CN111115564B
有效
一种干法转印光刻胶制备微纳结构的方法
本发明揭示了一种干法转印光刻胶制备微纳结构的方法。本发明通过对衬底进行修饰以降低光刻胶与衬底的粘附力，然后在光刻胶上曝光并显影得到所需的结构，再利用黏贴层选择性的把光刻胶从衬底上剥离，把剥离下来的光刻胶转移释放到所需要的衬底上，然后镀金属并lift‑off处理，本发明突破了传统加工对衬底材料，形状和尺寸的限制，可实现任意衬底上微纳结构的制备。
More
Images(11)
| 专利时间轴 | |
|
|
| 专利类型/受理局 | PATENT( CN) |
| [标]当前申请（专利权）人 | 湖南大学 |
| 当前申请（专利权）人 |
湖南大学 410082 湖南省长沙市岳麓区麓山南路1号 |
| [标]原始申请（专利权）人 | 湖南大学 |
| 原始申请（专利权）人 | 湖南大学 410082 湖南省长沙市岳麓区麓山南路1号 |
| IPC分类号 |
IPC(8):
B81C1/00G03F7/20
+2
|
| 技术主题分类 | |
| 应用领域分类 | |
| 发明人 |
段辉高 刘卿 陈艺勤 舒志文 |
| 代理机构 |
深圳市兴科达知识产权代理有限公司 (王翀,阳江军) |
