中国光刻机研发是否侵犯专利？
随着半导体行业的发展壮大，光刻机作为半导体制造领域中的关键技术之一，备受重视。然而，由于光刻机技术的核心专利往往掌握在少数几家外国企业手中，因此中国光刻机行业一直面临被“专利围堵”的尴尬局面。在这样的背景下，对于中国光刻机研发是否侵犯了外国企业的专利问题，一直备受关注。
首先，必须承认的是，中国光刻机企业过去确实存在侵犯专利行为的情况。比如，以光刻机龙头企业ASML为例，旗下几乎所有的光刻机核心专利都曾遭到中国企业的侵害。而这些中国企业往往会通过技术盗窃、仿制等手段窃取ASML的技术，研发出类似的光刻机，并以低廉的价格和其他手段占据了国内市场份额。
然而，随着国家对知识产权保护的加强，以及中国光刻机行业自身技术水平的提升，中国企业逐步开始采取自主研发光刻机的方式，而不再依赖外国专利。一些光刻机企业也纷纷进行合法授权，获取所需专利，以规避侵权风险。例如，面对ASML近期取消了对SMEE旗下光刻机的技术授权，SMEE转而向ASML申请了技术许可，才得以继续销售光刻机。
此外，不仅仅是在技术研发上，国内光刻机企业也在专利布局方面进行加强。SEMI中国分会最近公布的数据显示，2019年第二季度，中国企业申请的半导体制造设备专利数量达到607项，同比增长56.8%。这些专利涉及到振镜光刻机、EUV光刻机等多个领域，其中不乏高水平专利。
综上所述，当前中国光刻机行业逐步走向自主研发，不再依赖外国专利，也有越来越多的企业通过合法授权等方式规避侵权风险。同时，国内企业在专利布局上也在逐步强化自身核心竞争力。因此，可以说中国光刻机企业在避免侵权的道路上已经取得了比较显著的进展。
中国研发光刻机不侵犯专利吗 ？
最近，中国一些公司宣称研发出了自主知识产权的光刻机，引发了业内人士的热议和关注。然而，我们不难发现，这些光刻机在设计特性、技术参数和操作方式等方面极为相似甚至是一致的，这引起了人们对于中国研发光刻机是否侵犯专利的疑问。
首先，我们需要明确的是，光刻机是半导体行业中最重要的设备之一，具有非常高的技术门槛。已经在这一领域领先多年的国际巨头ASML公司，一直在进行重要专利的投资和研发，他们的专利遍布世界各地，如何避免专利侵权问题已成为行业中一大难题。
根据我国知识产权法的规定，任何未经许可而生产、销售侵犯他人专利权的产品，都会被视作对知识产权的侵犯，必须承担相应的法律责任。因此，在没有得到ASML授权的情况下，研发和生产产品都会面临巨大的风险。
事实上，中国在高端设备领域中还有许多空白和短板，思考如何打破专利壁垒并在技术创新方面追赶国际先进水平，是当前一个非常重要的话题。相信未来，中国企业在知识产权保护的前提下，也会在光刻机领域上有更出色的表现和更具影响力的成果。
