1.一种开放空间型液体操作装置，其具备基板、配置于所述基板的表面上的至少三个电极以及以覆盖所述至少三个电极的方式配置于所述基板的表面上的绝缘膜，并且
所述基板以具有柔性的方式形成为片状或膜状，
所述绝缘膜具有背面和表面，所述绝缘膜的背面朝向所述基板的表面，所述绝缘膜的表面相对于所述绝缘膜的背面而言位于所述绝缘膜的厚度方向的相反侧，
所述绝缘膜的表面向外部开放，
所述开放空间型液体操作装置被配置为：利用通过使得针对所述至少三个电极施加的电压变化而产生的静电力的变化，能够在所述绝缘膜的表面上控制液体；
其中，所述开放空间型液体操作装置形成有槽，所述槽在从所述绝缘膜的表面朝向所述绝缘膜的背面的方向上凹陷，并且
所述槽以跨越所述至少三个电极的方式延伸，
由所述基板、所述至少三个电极以及所述绝缘膜形成的两个结构体通过协作来形成所述槽，
所述基板具有相对于所述槽的底部而分别位于所述槽的宽度方向的一侧和另一侧的第一部分和第二部分，
所述绝缘膜具有相对于所述槽的底部而分别位于所述槽的宽度方向的一侧和另一侧的第一部分和第二部分，
所述两个结构体是作为包括所述基板的第一部分和所述绝缘膜的第一部分的第一结构体与作为包括所述基板的第二部分和所述绝缘膜的第二部分的第二结构体，
通过设置以形成所述槽的底部的方式使所述绝缘膜的第一部分和第二部分的表面进行抵接而成的抵接部，所述第一结构体以与所述第二结构体协作地形成所述槽的方式进行弯曲，
所述第一结构体与所述第二结构体以朝向彼此突出的方式弯曲。
2.如权利要求1所述的开放空间型液体操作装置，其中，所述第一结构体与所述第二结构体分别形成于所述槽的宽度方向上的相对于所述槽的底部的一侧和另一侧。
3.如权利要求2所述的开放空间型液体操作装置，其中，
所述第一结构体和所述第二结构体是分开的。
4.如权利要求3所述的开放空间型液体操作装置，其中，
所述第二结构体以与所述第一结构体协作地形成所述槽的方式弯曲。
5.如权利要求3所述的开放空间型液体操作装置，其中，
所述第二结构体以与所述第一结构体协作地形成所述槽的方式形成为大致平坦。
6.如权利要求2所述的开放空间型液体操作装置，其中，
所述第一结构体和所述第二结构体是一体的。
7.如权利要求1所述的开放空间型液体操作装置，其中，
所述槽被形成为：使所述槽的宽度伴随着从所述槽的开口部向所述槽的底部接近而减少。
8.如权利要求7所述的开放空间型液体操作装置，其中，
所述基板、所述至少三个电极以及所述绝缘膜通过设置弯曲部来进行弯曲以形成所述槽，所述弯曲部是以形成所述槽的底部的方式弯曲而成。
