CN113528253B
有效
一种用于OLED掩膜版及坩埚表面LiF材料清洗的组合物
本发明属于表面活性剂技术领域，具体涉及一种用于OLED掩膜版及坩埚表面LiF材料清洗的组合物，按质量百分数之和为100%计，包括0.1‑5%的特定的乙二醇基Gemini型两性离子表面活性剂，5‑20%无机强碱性物质，0.5‑20%有机助剂，0.1‑5%螯合剂，余量为高纯水。本发明通过特定的乙二醇基Gemini型两性离子表面活性剂与无机强碱混配，可以快速并有效去除蒸镀工艺中掩膜版及蒸镀设备坩埚上附着的LiF电极材料，大大提高了锂盐的溶解度，解决了市面上产品存在的沉淀问题，且易清洗无残留。
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| 专利时间轴 | |
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| 专利类型/受理局 | PATENT( CN) |
| [标]当前申请（专利权）人 | 福建省佑达环保材料有限公司 |
| 当前申请（专利权）人 |
福建省佑达环保材料有限公司 362800 福建省泉州市泉港区石化园区南山片区天盈路8号 |
| [标]原始申请（专利权）人 | 福建省佑达环保材料有限公司 |
| 原始申请（专利权）人 | 福建省佑达环保材料有限公司 362800 福建省泉州市泉港区石化园区南山片区天盈路8号 |
| IPC分类号 |
IPC(8):
C11D1/88C11D3/04C11D3/06C11D3/20C11D3/22C11D3/33C11D3/60C23G1/14
+8
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| 技术主题分类 | |
| 应用领域分类 | |
| 发明人 |
刘小勇 李丛香 房龙翔 叶鑫煌 |
| 代理机构 |
福州元创专利商标代理有限公司 (俞舟舟,蔡学俊) |
