JP2023515564A
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用于钻石生长的等离子整形
一种种植钻石的系统。 该系统包括带有微波室的化学气相沉积反应器。 该系统还包括被配置为定位在室内的单晶种。 该系统还包括前体气体。 微波源被配置为激发前体气体以产生等离子体羽流。 该系统的电磁波源被配置为产生感应外部场以用于调节等离子体羽流在腔室内的位置和/或用于调节等离子体羽流的形状。
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| 专利时间轴 | |
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| 专利类型/受理局 | APPLICATION( JP) |
| [标]当前申请（专利权）人 | エム·セブン·ディー コーポレーション,M7D CORPORATION |
| 当前申请（专利权）人 |
エム·セブン·ディー コーポレーション,M7D CORPORATION アメリカ合衆国 20705 メリーランド州 ベルツビル バージニア·マナー·ロード 6710,6710 Virginia Manor Road, Beltsville, MD 20705, United States of America |
| [标]原始申请（专利权）人 | エム·セブン·ディー コーポレーション,M7D CORPORATION |
| 原始申请（专利权）人 | エム·セブン·ディー コーポレーション,M7D CORPORATION アメリカ合衆国 20705 メリーランド州 ベルツビル バージニア·マナー·ロード 6710,6710 Virginia Manor Road, Beltsville, MD 20705, United States of America |
| IPC分类号 |
IPC(8):
C23C16/27C23C16/511C30B29/04C01B32/26H01L21/314H01L21/31
+6
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| 技术主题分类 | |
| 应用领域分类 | |
| 发明人 |
ジョン ピー. チラルド (アメリカ合衆国 メリーランド クラークスバーグ ブルー·フラッグ·サークル 23012) ジョナサン レヴァイン-マイルズ (アメリカ合衆国 イリノイ シカゴ ウェスト·シカゴ·アヴェニュー 2308 アパートメント 2) |
