CN106861781B
有效
一种基于表面纳米气泡降低流体阻力的微通道制备方法
本发明公开了一种基于表面纳米气泡实现降低流体流动阻力的微通道制备方法。首先采用光刻技术（photolithography）和电化学刻蚀技术（electrochemical etching）在硅表面上获得底面带有孔状微结构的微通道；然后对该微通道表面进行硅烷化处理，使表面具有较好的疏水性；最后将玻璃覆盖在微通道的另一面并利用阳极焊技术密封。本发明制作的微通道可以通过改变进出口压力在微孔结构处生成具有不同突出角的纳米气泡，进而实现不同程度的流体减阻效果，提高微流体的传输效率。
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| 专利时间轴 | |
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| 专利类型/受理局 | PATENT( CN) |
| [标]当前申请（专利权）人 | 黑龙江科技大学 |
| 当前申请（专利权）人 |
黑龙江科技大学 150022 黑龙江省哈尔滨市松北区浦源路2468号 |
| [标]原始申请（专利权）人 | 黑龙江科技大学 |
| 原始申请（专利权）人 | 黑龙江科技大学 150022 黑龙江省哈尔滨市松北区浦源路2468号 |
| IPC分类号 |
IPC(8):
B01L3/00
+1
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| 技术主题分类 | |
| 应用领域分类 | |
| 发明人 |
李大勇 顾娟 刘玉波 董金波 |
| 代理机构 |
北京慕达星云知识产权代理事务所(特殊普通合伙) (李冉) |
