光刻机专利保护多少年？　　光刻机是一种非常重要的半导体制造设备，因其在半导体工业中的应用而被广泛使用。它能够将精密的电路设计图案复制到芯片上，因此它的专利保护也非常重要。 　　根据国际知识产权法律规定