中国光刻机专利: 遥遥领先于国际水平　　光刻机是半导体工业中不可或缺的关键设备，其主要作用是将芯片设计图案转移到硅片上，从而实现制造出可用于电子设备的微小电路。近年来，由于国内相关技术的不断发展和完善