的含有六方晶系铁酸锶颗粒的结晶物在研钵中粗粉碎,将1000g粒径为1mm的氧化锆珠和800ml 1%浓度的醋酸水溶液加入到玻璃瓶中并使用油漆搅拌器分散 3 小时。 之后,将所得分散体与珠子分离并置于不锈钢烧杯中。 将分散液在100℃的液温下静置3小时使玻璃成分溶解后,在离心机中沉降后反复倾析洗涤,然后放入内温110℃的加热炉中℃6小时,干燥数小时后,得到六方晶系锶铁氧体粉末。 上述得到的六方锶铁氧体粉体的平均粒径为18nm,活化体积为902nm。 ³ , 各向异性常数 Ku 为 2.2×10 ⁵ 焦耳/米 ³ , 质量磁化 σs 为 49 A m ² /公斤。 从上述得到的六方晶系铁酸锶粉末中取出12mg样品粉末,在上述溶解条件下使样品粉末部分溶解,测定表层含量。 另外,从上述得到的六方晶系铁酸锶粉末中取出12mg试样粉末,在上述例示的溶解条件下使该试样粉末完全溶解,求出原子体积含量。 在以上获得的六方晶系锶铁氧体粉末中,相对于100原子%的铁原子,钕原子的含量(体积含量)为2.9原子%。 表面层中的钕原子含量为8.0原子%。 表面层部分含有率与体积含有率之比“表面层部分含有率/体积含有率”为2.8,证实了钕原子不均匀地分布在颗粒的表面层中。 通过在45kV的电压和40mA的强度的条件下扫描CuKα射线并且在以下条件下测量X射线衍射图(X射线衍射分析),以上获得的粉末呈现出六方晶系铁氧体晶体结构。 . 上面获得的粉末呈现出磁铅石型(M型)六方晶系铁氧体的晶体结构。 X射线衍射分析检测到的晶相为磁铅矿单相。 帕纳科 X'Pert Pro 衍射仪,PIXcel 检测器 入射和衍射光束的索勒狭缝:0.017 弧度 色散狭缝固定角度:1/4度 面罩:10mm 防散射狭缝:1/4度 测量方式:连续 每步测量时间:3秒 测量速度:每秒0.017度 测量步距:0.05度 【0165】 在表1中,“SrFe2”是通过以下方法制造的六方晶系锶铁氧体粉末。 碳酸锶 ₃ 1725克,高 ₃ BO ₃ 666克,铁 ₂ 欧 ₃ 1332 克铝 (OH) ₃ 52 克碳酸钙 ₃ 34 克碳酸钡 ₃ 称取141g,用混合机混合,得到原料混合物。 将如此获得的原料混合物在1380℃的熔化温度下在铂坩埚中熔化,并在铂坩埚底部设置的出口加热的同时搅拌熔体以将熔体以棒状的速度分配至棒状。约 6 克/秒。 将流出的液体用水冷双辊轧制和淬火以制备非晶体。 将280g所得到的非晶材料放入电炉中,加热至645℃(结晶温度),并在相同温度下保持5小时以使六方晶系锶铁氧体颗粒析出(结晶)。 接着,将上述得到的含有六方晶系铁酸锶颗粒的结晶物在研钵中粗粉碎,将1000g粒径为1mm的氧化锆珠和800ml 1%浓度的醋酸水溶液加入到玻璃瓶中并使用油漆搅拌器分散 3 小时。 之后,将所得分散体与珠子分离并置于不锈钢烧杯中。 将分散液在100℃的液温下静置3小时使玻璃成分溶解后,在离心机中沉降后反复倾析洗涤,然后放入内温110℃的加热炉中℃6小时,干燥数小时后,得到六方晶系锶铁氧体粉末。 所得六方锶铁氧体粉末的平均粒径为 19 nm,活化体积为 1102 nm。 ³ , 各向异性常数 Ku 为 2.0×10 ⁵ 焦耳/米 ³ , 质量磁化 σs 为 50 A m ² /公斤。 【0166】 在表1中,“ε-氧化铁”是通过以下方法制备的ε-氧化铁粉末。 90 克纯水、8.3 克硝酸铁 (III) 九水合物、1.3 克硝酸镓 (III) 八水合物、190 毫克硝酸钴 (II) 六水合物、150 毫克硫酸钛 (IV) 和聚乙烯吡咯烷酮至 1.5 克溶解于其中的(PVP) 4.0g,在空气气氛中,在25℃的环境温度下,一边用磁力搅拌器搅拌一边加入浓度为25%的氨水溶液。一边保持搅拌一边搅拌2小时。 °C 的温度条件。 将通过将1g柠檬酸溶解于9g纯水而获得的柠檬酸溶液加入到所获得的溶液中,并且将混合物搅拌1小时。 离心收集搅拌后沉淀的粉末,用纯水洗涤,在炉内温度为80℃的加热炉中干燥。 