CN115933160A 审中 微电子元件及其制备方法、电子设备
本申请提供微电子元件及其制备方法、电子设备,涉及集成电路技术领域。微电子元件包括基底、支撑柱、调节结构和微镜结构;支撑柱的一端设置于基底,另一端连接微镜结构;调节结构包括用于存储电荷且相对设置的第一电极和第二电极,第一电极固定设置于支撑柱,第二电极设置于第一电极沿第一方向远离基底的一侧,且第二电极连接微镜结构的第一端;调节结构被配置为:当第一电极和第二电极所存储的电荷量变化时,第一电极驱动第二电极沿第一方向移动,以使第二电极带动微镜结构转动。本申请能够解决具有微振镜的微电子元件结构复杂,且微振镜偏转角度的调节过程难度大的问题。
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专利时间轴
  • 31 Oct 2022 申请日
    CN/202211349675.8
    优先权
  • 31 Oct 2022 申请日
    CN/115933160
    当前专利 申请号
  • 07 Apr 2023 公开(公告)日期
    CN115933160A
    申请号
专利类型/受理局 APPLICATION( CN)
[标]当前申请(专利权)人 上海集成电路研发中心有限公司,上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司
当前申请(专利权)人 上海集成电路研发中心有限公司,上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司

201210 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路497号,

[标]原始申请(专利权)人 上海集成电路研发中心有限公司,上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司
原始申请(专利权)人 上海集成电路研发中心有限公司,上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司

201210 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路497号,

IPC分类号
IPC(8): G02B26/08B81B7/02B81C1/00 +3
技术主题分类
应用领域分类
发明人

康晓旭

陈寿面

代理机构

北京同立钧成知识产权代理有限公司 (蔡维华,刘芳)

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