WO2023059634A1 PCT指定期内 窗腔晶圆
本文公开了用于形成窗腔晶片的技术和/或系统,其包括通过以下方式制造窗晶片:提供具有两个面的窗晶片衬底; 将基准点蚀刻到窗口晶片衬底的一个或多个面上; 在窗口晶片基板的一个或多个面上施加一种或多种光学涂层。 接下来,通过以下方式制造与窗口晶片分离的间隔晶片:提供具有两个面的间隔晶片基板; 在隔离晶圆基板上形成一列穿孔。 然后,将隔离晶圆与窗口晶圆键合形成窗口腔晶圆; 在窗腔晶圆的一个面上形成离散的金属框架。
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专利时间轴
  • 04 Oct 2022 申请日
    US/PCT/US2022/045669
    优先权
  • 04 Oct 2022 申请日
    WO/2023059634
    当前专利 申请号
  • 13 Apr 2023 公开(公告)日期
    WO2023059634A1
    申请号
专利类型/受理局 APPLICATION( WO)
[标]当前申请(专利权)人 MATERION CORPORATION
当前申请(专利权)人 MATERION CORPORATION

6070 Parkland Boulevard,Mayfield Heights, Ohio 44124 US

[标]原始申请(专利权)人 MATERION CORPORATION
原始申请(专利权)人 MATERION CORPORATION

6070 Parkland Boulevard,Mayfield Heights, Ohio 44124 US

IPC分类号
IPC(8): G01J5/02G01J5/04G01J5/20H01L31/09B81C1/00B81B7/00B23K1/005 +7
技术主题分类
应用领域分类
发明人

KELLER (c/o Optics Balzers AG)

RETO (Neugrüt 35)

KOBA (9496 Balzers LI)

RICHARD (c/o Materion Corporation)

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