向干燥的粉末中加入800g纯水,再次将粉末分散于水中,得到分散液。 将所得分散液的温度升高至50℃,并在搅拌的同时滴加40g浓度为25%的氨水溶液。 在将温度保持在50℃的同时搅拌1小时后,滴加14mL的四乙氧基硅烷(TEOS)并搅拌24小时。 在得到的反应液中加入50g硫酸铵,离心收集析出的粉末,用纯水洗涤,在内部温度80℃的加热炉中干燥24小时,得到强磁性粉末前驱体.获得。 将得到的强磁性粉末的前驱体放入内部温度为1000℃、空气气氛的加热炉中,热处理4小时。 将热处理后的铁磁粉前驱体放入4mol/L氢氧化钠(NaOH)水溶液中,保持液温70℃搅拌24小时,得到热处理过的铁磁粉。因为从前体中去除了杂质。 之后,通过离心分离收集除去了硅酸化合物的强磁性粉末,用纯水洗涤,得到强磁性粉末。 当通过电感耦合等离子体发射光谱法 (ICP-OES) 确定获得的铁磁粉末的组成时,Ga、Co 和 Ti 取代的 ε- 氧化铁 (ε-Ga _0.28 有限公司 _0.05 钛 _0.05 铁 _1.62 欧 ₃ )遇见。 另外,在与上述SrFe1相同的条件下进行X射线衍射分析,从X射线衍射图的峰确认得到的强磁性粉末不含有α相、 γ相、ε确认为单相结晶结构(ε-氧化铁结晶结构)。 所得 ε- 氧化铁粉末的平均粒径为 12 nm,活化体积为 746 nm。 ³ , 各向异性常数 Ku 为 1.2×10 ⁵ 焦耳/米 ³ , 质量磁化 σs 为 16A m ² /公斤。 【0167】 上述六方晶系铁酸锶粉末和ε-氧化铁粉末的活化体积和各向异性常数Ku,如前所述,使用振动样品磁强计(东映工业株式会社制)对各铁磁性粉末求得。通过以下方法获得的值 此外,质量磁化强度σs是使用振动样品磁强计(Toei Kogyo Co.,Ltd.制造)在15kOe的磁场强度下测量的值。 【0168】 [示例 1] <磁性层形成用组合物> 【0169】 (磁性液体) 铁磁粉(见表1):100.0份 油酸:2.0份 氯乙烯共聚物(钟化株式会社制MR-104):10.0份 所以 ₃ 含Na基聚氨酯树脂:4.0份 (重均分子量70000,SO ₃ 钠基:0.07meq/g) 添加剂A:10.0份 甲乙酮:150.0份 环己酮:150.0份 (研磨液) α-氧化铝(平均粒径:110nm):6.0份 氯乙烯共聚物(钟化株式会社制MR110):0.7份 环己酮:20.0份 (突起成型剂液) 凸出成型剂(见表1):见表1 甲乙酮:9.0份 环己酮:6.0份 (其他成分) 聚乙烯亚胺(日本触媒制造,数均分子量300):2.0份 硬脂酸:0.5份 硬脂酰胺:0.3份 硬脂酸丁酯:6.0份 甲乙酮:110.0份 环己酮:110.0份 多异氰酸酯(东曹株式会社制Coronate(注册商标)L):3.0份 【0170】 上述添加剂 A 是通过 JP-A-2016-051493 的第 0115 至 0123 段中描述的方法合成的聚合物。 【0171】 <非磁性层形成用组合物> 非磁性无机粉末(α-氧化铁):80.0份 (平均粒径:0.15μm,平均针状比:7,BET(Brunauer-Emmett-Teller)比表面积:52m ² /G) 炭黑(平均粒径:20nm):20.0份 电子束固化氯乙烯共聚物:13.0份 电子束固化聚氨酯树脂:6.0份 苯基膦酸:3.0份 环己酮:140.0份 甲乙酮:170.0份 硬脂酸丁酯:2.0份 硬脂酸:1.0份 【0172】 <背涂层形成用组合物> 非磁性无机粉末(α-氧化铁):80.0份 (平均粒径:0.15μm,平均针状比:7,BET比表面积:52m ² /G) 炭黑(平均粒径:20nm):20.0份 炭黑(平均粒径:100nm):3.0份 氯乙烯共聚物:13.0份 含磺酸基聚氨酯树脂:6.0份 苯基膦酸:3.0份 环己酮:140.0份 甲乙酮:170.0份 硬脂酸:3.0份 多异氰酸酯(东曹株式会社制Coronate(注册商标)L):5.0份 甲乙酮:400.0份 【0173】 <各层形成用组合物的制备> 通过以下方法制备用于形成磁性层的组合物。 将上述磁性液体的各组分用敞开式捏合机捏合稀释后,用卧式珠磨机分散机分散粒径为0.5mm的氧化锆(ZrO)颗粒。 ₂ ) 使用珠子(以下称为“Zr珠子”),珠子填充率为体积比80%,转子尖端圆周速度为10m/sec,每道次停留时间为2分钟,分散处理12道次稻田。 研磨液各组分混合后,与粒径为1mm的Zr珠一起放入立式砂磨机分散器中,使珠体积/(磨液体积+珠体积)为60%。调整后,砂研磨分散处理180分钟,取出处理液,使用流动式超声波分散过滤装置进行超声波分散过滤处理。 突起形成剂液是将突起形成剂液的各成分混合后,使用喇叭式超声波机以500瓦特/200cc的超声波输出进行60分钟的超声波处理(分散处理)60分钟而得到的分散液。分散机,用孔径为0.5 μm的过滤器过滤。 将上述磁性液体、研磨液、突起形成剂液体等组分引入溶解搅拌器中,以10m/sec的圆周速度搅拌30分钟,然后通过流动式流至7.5kg/min。超声分散,然后用孔径为1μm的过滤器过滤,制备磁性层形成用组合物。 【0174】 通过以下方法制备用于形成非磁性层的组合物。 将除润滑剂(硬脂酸丁酯和硬脂酸)以外的上述组分用敞开式捏合机捏合稀释,然后用卧式珠磨分散机分散。 之后,加入润滑剂(硬脂酸丁酯和硬脂酸)并通过用溶解搅拌器搅拌混合以制备用于形成非磁性层的组合物。 【0175】 通过以下方法制备用于形成背涂层的组合物。 将除润滑剂(硬脂酸)、多异氰酸酯和甲乙酮(400.0份)外的上述成分用敞开式捏合机捏合稀释,然后用卧式珠磨分散机分散。 之后,添加润滑剂(硬脂酸)、多异氰酸酯和甲基乙基酮(400.0份)并通过用溶解搅拌器搅拌混合以制备用于形成背涂层的组合物。 【0176】 <磁带和磁带盒的生产> 将非磁性层形成用组合物涂布在厚度为4.1μm的双轴拉伸聚萘二甲酸乙二醇酯支撑体上,干燥后的厚度为0.7μm,进行干燥。照射电子束,使得 通过在其上涂布磁性层形成组合物以在干燥后具有0.1μm的厚度来形成涂层。 在该被覆层处于湿润状态的状态下,在取向区域,在垂直于被覆层表面的方向施加表1所示的磁场强度的磁场,进行垂直取向处理,然后,干燥涂层,形成磁性层。 然后,将背涂层形成用组合物以干燥后的厚度为0.3μm的方式涂布在支撑体的形成有非磁性层和磁性层的面的相反侧的面上,干燥后形成背涂层。形成。 然后,使用由构成的七级压延辊以压延速度80m/min、线压力294kN/m、压延温度(压延辊的表面温度)80℃进行压延。只有金属辊。 之后,在环境温度为70℃的环境中进行热处理36小时。 热处理后,将产品分条成1/2英寸宽,送入分条产品,用带卷取装置的胶带清洁装置去除表面磁性层,使无纺布和刀片压在磁性层表面,清洗后得到磁带。 用市售的伺服写入器在所得磁带的磁层上记录伺服信号,按照LTO(Linear Tape-Open)Ultrium格式排列数据带、伺服带和引导带,以及形成伺服磁带,得到在带上具有根据LTO Ultrium格式排列和成形的伺服图案(基于时序的伺服图案)的磁带。 如此形成的伺服图案是根据JIS(日本工业标准)X6175:2006和标准EC​​MA-319(2001年6月)的描述的伺服图案。 伺服带总数为5,数据带总数为4。 将以这种方式记录伺服信号的磁带(长度 960m)缠绕在磁带盒(LTO Ultrium8 数据盒)的卷轴上,然后将市售拼接带连接到磁带的末端标准 ECMA(欧洲计算机制造商协会)- 319(2001 年 6 月)第 3 节第 9 项被拼接。 这样,制作了其中磁带缠绕在卷轴上的盒式磁带。 【0177】 可以通过以下方法确认磁带的磁性层包含含有由聚乙烯亚胺和硬脂酸形成的式1表示的烷基酯阴离子的铵盐结构的化合物。 从磁带上切下样品,使用ESCA装置对磁性层表面(测量区域:300μm×700μm)进行X射线光电子能谱分析。 具体而言,使用ESCA装置在以下测定条件下进行宽扫描测定。 在测量结果中,在酯阴离子的结合能和铵阳离子的结合能的位置确认了峰。 设备:Shimadzu AXIS-ULTRA 激发X射线源:单色Al-Kα射线 扫描范围:0~1200eV 传递能量:160eV 能量分辨率:1eV/step 采集时间:100ms/步 累计数:5 此外,从磁带切下3cm长的样品片,对磁性层的表面进行ATR-FT-IR(衰减全反射-傅里叶变换-红外光谱仪)测定(反射法)。 ^- 对应于吸收的波数(1540 cm ^-1 或 1430cm ^-1 ), 以及对应于铵阳离子吸收的波数 (2400 cm ^-1 ) 确认被吸收。 【0178】 [实施例2~27、比较例1~34] 将表1所示的项目如表1所示进行变更,除此之外,按照实施例1所述的方法得到磁带和盒式磁带。 在比较例1~11中,未进行垂直取向处理,因此表1中的“垂直取向处理条件”一栏记载为“无”。 对于示例23-27和比较示例30-34,伺服信号记录之后的步骤改变如下。 即,在伺服信号记录之后进行热处理。 另一方面,对于实施例1~22和比较例1~29,由于不进行这样的热处理,因此表1中的“热处理条件”一栏记载为“无”。 在实施例23~27和比较例30~34中,将与实施例1同样地记录了伺服信号的磁带(长度970m)卷绕在用于热处理的磁芯上,并在该磁芯上进行热处理。这种情况。 作为热处理用芯材,使用具有表1所示的弯曲模量的树脂制实心芯材(外径:50mm),卷绕时的张力设定为表1所示的值。 热处理中的热处理温度和热处理时间为表1所示的值。 热处理气氛的重量绝对湿度为10g/kg干燥空气。 经过上述热处理后,磁带和热处理芯充分冷却后,将磁带从热处理芯上取下,缠绕在临时收线芯上,然后将磁带盒(Wind the magnetic tape对于最终产品长度(960m)到LTO Ultrium 8数据盒的卷轴上),将剩余的10m剪掉,并在剪掉的一面的末端贴上市售的拼接胶带,标准ECMA(欧洲计算机制造商协会) )- 319(2001年6月)第3节第9项被拼接。 临时卷绕用卷芯使用与热处理用卷芯相同材质且外径相同的实心部件,卷绕时的张力为0.6N。 这样,制作了其中磁带缠绕在卷轴上的盒式磁带。 【0179】 对上述实施例和比较例各制作6个盒式磁带,1个用于以下的运转稳定性评价,1个用于以下的电磁变换特性评价,另外4个使用。分别针对以下磁带评价(1)至(4)。 【0180】 【运行稳定性评价】 在温度为32℃和相对湿度为80%的环境中通过以下方法评估运行稳定性。 使用实施例和比较例的盒式磁带,使用具有图1所示结构的磁带装置记录和再现数据。 安装在记录再现头单元上的记录再现头所包含的模块的排列顺序为“记录模块-再现模块-记录模块”(模块总数:3)。 每个模块中的磁头元件数量为32个(Ch0至Ch31),这些磁头元件夹在一对伺服信号读取元件之间,形成一个元件阵列。 读取模块中包含的读取元件的读取元件宽度为0.8μm。 通过以下方法记录和再现数据,并在再现过程中评估运行稳定性。磁头倾斜角度按0°、15°、30°和45°的顺序依次变化,共进行四次次.. 磁头倾斜角是在每次运行开始时由再现模块的元件阵列的轴相对于磁带的宽度方向形成的角度θ。 角度θ由磁带装置的控制器在磁带每次运行开始时设置,磁头的倾斜角在磁带每次运行期间固定。 将磁带盒设置在磁带设备中并加载磁带。 接下来,在执行伺服跟踪的同时,具有特定数据模式的伪随机数据由记录/再现头单元记录在磁带上。 假定此时在带的纵向上施加的张力为恒定值。 在记录数据的同时,在纵向位置每 1m 处测量磁带整个长度的伺服带间隔值,并将其记录在盒式存储器中。 接着,在执行伺服跟踪的同时,记录在磁带上的数据由记录/再现磁头单元再现。 假定此时在带的纵向上施加的张力为恒定值。 使用基于再现期间由伺服信号读取元件获得的伺服信号的宽度方向上的读取位置PES(位置误差信号)的标准偏差(以下称为“σPES”)作为指标来评估运行稳定性. . PES通过以下方法确定。 为了获得 PES,需要伺服模式的尺寸。 伺服模式尺寸标准因 LTO 代而异。 因此,首先,使用磁力显微镜等,测量A脉冲串和C脉冲串对应的四个条纹之间的平均距离AC和伺服图案的方位角α。 将 a 定义为在 1 个 LPOS 字的长度上对应于 A 和 B 突发的 5 个条带之间的平均时间。 将 b 定义为 A 和 C 突发的相应 4 个条带在 1 个 LPOS 字的长度上的平均时间。 那么AC×(1/2-a/b)/(2×tan(α))定义的值就是基于伺服信号读取元件在1个LPOS字的长度上得到的伺服信号的宽度。这是定向读取位置 PES(位置误差信号)。 对于磁带,卷绕在磁带盒卷轴上的那一侧的一端称为内端,相反一侧的一端称为外端。对于区域,其标准偏差(σPES)计算通过上述方法获得的PES。 表1中的“σPES”栏显示了总计四次记录和再现所获得的σPES的算术平均值。 如果σPES小于70nm,则可以判断运行稳定性优异。 【0181】 【电磁转换特性评价(SNR:信噪比)】 将从实施例和比较例的各盒式磁带中取出的磁带安装到1/2英寸的卷轴测试仪上,并通过以下方法评价电磁转换特性(SNR:信噪比)。 在以下评价中,头部倾斜角度被设定为0°。 在温度23℃、相对湿度50%的环境下,在磁带的长度方向施加0.70N的张力,进行10次的记录再现。 磁带和磁头之间的相对速度为 6 m/sec,使用 MIG(Metal-in-gap)磁头(间隙长度 0.15 μm,磁道宽度 1.0 μm)作为记录头进行记录,并且将记录电流施加到每个磁头上,设置磁带的最佳记录电流。 使用GMR(巨磁阻)头(元件厚度:15nm,屏蔽间隔:0.1μm,再现元件宽度:0.8μm)进行再现。 记录线性记录密度为350kfci的信号,用Shibasoku Co.,Ltd.制造的频谱分析仪测量再现信号,并根据测量结果确定SNR。 在表1中,SNR表示为相对于比较例12的相对值。 单位kfci是线性记录密度的单位(不能转换成SI单位制)。 作为信号,使用了磁带开始运行后信号充分稳定的部分。 【0182】 【磁带评价】 (1) 垂直SFD 尺寸 3.6 cm × 3.2 cm(面积:11.5 cm ² ) 被剪掉了。 对于该样品片,使用玉川制作所制造的TM-VSM6050-SM型作为振动样品磁力计,通过上述方法获得垂直SFD(测量温度:25℃)。 【0183】 (2) 摩擦力 从实施例和比较例的各盒式磁带上取下磁带,摩擦力 F _45° 以及摩擦力 F 的标准偏差。 LTO8磁头使用市售的LTO8磁头(IBM公司制)。 【0184】 (3) 磁带纵向弯曲量的标准偏差 从磁带盒中取出磁带,通过上述方法求出磁带的长度方向的弯曲量的标准偏差。 【0185】 (4) 胶带厚度 从实施例和比较例的各磁带盒中取出的磁带的任意部分切下10个磁带样品(5cm长),将这些磁带样品堆叠以测量厚度。 使用带有 MARH Millimar 1240 紧凑型放大器和 Millimar 1301 感应探头的数字测厚仪进行厚度测量。 将测得的厚度除以1/10所得的值(每个胶带样品的厚度)作为胶带厚度。 每个磁带的磁带厚度为 5.2 μm。 【0186】 上述结果示于表1(表1-1、1-2)。 【0187】 [表1-1] 【0188】 [表1-2] 【0189】 由表1所示结果可知,在温度32℃、相对湿度80%的环境下测得的摩擦力F _45° 并且摩擦力F的标准偏差在上述范围内,当磁带在高温高湿环境中以不同的磁头倾斜角度运行时,实施例的磁带表现出优异的运行稳定性。 . 此外,从表1所示的结果也可以确认,垂直SFD为1.5以下的实施例的磁带表现出优异的电磁转换特性。 【产业适用性】 【0190】 本发明的一方面可用于各种数据存储技术领域。

登录后可查看全文